-
公开(公告)号：CN111971636A
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN201980025591.9
申请日：2019-04-01
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G05D7/06
Abstract: 本发明涉及流量控制装置、诊断方法和流量控制装置用程序。为了能够一边持续供给预定的流量一边诊断是否发生了异常等，流量控制装置包括：流出流入流量算出部，基于作为容积部内的压力的下游侧压力，算出流体相对于该容积部内的流出流入流量；阀流量推定部，基于所述阻力流量和所述流出流入流量，推定阀流量，所述阀流量为从所述容积部经由所述下游侧阀流出的流体的流量；流量控制部，控制所述下游侧阀，以使设定流量与所述阀流量的偏差变小；诊断参数算出部，基于作为所述流体阻力件的上游侧的压力的上游侧压力上升或下降的压力变化状态下的所述阻力流量或所述流出流入流量，算出诊断参数；以及诊断部，基于所述诊断参数来诊断异常。
-
公开(公告)号：CN117795448A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202280053184.0
申请日：2022-07-14
Applicant: 株式会社堀场STEC
Abstract: 本发明在流体控制装置的阀控制中降低喷嘴的影响并且提高响应性能，是对流体控制装置(100)的阀(3)进行控制的阀控制方法，其中，对所输入的流量设定值(Qset)乘以目标响应传递函数(F)而生成目标响应函数(Y(Qset))，针对目标响应函数(Y(Qset))，对阀(2)的驱动电压与流量的非线性进行修正而生成目标电压函数(Y(Vset))，根据目标电压函数(Y(Vset))对阀(3)的延迟特性进行修正而生成前馈电压信号(VFF)，根据目标响应函数(Y(Qset))与流量传感器(2)的流量测定值(Qmeas)的偏差，利用反馈控制器(4d1)生成反馈电压信号(VFB)，使用前馈电压信号(VFF)与反馈电压信号(VFB)生成修正后指令电压信号(VCMD)，并根据该修正后指令电压信号(VCMD)对阀(3)进行控制。
-
公开(公告)号：CN111971636B
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN201980025591.9
申请日：2019-04-01
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G05D7/06
Abstract: 本发明涉及流量控制装置、诊断方法和存储介质。为了能够一边持续供给预定的流量一边诊断是否发生了异常等，流量控制装置包括：流出流入流量算出部，基于作为容积部内的压力的下游侧压力，算出流体相对于该容积部内的流出流入流量；阀流量推定部，基于所述阻力流量和所述流出流入流量，推定阀流量，所述阀流量为从所述容积部经由所述下游侧阀流出的流体的流量；流量控制部，控制所述下游侧阀，以使设定流量与所述阀流量的偏差变小；诊断参数算出部，基于作为所述流体阻力件的上游侧的压力的上游侧压力上升或下降的压力变化状态下的所述阻力流量或所述流出流入流量，算出诊断参数；以及诊断部，基于所述诊断参数来诊断异常。
-
公开(公告)号：CN107450612B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN201710395239.7
申请日：2017-05-26
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G05D7/06
Abstract: 本发明提供流量控制装置和存储有流量控制装置用程序的存储介质。该流量控制装置具有良好的响应性，并且根据情况，操作者能够容易调整成与现有的流量控制装置等效的响应性。流量控制装置(100)对流体控制阀(3)进行反馈控制，使测量流量接近目标流量，该流量控制装置(100)具有：响应延迟输入部(43)，用于输入响应延迟设定值，所述响应延迟设定值是表示想要设定的响应延迟的值；以及响应延迟生成部(46)，根据所述响应延迟设定值生成所述反馈控制的响应延迟。
-
公开(公告)号：CN105320159B
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201510314410.8
申请日：2015-06-10
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G05D7/06
Abstract: 本发明提供一种流体控制测量系统的供电装置。为了防止管理多个流量控制装置(101)的供电装置(102)的电源装置大型化，在控制流体流量的多个流量控制装置(101)上分别连接电缆，通过该电缆(8)管理各流量控制装置(101)的动作并向各流量控制装置(101)供电，其中，供电装置具有供电控制部(10)，该供电控制部(10)使针对至少一部分流量控制装置(101)的供电开始时机偏移。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118564832A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202410213862.6
