控温装置、测温器和包括该控温装置的等离子体处理设备

    公开(公告)号:CN110620029B

    公开(公告)日:2024-07-19

    申请号:CN201910115417.5

    申请日:2019-02-14

    Abstract: 提供了等离子体处理设备的控温装置、用于等离子体处理设备的测温器以及等离子体处理设备,所述控温装置包括控温器,所述控温器包括:可移动冷却板,被构造成选择性地接触等离子体腔室上的介电窗,冷却板具有用于冷却介电窗的冷却剂可流动穿过其的至少一个冷却槽;至少一个冷却端口,包括连接到所述至少一个冷却槽的冷却通道;以及弹性构件,被构造成朝向冷却板弹性地按压冷却端口,使得冷却板关于介电窗相对可移动。

    控温装置、测温器和包括该控温装置的等离子体处理设备

    公开(公告)号:CN110620029A

    公开(公告)日:2019-12-27

    申请号:CN201910115417.5

    申请日:2019-02-14

    Abstract: 提供了等离子体处理设备的控温装置、用于等离子体处理设备的测温器以及等离子体处理设备,所述控温装置包括控温器,所述控温器包括:可移动冷却板,被构造成选择性地接触等离子体腔室上的介电窗,冷却板具有用于冷却介电窗的冷却剂可流动穿过其的至少一个冷却槽;至少一个冷却端口,包括连接到所述至少一个冷却槽的冷却通道;以及弹性构件,被构造成朝向冷却板弹性地按压冷却端口,使得冷却板关于介电窗相对可移动。

    抬升销对齐方法和对齐设备以及衬底处理设备

    公开(公告)号:CN112289735A

    公开(公告)日:2021-01-29

    申请号:CN202010728435.3

    申请日:2020-07-24

    Abstract: 一种衬底处理设备和抬升销对齐设备,所述衬底处理设备包括:腔室;衬底板,衬底可放置在衬底板上;多个可移动抬升销,其位于衬底板中,以支承衬底;调平传感器,其被配置为可装载于腔室中,位于抬升销上;控制器,其被配置为接收抬升销的平面的横摇φ和纵摇θ的测量值,以根据横摇φ和纵摇θ的测量值计算所述平面的旋转矩阵T,并且使用旋转矩阵T计算抬升销的用于将所述平面调平为与水平参考平面平行的行进距离,并且输出用于对齐抬升销的抬升销控制信号;以及抬升销驱动器,其根据抬升销控制信号移动抬升销。

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