垂直式表面粗糙度测头及表面粗糙度仪

    公开(公告)号:CN212158499U

    公开(公告)日:2020-12-15

    申请号:CN202020564296.0

    申请日:2020-04-16

    Abstract: 本实用新型公开了一种垂直式表面粗糙度测头及表面粗糙度仪,垂直式表面粗糙度测头包括固定架、移动架、位移测量模块、针杆、触针和导向装置,移动架竖向滑动连接于固定架上,移动架上设置针杆,移动架的底板上设有导向装置,导向装置能够用于对针杆进行竖向导向以防止针杆摆动,针杆的底端固定设置有触针,针杆穿过导向装置,触针贯穿移动架的底板,位移测量模块用于测量针杆竖直方向上的移动距离;表面粗糙度仪包括架体、移动装置和上述的垂直式表面粗糙度测头。本实用新型中,触针与针杆在导向装置的作用下,测量过程中始终与工件表面垂直,操作简便、测量精准程度高。

    一种用于长度测量校准的标准器组

    公开(公告)号:CN208432233U

    公开(公告)日:2019-01-25

    申请号:CN201820913070.X

    申请日:2018-06-13

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于长度测量校准的标准器组,其包括底座、支撑棒和标准球,所述底板上设置有若干通孔,所述支撑棒的一端设置在所述通孔中,所述支撑棒的另一端设置有一球窝,所述标准球设置在所述球窝内,所述标准球与所述球窝底面之间设置有粘接剂。本实用新型中采用在棒的顶端加工球窝,并通过粘接剂将标准球进行固定的方式,使得不对标准球进行任何破坏性加工,避免了标准球上破损导致测量结果准确性降低的问题,使得CT测量过程中可以充分利用整个球面,提高了测量结果的准确性。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    精密气浮位移平台
    83.
    实用新型

    公开(公告)号:CN205438489U

    公开(公告)日:2016-08-10

    申请号:CN201520967923.4

    申请日:2015-11-30

    Abstract: 一种精密气浮位移平台,在基座上固定有相互平行的两根纵向导轨,两根横向导轨的两端通过纵向滑块滑动连接在纵向导轨上;矩形移动框架的两端各通过一横向滑块滑动连接在横向导轨上;一侧的两个纵向滑块的外侧通过封板相互连接,在封板的外侧装有摩擦轮横向驱动装置,通过横向推杆与该矩形移动框架对应的边连接;在该基座的上面装有摩擦轮纵向驱动装置,通过纵向推杆与一根横向导轨的外侧中部连接;在横向滑块的下面与基座之间设有卸载气浮装置。本平台的优点是:运动机构采用井字形高精度气浮导轨实现XY轴精密导向,在平台负载主体与大理石之间设置卸载气浮装置,减小导轨负载,增大平台的承载能力;同时加入摩擦轮驱动机构,提高驱动平稳性。

    一种椭偏测量初始入射角校准装置

    公开(公告)号:CN215177566U

    公开(公告)日:2021-12-14

    申请号:CN202121597359.3

    申请日:2021-07-14

    Abstract: 本实用新型公开了一种椭偏测量初始入射角校准装置,包括平移装置、第一俯仰调节装置、第二俯仰调节装置和中间调节装置。平移装置包括平移平台、CCD相机和远心镜头,远心镜头可拆卸式安装于CCD相机上,CCD相机在平移平台上平移;第一俯仰调节装置包括第一俯仰偏摆调节平台和安装于第一俯仰偏摆调节平台上的自准直仪;第二俯仰调节装置包括第二俯仰偏摆调节平台和安装于第二俯仰偏摆调节平台上的稳频激光器;中间调节装置包括位置调节平台和安装于位置调节平台上的五棱镜。相比于现有技术,本实用新型能够实现自准直仪光轴与CCD相机运动轴成90°,稳频激光器光轴与CCD相机运动轴成180°,从而完成椭偏测量初始90°入射角的校准。

    一种落射式紫外光学显微镜光源多维调节机构

    公开(公告)号:CN212207832U

    公开(公告)日:2020-12-22

    申请号:CN202020635834.0

    申请日:2020-04-24

    Abstract: 本实用新型公开一种落射式紫外光学显微镜光源多维调节机构,主要包括用于转换光路的落射照明盒、支撑零部件用的笼杆、安装各种透镜的笼板、光圈可调的可变光阑以及安装并调节紫外光源用的光学调整架。通过调节安装透镜的笼板和安装紫外光源的光学调整架在笼杆上的位置,能够实现成像要求的紫外光源的消色差、扩束和准直,通过移动可变光阑上的拨杆,能够调节紫外光源入射到落射照明盒的光束范围,通过调节安装紫外光源的光学调整架上面的旋转调节螺钉,能够实现紫外光源在俯仰、偏摆方向的微调,紫外光学显微镜在三种紫外光源调节方式下,互相配合,共同作用,从而达到高分辨率成像的显微镜光源需求。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    用于针尖型扫描显微测量装置的特种探针的制作装置

    公开(公告)号:CN206876728U

    公开(公告)日:2018-01-12

    申请号:CN201720540407.2

    申请日:2017-05-16

    Abstract: 一种用于针尖型扫描显微测量装置的特种探针的制作装置,包括底座、支撑立柱、钨丝定位装置、安装基板和电解槽定位装置,在底座上垂直固定有两个相互平行的支撑立柱和电解槽定位装置,两个支撑立柱的上部固定有安装基板,在安装基板上装有金属丝定位装置;还配备有电解电源和控制装置。本实用新型实现了精确地控制用于制备探针的金属丝的位移;对电化学反应状态和终点进行准确的探测与控制。具有低成本、高精度地批量制作各类具有特殊形貌轮廓的优点。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    柔性铰链导向的二维纳米位移台

    公开(公告)号:CN205211424U

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:CN201520719876.1

    申请日:2015-09-17

    Abstract: 一种柔性铰链导向的二维纳米位移台,包括外层固定框架、中层嵌套移动框架、内层嵌套移动框架、移动平台和柔性铰链,其特征在于,在所述的外层固定框架与中层嵌套移动框架的至少一个横向边的中部之间装有一个X轴预紧装置,在所述的中层嵌套移动框架与内层嵌套移动框架的至少一个纵向边之间装有两个Y轴预紧装置;所述的轴压电陶瓷驱动器和轴压电陶瓷驱动器分别安装在一固定套筒内,分别组成X轴PZT套筒装置和Y轴PZT套筒装置。本实用新型具有压电陶瓷驱动器和预紧结构双重调节机制来调节位移台的行程以及耦合位移的优点。

    一种计量型微纳台阶高度测量装置

    公开(公告)号:CN204346373U

    公开(公告)日:2015-05-20

    申请号:CN201520016874.6

    申请日:2015-01-09

    Abstract: 本实用新型公开了一种计量型微纳台阶高度测量装置,包括支撑系统以及安装在支撑系统上的白光显微测头、位移扫描系统和计量系统。本实用新型的有益效果为:该计量型微纳台阶高度测量装置主要用来测量微纳台阶的高度或沟槽的深度。系统采用粗细两级位移扫描系统,压电陶瓷驱动的纳米位移台可在微米级扫描范围内实现亚纳米级步进;压电陶瓷驱动的升降台可在毫米级扫描范围内实现亚微米级步进;Z向测量范围最大可达200微米。显微干涉测头采用白光光源(即采用白光显微测头),基于白光干涉原理,可实现0.1nm的Z向分辨率,同时可直接获得被测表面的三维形貌。采用激光干涉仪组成计量系统,将位移直接溯源到国际单位制中米定义的波长基准。

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