申请日：2024-02-27
Applicant: 株式会社堀场STEC
Inventor： 瀧尻兴太郎
Abstract: 本发明提供浓度控制装置、原料气化系统、浓度控制方法和存储有浓度控制程序的存储介质。本发明能够进行快速且抑制了超调的浓度控制，是用于原料气化系统(100)的浓度控制装置(10)，所述原料气化系统(100)向收容于气化容器(2)内的液体或固体的原料导入载气进行气化，并供给由此产生的原料气体，其包括：流量控制设备(5)，控制载气的流量；浓度测定部(6)，测定原料气体的浓度；以及流量控制部(11)，基于原料气体的目标浓度值和浓度测定部(6)的测定浓度值，由模型预测控制来控制向流量控制设备(5)输入的流量操作量。
-
公开(公告)号：CN114545983A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202111319208.6
申请日：2021-11-09
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G05D7/06
Abstract: 本发明提供流量控制装置、流量控制方法和程序存储介质，能以基本不发生时间延迟且以噪声大幅降低的形式得到流过下游侧阀的流体的流量，而且比以往提高响应性。所述流量控制装置包括：下游侧阀流量测定器(VFS)，测定作为流过下游侧阀(V2)的流体的流量的下游侧阀流量；以及观测器(3)，包括根据改变所述下游侧阀(V2)的开度的输入参数来推定所述下游侧阀流量的下游侧阀流量推定模型(31)，所述下游侧阀流量测定器(VFS)输出的所述下游侧阀流量的测定值与所述下游侧阀流量推定模型输出的所述下游侧阀流量的推定值的偏差被反馈到所述观测器(3)。
-
公开(公告)号：CN105320160B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201510336629.8
申请日：2015-06-17
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G05D7/06
Abstract: 本发明提供中继器以及流体控制和测量系统。为了能使流体设备小型化并能诊断流体设备的动作状态，中继器具备：第一端口，与流体设备连接；以及第二端口，与用户用信息处理装置连接，通过第一端口从流体设备接收流体关联数据并通过第二端口向用户用信息处理装置发送，或通过第二端口从用户用信息处理装置接收流体关联数据并通过第一端口向流体设备发送，中继器还具备与诊断流体设备的动作状态的诊断用装置连接的第三端口，通过第一端口从流体设备接收诊断动作状态的诊断用数据并通过第三端口向诊断用装置发送。
-
公开(公告)号：CN103529869B
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201310275956.8
申请日：2013-07-02
Applicant: 株式会社堀场STEC
Inventor： 瀧尻兴太郎
CPC classification number: G05D7/0617 , G05D7/0635 , G05D16/20 , G05D16/2013 , Y10T137/7758 , Y10T137/7759
Abstract: 本发明提供压力控制装置、流量控制装置、压力控制方法及流量控制方法，即使在PID系数等增益设定得大的情况下也能防止阻尼振荡和上冲而不改变所述增益，即使在使设定了大的设定压力值时也能在短时间内变化到稳定状态，不论设定压力值为多少都能使从初始状态到达到稳定状态所需的时间一致。阀控制部（3）包括：开度操作量输出部（31），根据测量压力值和设定压力值输出所述压力控制阀的开度操作量；以及限制部（32），根据设定压力值设定开度操作量的上限值，当从所述开度操作量输出部（31）输出的开度操作量超过上限值时，以上限值的开度操作量控制压力控制阀（2）。
-
公开(公告)号：CN105320161A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510463267.9
申请日：2015-07-31
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G05D7/06
Abstract: 本发明提供流量控制装置和流量控制方法，所述流量控制装置不设置用于检测压力变化的附加传感器，即使在阀的上游产生压力变化，也能够使其影响不表现在所述阀的下游，从而使流量持续稳定为设定流量值，所述流量控制装置包括：阀(3)；流量传感器(2)；阀控制部(41)，根据设定流量值与由所述流量传感器(2)测量出的测量流量值之间的偏差和设定的控制系数，以使所述偏差变小的方式控制所述阀；以及控制系数设定部(44)，设定所述阀控制部的所述控制系数，在所述阀(3)的上游产生扰动压力上升时，使与阀的开度的减少量相当的扰动流量减少量和与所述阀前后的压差的增加量相当的扰动流量增加量均衡。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
22
records
(took 0.019 seconds)
