石墨烯薄膜转移装置
    42.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109534326A

    公开(公告)日:2019-03-29

    申请号:CN201910019995.9

    申请日:2019-01-09

    Abstract: 本申请涉及石墨烯转移技术领域,具体而言,涉及一种石墨烯薄膜转移装置,用以将石墨烯薄膜转移至目标基底,其包括:壳体,所述壳体具有真空腔体;滚压机构,位于所述真空腔体内,所述滚压机构包括第一辊轴及与所述第一辊轴相对设置的第二辊轴,所述第一辊轴及所述第二辊轴中的至少一者能够转动;其中,所述第一辊轴和/或所述第二辊轴能够在转动过程中对经过所述第一辊轴和所述第二辊轴之间的石墨烯薄膜与目标基底进行滚动贴合,以将石墨烯薄膜转移至目标基底。该技术方案能够提高石墨烯薄膜转移之后的完整度。

    石墨烯制备载具及石墨烯制备装置

    公开(公告)号:CN220977132U

    公开(公告)日:2024-05-17

    申请号:CN202322965901.1

    申请日:2023-11-02

    Abstract: 本实用新型提供一种石墨烯制备载具及石墨烯制备装置,涉及石墨烯生产制备技术领域。用于放置在石墨烯生长设备的反应腔室内的石墨烯制备载具包括支架、旋转杆、滑杆和多片生长衬底,旋转杆连接于支架;滑杆设置于支架,滑杆和旋转杆垂直设置;多片生长衬底设置于支架内并套设于滑杆的外部,生长衬底设置于旋转杆的同侧。其中,旋转杆被配置为带动支架相对于反应腔室转动,使多片生长衬底沿滑杆的轴向方向滑动,用于相邻两片生长衬底相互接触并压合。生长衬底在石墨烯薄膜生长和压合过程中无需从滑杆上拆卸或移除,辅助实现石墨烯高温生长、石墨烯和生长衬底复合一体化,提高石墨烯和生长衬底界面洁净度。

    石墨烯制备载具及石墨烯制备装置

    公开(公告)号:CN220812613U

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202322593331.8

    申请日:2023-09-22

    Abstract: 本实用新型提供一种石墨烯制备载具及石墨烯制备装置,涉及石墨烯生产制备技术领域。用于放置在CVD设备的石英管内的石墨烯制备载具包括支架、滑杆、压合件和多个生长衬底,滑杆设置于支架,压合件套设于滑杆并与其滑动配合,压合件起到压合和配重平衡的作用。多个生长衬底与压合件沿滑杆的轴向方向排布设置并设置于压合件和支架之间,生长衬底套设于滑杆并与其滑动配合。其中,支架被配置为相对于石英管转动,使压合件沿滑杆向靠近生长衬底的方向滑动并抵压生长衬底。辅助石墨烯薄膜的生长复合一体化,减少石墨烯薄膜表面被污染的风险,提高石墨烯薄膜的表面清洁度和石墨烯薄膜压合的工艺稳定性,从而提高石墨烯薄膜的生产质量。

    化学气相沉积系统及其局域供气装置

    公开(公告)号:CN212247201U

    公开(公告)日:2020-12-29

    申请号:CN202020788756.8

    申请日:2020-05-13

    Abstract: 本实用新型提出一种化学气相沉积系统及其局域供气装置,局域供气装置设置于化学气相沉积系统的腔室上。其中,局域供气装置包含转向管、腔内连接组件、供气终端管路、腔外连接组件以及腔外气体管路。转向管穿设于腔室并具有转向结构、内管口和外管口,内管口和外管口分别位于腔室的内部和外部。腔内连接组件设置于内管口。供气终端管路设置于腔室的内部并通过腔内连接组件连接于内管口。腔外连接组件设置于外管口。腔外气体管路设置于腔室的外部并通过腔外连接组件连接于外管口。本实用新型利用可以在不影响正常全局供气构造的同时,在腔室中实现局域供气功能。

    石墨烯薄膜转移装置
    47.
    实用新型

    公开(公告)号:CN209442653U

    公开(公告)日:2019-09-27

    申请号:CN201920034749.6

    申请日:2019-01-09

    Abstract: 本申请涉及石墨烯转移技术领域,具体而言,涉及一种石墨烯薄膜转移装置,用以将石墨烯薄膜转移至目标基底,其包括:壳体,所述壳体具有真空腔体;滚压机构,位于所述真空腔体内,所述滚压机构包括第一辊轴及与所述第一辊轴相对设置的第二辊轴,所述第一辊轴及所述第二辊轴中的至少一者能够转动;其中,所述第一辊轴和/或所述第二辊轴能够在转动过程中对经过所述第一辊轴和所述第二辊轴之间的石墨烯薄膜与目标基底进行滚动贴合,以将石墨烯薄膜转移至目标基底。该技术方案能够提高石墨烯薄膜转移之后的完整度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    利用CVD方法生长石墨烯薄膜的载具

    公开(公告)号:CN209242684U

    公开(公告)日:2019-08-13

    申请号:CN201821846250.7

    申请日:2018-11-09

    Abstract: 本实用新型提供了一种利用CVD方法生长石墨烯薄膜的载具,用于放置在CVD设备的石英管内。载具包括底座、矩形底板以及多个矩形托板。矩形底板水平地设置在底座上方,且固定连接于底座;多个矩形托板用于承载石墨烯生长衬底,每一矩形托板上表面的四周设置有多个支撑体,石墨烯生长衬底容纳于多个支撑体围成的空间,多个矩形托板可层叠地放置在矩形底板上,相邻两个矩形托板之间用支撑体隔开。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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