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公开(公告)号：CN212989263U
公开(公告)日：2021-04-16
申请号：CN202021342130.0
申请日：2020-07-09
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G01N30/06
Abstract: 本实用新型提供容易更换催化剂的气相色谱仪用的中间处理装置及气相色谱仪。气相色谱仪(100)用的中间处理装置(3)具备第1气体配管(L1)～第7气体配管(L7)、填充部件(31a、33a)和接头(35)。填充部件具有气体的通过口(31b、33b、31c、33c)且填充金属催化剂。接头(35)将通过口与第1气体配管～第7气体配管连接。接头(35)具有第1按压部(35a)，设置于通过口(31b、33b、31c、33c)；第2按压部(35b)，设置于第1气体配管～第7气体配管中的与通过口的连接部分；以及密封部件(35c)，为板状的部件，通过被第1按压部和第2按压部按压，从而将第1与第2按压部之间密封。
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公开(公告)号：CN212989262U
公开(公告)日：2021-04-16
申请号：CN202021341863.2
申请日：2020-07-09
Applicant: 株式会社堀场STEC
Inventor： 佐佐木智启
IPC: G01N30/06
Abstract: 本实用新型提供一种能够抑制催化能力降低的气相色谱仪用的中间处理装置及气相色谱仪。气相色谱仪(100)用的中间处理装置(3)具备第1气体配管(L1)～第7气体配管(L7)和填充部件(31a、33a)。气体配管供试样气体所含的测定对象成分流通。填充部件(31a)与第1气体配管(L1)、第4气体配管(L4)连接，填充有催化剂载体，催化剂载体担载了促进将测定对象成分氧化的氧化催化剂(31)。氧化催化剂(31)担载于催化剂载体所具有的多孔结构的至少内部和外部中的一方。
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公开(公告)号：CN120022617A
公开(公告)日：2025-05-23
申请号：CN202411632038.0
申请日：2024-11-15
Applicant: 株式会社堀场STEC
Abstract: 本发明提供一种液体材料气化装置及其动作设定方法。在气体生成模式下进行动作，使得液体材料通过被设定为规定的第1开度的第1开闭阀(V1)从供给流道(R1)供给到容器(1)，在净化模式下进行动作，使得净化气体从供给流道(R1)通过被设定为比第1开度大的第2开度的第1开闭阀(V1)导入容器(1)。
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公开(公告)号：CN119309635A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202410926702.6
申请日：2024-07-11
Applicant: 株式会社堀场STEC
Inventor： 堀之内修
IPC: G01F1/34
Abstract: 本发明提供流量计算装置和流量计算方法。流量计算装置包括：特定流道和旁通流道，设置成从主流道分路，分流流体；第一流阻元件，设置于特定流道；第二流阻元件，设置于旁通流道；容器，在特定流道中配置于第一流阻元件的下游侧；压力传感器，检测容器内的压力；以及流量计算部。流量计算部基于容器内的所述压力的变化计算分流到特定流道的第一分路流体的流量，并基于第一分路流体的计算流量、以及根据第一流阻元件和第二流阻元件而决定的分流比，计算在主流道中流动的流体的流量。
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公开(公告)号：CN118564832A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202410213862.6
申请日：2024-02-27
Applicant: 株式会社堀场STEC
Inventor： 瀧尻兴太郎
Abstract: 本发明提供浓度控制装置、原料气化系统、浓度控制方法和存储有浓度控制程序的存储介质。本发明能够进行快速且抑制了超调的浓度控制，是用于原料气化系统(100)的浓度控制装置(10)，所述原料气化系统(100)向收容于气化容器(2)内的液体或固体的原料导入载气进行气化，并供给由此产生的原料气体，其包括：流量控制设备(5)，控制载气的流量；浓度测定部(6)，测定原料气体的浓度；以及流量控制部(11)，基于原料气体的目标浓度值和浓度测定部(6)的测定浓度值，由模型预测控制来控制向流量控制设备(5)输入的流量操作量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118369515A
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202280080927.3
申请日：2022-12-08
Applicant: 株式会社堀场STEC
Inventor： 安德鲁·韦恩·普莱斯 , 艾拉·本杰明·哈特曼 , 埃斯特班·丹尼尔·冈萨雷斯 , 威廉·怀利·怀特 , 弗吉尼亚·安·米勒
IPC: F15D1/02
Abstract: 提供了一种流动限制器，其包括具有流动通道的第一片材和堆叠在第一片材上的第二片材。在第二片材中设置有孔。流动通道包括第一片材的表面中的凹槽，该凹槽与第一片材的周边区域处的扩展区连通。第二片材的周边边缘在扩展区中与第一片材接触。
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公开(公告)号：CN109917825B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN201811517831.0
申请日：2018-12-12
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G05D7/06
Abstract: 本发明提供流体装置，不必对已构筑的系统实施软件变更，就可以接收现有的动作指令信号以外的动作指令信号。在测量或控制流体的物理量的所述流体装置中，具备：指令信号接收部，接收预定的多种动作指令信号；以及指令信号识别部，当所述指令信号接收部接收的作为规定的动作指令信号的值或值的时序列变化的指令信号方式在预定的规定范围外时，将所述规定的动作指令信号识别为其他种类的动作指令信号。
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公开(公告)号：CN117747492A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202311223043.1
申请日：2023-09-21
Applicant: 株式会社堀场STEC
Abstract: 本发明提供一种气体分析装置、流体控制系统、存储有气体分析用程序的存储介质、气体分析方法。气体分析装置具备：第一浓度计算部，计算工艺气的浓度；第二浓度计算部，计算至少在与生成工艺气的主反应不同的反应即副反应中生成的副产气体的浓度；比较部，将由第一浓度计算部计算出的工艺气的浓度即第一实际浓度与主反应理想地进行的情况下的工艺气的浓度即第一理想浓度进行比较，并且将由第二浓度计算部计算出的副产气体的浓度即第二实际浓度与主反应理想地进行的情况下的工艺气的浓度即第二理想浓度进行比较；以及输出部，基于比较部的比较结果，判断并输出对构成流体控制系统的设备设定的参数中的、应该变更设定值的参数即变更对象参数。
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公开(公告)号：CN117504775A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202310905489.6
申请日：2023-07-21
Applicant: 株式会社堀场STEC
Abstract: 本发明提供一种用于进行阴离子聚合的聚合装置，其包括：原料容器，收容原料；反应容器，借助原料供给配管连接于所述原料容器，使被供给的所述原料进行阴离子聚合；以及开闭阀，设置于所述原料供给配管，开闭所述原料供给配管，使用金属衬垫对所述原料供给配管的接头部分进行密封，所述开闭阀是气体阀。
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公开(公告)号：CN116569022A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202180080365.8
申请日：2021-11-22
Applicant: 株式会社堀场STEC , 株式会社堀场制作所
IPC: G01N21/3504
Abstract: 本发明能够高精度地测定半导体制造工艺所用的材料气体或因半导体制造工艺所产生的副生成气体所含的卤化物的浓度或分压，气体分析装置对半导体制造工艺所用的材料气体或因半导体制造工艺而产生的副生成气体所含的卤化物的浓度或分压进行分析，并具备：气体池，其导入有材料气体或副生成气体；激光光源，其向气体池照射经波长调制的激光；光检测器，其检测透过气体池的激光；以及信号处理部，其使用由光检测器的输出信号所得的光吸收信号来计算出卤化物的浓度或分压，气体池减压至比大气压小的预定的压力，激光光源在包含卤化物的光吸收信号的特征部在内的波长调制范围对所述激光进行波长调制。
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