3D集成成像装置及其制备方法
    41.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118474330A

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN202310085843.5

    申请日:2023-02-07

    Abstract: 本申请涉及印刷技术领域,具体公开一种3D集成成像装置及其制备方法。3D集成成像装置包括立体结构层、间隔层及微透镜阵列,间隔层具有预设厚度,立体结构层设置于所述间隔层的一侧表面,所述立体结构层包括复数个微纳结构单元,微透镜阵列设置于所述间隔层远离所述立体结构层的一侧表面,微透镜阵列包括复数个微透镜,所述微纳结构单元与所述微透镜一一对应,所述微纳结构单元的正视图案为目标立体图像分层后,每层图像根据不同景深在所述微透镜下成像的图像的叠加。通过控制间隔层的厚度可以控制微透镜阵列的顶点到立体结构层之间的距离,进而控制像的景深,具有调节再现像的景深效果的功能。

    一种多光学头并行的快速光刻系统及方法

    公开(公告)号:CN118330993A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202310034683.1

    申请日:2023-01-10

    Abstract: 本申请提供一种多光学头并行的快速光刻系统及方法。所述系统包括:掩模版、基片及多个光学头,每个光学头包括光刻照明模组和掩模投影光学模组,光刻照明模组、掩模版、掩模投影光学模组及基片沿光路依次设置,掩模投影光学模组为反向成像模组,投影光斑为掩模版的照明光斑的放大、倒立的实像。整个系统通过多光学头并列放置的空间布局和光学投影成像尺寸的匹配,各个光学头可以并行扫描曝光,解决单个光学头视场有限的问题,原理上幅面不受限制,且本发明光路实施可行性高,可利用若干小尺寸掩模版拼接光刻实现大尺寸完整图形,易于加工实现,且降低生产应用成本。

    太阳能电池及其制备方法
    44.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116190465A

    公开(公告)日:2023-05-30

    申请号:CN202111418131.8

    申请日:2021-11-26

    Abstract: 本发明提供一种太阳能电池及其制备方法。所述太阳能电池包括:太阳能电池模组;贴附于所述太阳能电池模组的一侧表面上的电极薄膜,所述电极薄膜包括:透明基层、透明压印层和形成于所述透明压印层内或所述透明压印层一侧表面的导电材料层,所述导电材料层与所述太阳能电池模组电性连接以形成所述太阳能电池模组的电极;其中,所述电极薄膜和所述太阳能电池模组通过层压贴合。这样得到的太阳能电池具备高透过率,光电转换效率高,同时该制备方法,可方便的进行批量生产,成本低。

    微透镜阵列成像组件的制备方法

    公开(公告)号:CN114913558A

    公开(公告)日:2022-08-16

    申请号:CN202110179851.7

    申请日:2021-02-08

    Abstract: 本申请涉及的一种微透镜阵列成像组件的制备方法,包括:S1、提供微透镜阵列组件,微透镜阵列组件包括基底和形成在基底正面的若干微透镜单元,若干微透镜单元形成微透镜阵列;S2、在基底的背面制备若干遮光部,遮光部由挡光材料形成,遮光部正对微透镜单元的位置布置;S3、在正面涂覆黑色光阻材料,黑色光阻材料为负性感光材料;S4、对背面进行紫外泛曝光;S5、溶解去除涂覆在微透镜单元上的黑色光阻材料;S6、去除遮光部。本申请通过在基底的正面涂覆黑色光阻材料、在基底的背面精准的涂覆挡光材料,并在基底的背面进行紫外泛曝光,从而制备得到在微透镜单元的间隙上精确覆盖黑色光阻材料的高效率、高精度的微透镜阵列成像组件。

    一种投影幕布
    46.
    发明公开
    一种投影幕布 审中-实审

    公开(公告)号:CN114815489A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202110062212.2

