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公开(公告)号：CN1726435A
公开(公告)日：2006-01-25
申请号：CN200380106292.7
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有－20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN101697064A
公开(公告)日：2010-04-21
申请号：CN200910164462.6
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN101223482A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200680026038.X
申请日：2006-07-12
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/26 , B01D61/14 , B01D61/58 , B01D71/26 , B01D71/32 , B01D71/56 , G03F7/039 , G03F7/16 , H01L21/027
CPC classification number: B01D61/14 , B01D63/02 , B01D71/26 , G03F7/0397 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种可以得到抑制缺陷发生的抗蚀剂组合物的抗蚀剂组合物的制造方法、能够在所述制造方法中良好使用的过滤装置、搭载所述过滤装置的抗蚀剂组合物的涂敷装置以及抑制缺陷发生的抗蚀剂组合物。所述组合物是将抗蚀剂组合物通过具备聚乙烯制的中空丝膜的过滤器而得到，所述抗蚀剂组合物是将通过酸的作用使碱溶性发生变化的树脂成分和通过曝光而产生酸的酸产生剂成分溶解于有机溶剂中而成的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101697064B
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN200910164462.6
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN1726435B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200380106292.7
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN103399467A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201310268274.4
申请日：2006-07-12
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/14 , B01D63/02 , B01D71/26 , G03F7/0397 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种可以得到抑制缺陷发生的抗蚀剂组合物的抗蚀剂组合物的制造方法、能够在所述制造方法中良好使用的过滤装置、搭载所述过滤装置的抗蚀剂组合物的涂敷装置以及抑制缺陷发生的抗蚀剂组合物。所述组合物是将抗蚀剂组合物通过具备聚乙烯制中空丝膜过滤器而得到，所述抗蚀剂组合物是将通过酸的作用使碱溶性发生变化的树脂成分和通过曝光而产生酸的酸产生剂成分溶解于有机溶剂中而成的。
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公开(公告)号：CN101644896B
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN200910164463.0
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN101644896A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200910164463.0
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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