半导体封装构件
    51.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103367366A

    公开(公告)日:2013-10-23

    申请号:CN201210101440.7

    申请日:2012-03-31

    Abstract: 本发明公开了一种半导体封装构件,包含有基板,其上设有至少一引线手指;第一半导体芯片,其有源面面向所述基板,设于所述基板上;至少一第一接合垫设于所述第一半导体芯片的有源面;第一导线,将所述第一接合垫电连接至所述基板;第二半导体芯片,其有源面背对所述基板,堆叠于所述第一半导体芯片的背面上;至少一第二接合垫,设于所述第二半导体芯片的有源面;第二导线,将所述第二接合垫电连接至所述基板;第三半导体芯片,其有源面背对所述基板,堆叠于所述第二半导体芯片上;以及第四半导体芯片,其有源面背对所述基板,堆叠于所述第三半导体芯片上。

    半导体装置的制作方法
    55.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103367146A

    公开(公告)日:2013-10-23

    申请号:CN201210084597.3

    申请日:2012-03-27

    Abstract: 本发明公开了一种半导体装置的制作方法,其步骤包括:提供一半导体基底,且半导体基底包括有一第一有源区以及一第二有源区。接着,依次于半导体基底上形成一含掺杂剂的第一导电层以及一未含掺杂剂的第二导电层。然后,对第一有源区的第二导电层进行一第一离子注入工艺,其中第一离子注入工艺所使用的掺杂剂与第一导电层的掺杂剂不同。

    形成齿状电容器的方法
    56.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103367106A

    公开(公告)日:2013-10-23

    申请号:CN201210092795.4

    申请日:2012-03-31

    Abstract: 本发明公开了一种形成齿状电容器的方法,其步骤包含提供一基材、在所述基材上交替地形成层叠的低掺杂浓度掺杂硅玻璃层与高掺杂浓度掺杂硅玻璃层、形成多个通孔贯穿所有所述交替层叠的掺杂硅玻璃层、以及进行一湿刻蚀工艺以从所述通孔的侧壁刻蚀所述掺杂硅玻璃层,使得所述高掺杂浓度掺杂硅玻璃层受到比所述低掺杂浓度掺杂硅玻璃层较多的横向刻蚀,进而在所述通孔中形成齿状结构。

    散热结构制作方法
    57.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103325689A

    公开(公告)日:2013-09-25

    申请号:CN201210074799.X

    申请日:2012-03-20

    Abstract: 本发明公开了一种散热结构的制作方法。首先提供一散热基板,接着于该散热基板的一面形成钻石颗粒或薄膜;于该钻石颗粒或薄膜上涂布一乳胶聚合物层,构成一散热器件,最后将该散热器件与一发热器件结合在一起。由于钻石本身的分子结构为碳-碳链,与乳胶聚合物等有机高分子结构具有良好的化学亲合性及结合性,故在涂布后亦结合成为一体,并在室温下为一固体膜,不会产生空气间隙或贴合不致密等问题。

    散热结构
    58.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103311195A

    公开(公告)日:2013-09-18

    申请号:CN201210068957.0

    申请日:2012-03-15

    Abstract: 本发明公开了一种散热结构,包含一发热器件;一散热鳍片,设置于该发热器件上;以及一热接口材料层,设置于该发热器件与该散热鳍片之间,其特征在于:该热界面材料层系将奈米碳管或奈米碳球分散于乳胶聚合物基体。

    半导体盲孔的检测方法
    59.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103456657B

    公开(公告)日:2016-07-27

    申请号:CN201210174269.2

    申请日:2012-05-30

    Abstract: 本发明公开了一种半导体盲孔的检测方法,包括提供一包括导电区的半导体衬底;形成多个暴露出导电区的盲孔;在至少一盲孔的侧壁上形成一层阻档层,其中阻档层的电阻率大于导电区的电阻率,且阻档层和半导体衬底间不是欧姆接触;及在形成各个阻档层后,利用带电射线照射多个盲孔。

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