DCR气体用吸光分析装置、方法及存储分析程序的存储介质

    公开(公告)号:CN115128000A

    公开(公告)日:2022-09-30

    申请号:CN202210271897.6

    申请日:2022-03-18

    Abstract: 本发明提供一种即使是由吸收光谱重叠的DCR气体与CO气体构成的混合气体,也能够仅分离DCR气体的吸光度而计算出其浓度的DCR气体用吸光分析装置,DCR气体用吸光分析装置具备:DCR用滤光器(31),其使包含DCR气体的吸收峰的第一波数范围的光透过;CO用滤光器(32),其使处于CO气体的吸收波数范围且与所述第一波数范围不同的第二波数范围的光透过;以及DCR气体量计算器(4),其基于利用透过了所述DCR用滤光器(31)的光而测定的第一吸光度(A1)、以及利用透过了所述CO用滤光器(32)的光而测定的第二吸光度(AC2),计算出所述DCR气体的量。

    流体特性测量系统、程序存储介质和流体特性测量方法

    公开(公告)号:CN108227765B

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN201711341107.2

    申请日:2017-12-14

    Inventor: 矶部泰弘

    Abstract: 本发明提供流体特性测量系统、存储有流体特性测量系统用程序的程序存储介质和流体特性测量方法,其能够容易地求出作为流体的特性的压缩系数,大幅度提高了基于ROR系统等的流量测量精度。流体特性测量系统包括:具有固定容量的容器(1);流量控制器(2),连接成能够以固定流量向该容器(1)导入流体;以及信息处理装置(5),在所述容器(1)内的压力不同的两种状况下,基于由所述流量控制器(2)以相互相同的流量向该容器(1)导入流体时的该容器(1)内压力的各时间变化,计算与该流体的压力对应的压缩系数。

    流量控制装置和存储有流量控制装置用程序的存储介质

    公开(公告)号:CN107450612B

    公开(公告)日:2022-06-07

    申请号:CN201710395239.7

    申请日:2017-05-26

    Abstract: 本发明提供流量控制装置和存储有流量控制装置用程序的存储介质。该流量控制装置具有良好的响应性,并且根据情况,操作者能够容易调整成与现有的流量控制装置等效的响应性。流量控制装置(100)对流体控制阀(3)进行反馈控制,使测量流量接近目标流量,该流量控制装置(100)具有:响应延迟输入部(43),用于输入响应延迟设定值,所述响应延迟设定值是表示想要设定的响应延迟的值;以及响应延迟生成部(46),根据所述响应延迟设定值生成所述反馈控制的响应延迟。

    流体控制装置、流体控制装置的控制方法和程序存储介质

    公开(公告)号:CN114542780A

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN202111364323.5

    申请日:2021-11-16

    Inventor: 赤土和也

    Abstract: 本发明提供流体控制装置、流体控制装置的控制方法和程序存储介质,能够将在从完全关闭状态以使测定量成为设定量的方式控制控制阀时施加的初期施加电压尽可能设定为接近打开起始电压的值,能够提高响应速度的同时能够防止大幅逸出等的产生。所述流体控制装置的阀控制器(2)具备:初期驱动电压设定部(22),在使控制阀(V)从完全关闭状态向规定开度变化的情况下,向电压生成电路输入用于设定对所述控制阀(V)施加的初期驱动电压的电压指令;以及驱动历史记录存储部(21),用于存储所述控制阀的驱动历史记录信息,所述初期驱动电压设定部(22)根据所述驱动历史记录信息改变所述初期驱动电压的值。

    流道形成结构、流量测定装置和流量控制装置

    公开(公告)号:CN108107921B

    公开(公告)日:2022-03-29

    申请号:CN201711181481.0

    申请日:2017-11-23

    Abstract: 本发明提供一种流道形成结构,抑制向流道插入轴体时产生的轴体相对于流道的中心轴的轴偏摆。所述流道形成结构包括:通过流体的流道(10)、以及插入所述流道(10)的轴体(40),其中,所述轴体(40)的上游侧与所述流道(10)的内周面在相位不同的多个位置接触,所述轴体(40)的下游侧与所述流道(10)的内周面在相位不同的多个位置接触,在所述轴体(40)和所述流道(10)的内周面之间的间隙中流过所述流体,所述上游侧或所述下游侧中的一侧的接触位置的任意一方,与另一侧的全部接触位置相位不同。

    氢精制设备和使用氢精制设备的氢精制系统

    公开(公告)号:CN107324282B

    公开(公告)日:2022-03-15

    申请号:CN201710213630.0

    申请日:2017-04-01

    Inventor: 芳村智孝

    Abstract: 本发明提供氢精制设备和氢精制系统,氢精制设备(1)制造简单且氢透过膜的耐压性高,其具有选择性地透过氢的氢透过膜(11),被供给原料气体且透过所述氢透过膜(11)的精制气体向外部流出,所述氢精制设备(1)具有:两个多孔支承件(12),其从两面夹持并支承所述氢透过膜(11);以及壳体(13),其在形成于内部的空间中使原料气体与所述氢透过膜(11)反应,所述多孔支承件(12)收容在所述壳体(13)内部,与所述多孔支承件(12)的外缘(E1)相比,所述氢透过膜(11)的外缘(E2)位于外侧,与所述多孔支承件(12)的外缘(E1)相比位于外侧的所述氢透过膜(11)的周边部(111)与所述壳体(13)以气密方式接合。

    诊断系统、诊断方法和存储介质

    公开(公告)号:CN108572023B

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN201810204147.0

    申请日:2018-03-13

    Abstract: 本发明提供诊断系统、诊断方法、存储介质和流量控制装置,尽管测定周边条件变动,也能够更准确地诊断流量传感器的功能。诊断系统包括:流量传感器,测定流体的流量;修正部,测定所述流量传感器的输出值或与所述流量传感器的输出值相关的值(以下将它们统称为“输出关联值”),并使测定的输出关联值与测定周边条件相关联,根据所述输出关联值的测定周边条件,对所述输出关联值或者为了判断所述输出关联值是否正常而预先设定的基准值进行修正;诊断部,根据所述修正部的修正结果对所述输出关联值和所述基准值进行比较,来诊断所述流量传感器的功能。

    压力传感器
    79.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108692854B

    公开(公告)日:2021-06-25

    申请号:CN201810213732.7

    申请日:2018-03-15

    Abstract: 本发明提供压力传感器,能够抑制设在流体管道上的流体导入管的急剧温度变化所导致的隔膜的弯曲。所述压力传感器包括:隔膜,具有承受被测量流体的压力的受压面;电极体,具有以形成间隙的方式与所述受压面的背面相对的电极面;壳体,以包围所述受压面并形成测量室的方式支承所述隔膜;入口管,与所述壳体连接,将所述被测量流体导向所述测量室;以及热缓冲构件,设置在所述入口管上,具有规定的热容。

    液体材料气化装置
    80.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106906452B

    公开(公告)日:2020-12-04

    申请号:CN201611127279.5

    申请日:2016-12-09

    Abstract: 本发明提供液体材料气化装置,通过消除气液混合部和气化部之间产生的积液,稳定地进行朝向气化部的液体输送和气化部中的气化。所述液体材料气化装置包括:将液体材料和气体混合而生成气液混合体的气液混合部(2);以及加热气液混合体而使液体材料气化的气化部(3),气液混合部(2)具有将气液混合体导出的气液混合体导出管(6),气化部(3)具有加热气液混合体的加热流道(HS),气液混合体导出管(6)的导出口(6P)配置在加热流道(HS)内。

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