    申请日:2021-01-18

    Abstract: 本发明提供一种投影幕布。所述投影幕布至少包括着色层、扩散层、菲涅尔透镜层中的一层、以及反射层;其中,菲涅尔透镜层为球面菲涅尔透镜层或非球面菲涅尔透镜层,菲涅尔透镜层包括沿着一平面突起的若干环状凸起,所述若干环状凸起以环带排列,且沿着垂直于所述平面的截面,每个环状凸起的截面形状为三角形或多台阶形或自由面形,每个截面形状平行于所述平面的边宽度渐变,截面形状及其宽度的渐变,决定球面菲涅尔透镜层或非球面菲涅尔透镜层的聚光特性;每个环状凸起表面具有散点微结构,反射层为金属层或金属合金层,且其采用电镀、蒸镀、溅射或涂布工艺制备。本发明提供的投影幕布表现出比现有投影幕布具有更高的亮度、以及更大的视角。

    裸眼三维显示装置
    47.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112269271B

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN202011536267.4

    申请日:2020-12-23

    Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置,其包括:显示部件,其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列;和,视角调控器件,其包括由多个视角调控单元阵列排布而成的视角调控单元阵列,其中每个视角调控单元与多个显示单元相对应,所述显示单元被分为多组,每组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为一个视角,不同组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为不同视角,每组显示单元中的各个显示单元对应不同视角调控单元,每个视角调控单元对应的多个显示单元被分到不同组中。这样,可以实现在不同的视角下观看到的不同的三维显示效果,可再现全视差图像。

    一种体全息元件制作方法
    48.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106406061B

    公开(公告)日:2021-11-19

    申请号:CN201611033273.1

    申请日:2016-11-16

    Abstract: 本发明公开了一种体全息元件,其包括至少一像素化的信息层和至少一基材层,信息层设置于基材层上,或者信息层设置于相邻的两基材层之间;从体全息元件的剖面看,其信息层具有阵列分布的像素化的条纹面,每个像素内部的条纹面具有周期性,并且与基片平面具有夹角,每个像素为反射布拉格体光栅。本发明还公开了一种像素化反射体全息元件的制作方法和制作系统。本发明通过干涉光束调控、在体全息记录材料的感光层上进行像素化拼接曝光,经后续化学或物理处理,构成复杂光学参数的像素化的反射体全息光学元件。

    光刻方法
    49.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111999984B

    公开(公告)日:2021-07-13

    申请号:CN201910448289.6

    申请日:2019-05-27

    Abstract: 本发明公开一种光刻方法,用于将待处理图形进行无掩模版的光刻,所述方法包括如下步骤:S1:将所述待处理图形进行K次拆分,形成K幅子图形;S2:预设分割宽度M,分别将K幅所述子图形按照所述预设分割宽度M切割成n条子条带;S3:将K幅所述子图形中形成的n条宽度为M的所述子条带进行重组,形成n条新条带;S4:光刻所述新条带,其中,每完成一条新条带光刻,步进一条所述子条带的宽度M,进行另一待处理的新条带光刻。通过将待处理图形拆分分割形成的n条子条带进行重组,实现子条带分辨率的增强,从而达到光刻分辨率增强的效果。

    一种消除零级衍射影响的结构光组件

    公开(公告)号:CN113009705A

    公开(公告)日:2021-06-22

    申请号:CN201911317253.0

    申请日:2019-12-19

    Abstract: 本发明提供一种消除零级衍射影响的结构光组件,包括:激光光束;衍射光学器件,用于接收及扩束激光光束,并向图形面投射图案化光束;折射透镜,位于衍射光学器件的一侧,用于使图案化光束中的零级衍射光在图形面上形成背景光,并使图案化光束中的负一级衍射光或正一级衍射光在图形面上聚焦形成图案。本发明提供的消除零级衍射影响的结构光组件,将衍射器件和折射透镜相结合,入射激光从衍射器件出射到图形面之间没有聚焦点,既能使图形面上形成的图案更加清晰,也能对激光安全防护起到作用。

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