-
公开(公告)号：CN101470349B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200810173347.0
申请日：2008-11-13
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , C07D327/02 , C07D327/04 , C07D497/08 , C08K5/36 , C08K5/42 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
Abstract: 本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q1是2价连接基团或单键；Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO2-键。M+是碱金属离子。A+是有机阳离子。)x-Q1-Y1-SO3- M+ …(I)X-Q1-Y1-SO3- A+ …(b1-1)。
-
公开(公告)号：CN1818784B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200610007164.2
申请日：2002-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，因此在酸的作用下增加了它在碱中的溶解度；(B)一种能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，其中：组分(A)含有甲基丙烯酸酯衍生的结构单元和丙烯酸酯衍生的结构单元二者。依据这种抗蚀剂组合物，可形成一种在蚀刻时几乎不出现表面的粗糙和线边缘粗糙，且还提供出色的分辨能力和聚焦范围深度广的抗蚀图形。
-
公开(公告)号：CN101408728B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN200810212866.3
申请日：2008-09-10
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及含有能用作产酸剂的新型化合物的抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、所述化合物、能用作所述化合物的前体的化合物及其制造方法。其中，涉及式(I)表示的化合物以及式(b1-1)表示的化合物式，其中，X是-O-、-S-、-O-R3-或-S-R4-，R3和R4分别独立地是碳原子数为1～5的亚烷基；R2是碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为1～6的烷氧基、碳原子数为1～6的卤代烷基、卤原子、碳原子数为1～6的羟烷基、羟基或氰基；a是0～2的整数；Q1是碳原子数为1～12的亚烷基或单键；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；M+是碱金属离子；A+是有机阳离子。
-
公开(公告)号：CN101697064A
公开(公告)日：2010-04-21
申请号：CN200910164462.6
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
-
公开(公告)号：CN100572422C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200580004964.2
申请日：2005-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08G85/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C07C69/54 , C07C2603/74 , C08F220/28 , C08F290/06 , C08F290/061 , C09D133/14 , G03F7/0046 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供高分子化合物、使用了该高分子化合物的光致抗蚀剂组合物、和使用了该光致抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法，所述高分子化合物能够构成具有优异的析像清晰性、能够形成矩形性良好的微细图案、同时由酸发生剂产生的酸弱时也能得到良好的抗蚀特性、感光度也良好的抗蚀剂组合物。所述光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法使用如下的高分子化合物：具有碱可溶性基团(i)，该碱可溶性基团(i)是选自醇羟基、羧基、和酚羟基的至少1种的取代基，这些基团由下述通式(1)(式中，R1为可以具有氧、氮、硫、或卤素原子的碳原子数小于等于20的脂环基，n表示0或1～5的整数)所示的酸解离性溶解抑制基团(ii)保护。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100520579C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200610007166.1
申请日：2002-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；(B)能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，组分(A)含有：(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有内酯的单环基团或多环基团；(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有羟基的多环基团；组分(A)还含有结构单元(a4)，由(甲基)丙烯酸酯衍生并含有多环基团，此多环基团不同于含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团、含有内酯的单环基团或多环基团、或含有羟基的多环基团。
-
公开(公告)号：CN100520578C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200610007163.8
申请日：2002-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，因此在酸的作用下增加了它在碱中的溶解度；(B)一种能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，其中：组分(A)含有甲基丙烯酸酯衍生的结构单元和丙烯酸酯衍生的结构单元二者。依据这种抗蚀剂组合物，可形成一种在蚀刻时几乎不出现表面的粗糙和线边缘粗糙，且还提供出色的分辨能力和聚焦范围深度广的抗蚀图形。
-
公开(公告)号：CN1326895C
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：CN200480002954.0
申请日：2004-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F220/28 , C08J3/14 , G03F7/039
Abstract: 提供了一种有效地除去电子材料用粗树脂内含有的副产品例如低聚物的方法，这样生产出电子材料用树脂。在这个方法中，使用(b1)能够溶解电子材料用粗树脂、与水混合时分成两层的有机溶剂和(b2)水，洗涤含有(a1)由带有亲水性位的(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元的电子材料用粗树脂。
-
公开(公告)号：CN1997939A
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：CN200380104689.2
申请日：2003-12-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供一种形成抗蚀图案的方法，该方法可以使在良好控制图案尺寸下形成抗蚀图案，并且提供在该方法中使用的正型抗蚀剂组合物和使用正型抗蚀剂组合物形成的层状产品。在上面方法中，将包含树脂组分(A)和通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)的正型抗蚀剂组合物涂布在基材上，所述的树脂组分(A)包含衍生自由下面通式(I)表示的(甲基)丙烯酸酯的结构单元(a1)，并且在酸作用下显示提高的碱溶解度，进行预烘焙，选择性地曝光抗蚀剂组合物，进行后曝光烘焙(PEB)，然后使用碱性显影以形成抗蚀图案，然后通过热处理使由此产生的抗蚀图案的图案尺寸变窄。
-
公开(公告)号：CN1318916C
公开(公告)日：2007-05-30
申请号：CN02823454.5
申请日：2002-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 提供了一种正型抗蚀剂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，因此在酸的作用下增加了它在碱中的溶解度；(B)一种能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，其中：组分(A)含有甲基丙烯酸酯衍生的结构单元和丙烯酸酯衍生的结构单元二者。依据这种抗蚀剂组合物，可形成一种在蚀刻时几乎不出现表面的粗糙和线边缘粗糙，且还提供出色的分辨能力和聚焦范围深度广的抗蚀图形。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
55
records
(took 0.031 seconds)
