肟酯光敏引发剂
    42.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105294537A

    公开(公告)日:2016-02-03

    申请号:CN201510583865.X

    申请日:2013-05-06

    Abstract: 式I、II、III、IV或V的肟酯化合物为有效的光敏引发剂,其中Z为例如(式A);Z1为例如NO2、未经取代或经取代的C7-C20芳酰基或未经取代或经取代的C4-C20杂芳酰基;条件为至少一个Z1不同于NO2;Z2为例如未经取代或经取代的C7-C20芳酰基;R1、R2、R3、R4、R5和R6为例如氢、卤素、或未经取代或经取代的C1-C20烷基、未经取代或经取代的C6-C20芳基、或未经取代或经取代的C4-C20杂芳基;R9、R10、R11、R12和R13为例如氢、卤素、OR16、未经取代或经取代的C1-C20烷基;条件为R9与R13不为氢或氟;R14为例如未经取代或经取代的C6-C20芳基或C3-C20杂芳基;Q为例如C6-C20亚芳基或C3-C20亚杂芳基;Q1为-C1-C20亚烷基-CO-;Q2为亚萘甲酰基;Q3为例如亚苯基;L为例如O-亚烷基-O-;R15为例如氢或C1-C20烷基;R20为例如氢、或未经取代或经取代的C1-C20烷基。

    印刷电路基板制造用剥离膜

    公开(公告)号:CN105102194A

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201380075174.8

    申请日:2013-12-27

    Abstract: 本发明的印刷电路基板制造用剥离膜的特征在于,具有基材和剥离剂层,通过向将剥离剂层形成用材料涂布于第1面形成的涂布层照射活化能射线形成剥离剂层,所述剥离剂层形成用材料含有活化能射线固化性化合物(A)、聚有机硅氧烷(B)、和碳纳米材料(C),所述活化能射线固化性化合物(A)具有从(甲基)丙烯酰基、链烯基和马来酰亚胺基组成的组选择的至少1种反应性官能团,剥离剂层的外表面的算术平均粗糙度Ra1为8nm以下,并且剥离剂层的所述外表面的最大突起高度Rp1为50nm以下。根据本发明能够提供,能够防止印刷电路基板的表面上产生针孔或局部厚度不均等、制造可靠性高的印刷电路基板的印刷电路基板制造用剥离膜。

    O-亚氨基异脲化合物及其可聚合组合物

    公开(公告)号:CN102421749B

    公开(公告)日:2015-03-11

    申请号:CN201080019908.7

    申请日:2010-05-05

    Abstract: 本发明涉及O-亚氨基异脲化合物作为自由基来源的用途,涉及包含这些O-亚氨基异脲的可聚合组合物以及新的O-亚氨基异脲化合物。O-亚氨基异脲化合物为式(I)化合物及其盐,其中n为1、2、3或4,R100和R101独立地为H、C1-18烷基、C3-C12环烷基、C6-C14芳基、C1-C14杂芳基、C7-C15芳烷基、C2-C14杂芳烷基、氰基,或R100和R101与它们所连接的碳一起形成单环或多环C3-C18碳环或C1-C18杂环;R102和R103独立地为C1-C18烷基、C3-C12环烷基、C6-C14芳基、被C1-C18烷基取代一次或多次的C6-C14芳基、C7-C15芳烷基、(CH3)3Si-;或R102和R103为C1-C18烷基、C3-C12环烷基、C6-C14芳基、C7-C15芳烷基或R102和R103为被O或选自C1-C18烷基氨基、二(C1-C18烷基)氨基或三(C1-C18烷基)铵的含N基团间隔或取代的C1-C18烷基、C3-C12环烷基;若n为1,则R104为H、C1-C18烷基、C3-C12环烷基、C7-C14芳烷基、C6-C14芳基或选自如下酰基的酰基:-C(=O)-H、-C(=O)-C1-C18烷基、-C(=O)-C2-C18链烯基、-C(=O)-C6-C14芳基、-C(=O)-C2-C18链烯基-C6-C14芳基、-C(=O)-O-C1-C18烷基、-C(=O)-O-C6-C14芳基、-C(=O)-NH-C1-C18烷基、-C(=O)-NH-C6-C14芳基和-C(=O)-N(C1-C18烷基)2;或者若n为1,则R102和R104与它们所连接的氮原子一起形成可以含有额外的杂原子的5-12员环,若n大于1,则R104为二-、三-、四-C1-C18亚烷基,二酰基、三酰基或四酰基。

Patent Agency Ranking