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公开(公告)号：CN113646865B
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202080025519.9
申请日：2020-03-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了一种支持多种操作模式的多束检查设备。支持多种操作模式的用于检查样品的带电粒子束设备包括被配置为沿着主光轴发射带电粒子束的带电粒子束源、在第一位置与第二位置之间能够移动的可移动孔板、以及控制器，控制器具有电路系统并且被配置为改变该设备的配置以在第一模式与第二模式之间进行切换。在第一模式下，可移动孔板位于第一位置并且被配置为允许源自带电粒子束的第一带电粒子束波穿过。在第二模式下，可移动孔板位于第二位置并且被配置为允许第一带电粒子束波和第二带电粒子束波穿过。
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公开(公告)号：CN112889127B
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN201980068721.7
申请日：2019-09-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/28 , H01J37/317
Abstract: 公开了一种改进的带电粒子束检查装置，并且更具体地，公开了一种包括改进的对准机制的粒子束检查装置。一种改进的带电粒子束检查装置可以包括第二电子检测器件，该第二电子检测器件用以在该对准模式期间生成多个次级电子束中的一个或多个束斑点的一个或多个图像。该束斑点图像可以被用来确定该多个次级电子束中的一个或多个次级电子束的对准特性，并且调节次级电子投影系统的配置。
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公开(公告)号：CN119054039A
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN202380033929.1
申请日：2023-03-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/153 , H01J37/28
Abstract: 公开了一种使用带电粒子束装置对样品进行成像的系统和方法。装置可以包括带电粒子源，被配置成发射带电粒子；孔径板，被配置成沿初级光轴从所发射的带电粒子形成初级带电粒子束；多个初级带电粒子束偏转器，被配置成使要被入射在样品表面上的初级带电粒子束偏转，以限定视场(FOV)的中心；以及控制器，包括电路装置，该电路装置被配置成将第一激发信号施加到多个初级带电粒子束偏转器中的初级带电粒子束偏转器以使初级带电粒子束扫描样品的FOV的一部分，以及施加第二激发信号以使初级带电粒子束偏转器补偿FOV的一部分中的初级带电粒子束的离轴像差。
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公开(公告)号：CN118251748A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202280073232.2
申请日：2022-10-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了使用具有增强的束波探测电流的多带电粒子束装置来检查样品的系统和方法。该装置可以包括带电粒子源、被配置为聚焦多个带电粒子束以在交叉点处形成束交叉的第一会聚透镜和被配置为准直所聚焦的多个带电粒子束的第二会聚透镜，其中交叉点沿着主光轴形成在第一会聚透镜与第二会聚镜之间，并且其中交叉点的位置的调节导致多个带电微粒束的束尺寸的调节。交叉点的位置可以通过改变一个或多个会聚透镜的激励或者通过电移动一个或多个会聚透镜的主平面位置来调节。
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公开(公告)号：CN118103942A
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202280068587.2
申请日：2022-09-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/244
Abstract: 一些实施例涉及用于形成掩埋结构的图像的方法或装置，其包括：从源发射初级带电粒子；接收来自样品的多个次级带电粒子；以及基于所接收的具有第一范围内的能量的次级带电粒子来形成图像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111819654B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN201980017872.X
申请日：2019-02-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/28 , H01J37/147 , H01J37/29
Abstract: 本公开提出了一种用于将多个电子束引导到电子检测装置上的光电系统的交叉形成偏转器阵列。交叉形成偏转器阵列包括位于光电系统的一个或多个光电透镜的集合的图像平面处或至少附近的多个交叉形成偏转器，其中每个交叉形成偏转器与多个电子束中的对应的电子束对准。
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公开(公告)号：CN116313708A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310393035.5
申请日：2017-12-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/141 , H01J37/28 , G01N23/2251
Abstract: 本公开提出一种防旋转透镜，并将其用作具有预子射束形成机构的多射束装置中的防旋转聚光透镜。防旋转聚光透镜在改变其电流时保持子射束的旋转角度不变，从而使得预子射束形成机构能够尽可能多地阻断未使用的电子。以这种方式，多射束装置可以以高分辨率和高吞吐量观察样本，并且能够用作检查和/或查看半导体制造工业中的晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具。
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公开(公告)号：CN115881498A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211651256.X
申请日：2018-07-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/05 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/147 , H01J37/244 , H01J37/28
Abstract: 提供了用于补偿单束或多束设备中的分束器的色散的系统和方法。本公开的实施例提供了分散装置，分散装置包括被配置为诱导束色散的静电偏转器和磁性偏转器，束色散被设置以消除由分束器生成的色散。静电偏转器和磁性偏转器的组合可以用于在所诱导的束色散被改变以补偿由分束器生成的色散变化时，将由于分散装置引起的偏转角保持不变。在一些实施例中，由于分散装置而引起的偏转角可以被控制为零，并且没有由于分散装置而引起的初级束轴变化。
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公开(公告)号：CN111213219B
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN201880060710.X
申请日：2018-09-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·G·M·J·玛森 , P·P·亨佩尼尤斯 , 任伟明 , 陈仲玮
Abstract: 一种带电粒子束装置包括子束形成单元，该子束形成单元被配置为在样品(440)上形成子束阵列(410)并且对其进行扫描。子束阵列的第一部分被聚焦到焦平面(430)上，并且子束阵列的第二部分具有至少一个子束，该至少一个子束相对于焦平面具有离焦水平(490)。该带电粒子束装置还包括检测器，其被配置为检测由子束阵列形成的样品的图像；以及处理器，其被配置为基于检测的图像来估计焦平面与样品之间的分隔水平，并且然后基于估计水平来减小分隔水平。
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公开(公告)号：CN115151997A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202080084220.0
申请日：2020-09-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了在带电粒子束设备的多种操作模式中提供探测斑的系统和方法。该方法可以包括：激活带电粒子源以生成初级带电粒子束，并且在带电粒子束设备的第一操作模式和第二操作模式之间进行选择。在泛射模式中，聚束透镜可以使通过孔径板中的孔径的初级带电粒子束的至少第一部分聚焦，以形成初级带电粒子束的第二部分，并且第二部分中的基本上所有带电粒子被用来泛射样品的表面。在检查模式中，聚束透镜可以使初级带电粒子束的第一部分聚焦，使得孔径板中的孔径阻挡外围带电粒子束，以形成用于检查样品表面的初级带电粒子束的第二部分。
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