公开(公告)号：CN101644896B

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：CN200910164463.0

申请日：2003-12-18

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 羽田英夫 ,  岩井武 ,  嶋崎真明 ,  室井雅昭 ,  厚地浩太 ,  富田浩明 ,  尾崎弘和

IPC: G03F7/039 ,  B01D61/58 ,  B01D69/02 ,  B01D71/26 ,  B01D71/56

CPC classification number: B01D61/58 ,  B01D69/02 ,  B01D71/26 ,  B01D71/56 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162

Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。

公开(公告)号：CN101697064B

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：CN200910164462.6

申请日：2003-12-18

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 羽田英夫 ,  岩井武 ,  嶋崎真明 ,  室井雅昭 ,  厚地浩太 ,  富田浩明 ,  尾崎弘和

IPC: G03F7/039 ,  B01D61/58 ,  B01D69/02 ,  B01D71/26 ,  B01D71/56

CPC classification number: B01D61/58 ,  B01D69/02 ,  B01D71/26 ,  B01D71/56 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162

Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。

公开(公告)号：CN101697064A

公开(公告)日：2010-04-21

申请号：CN200910164462.6

申请日：2003-12-18

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 羽田英夫 ,  岩井武 ,  嶋崎真明 ,  室井雅昭 ,  厚地浩太 ,  富田浩明 ,  尾崎弘和

IPC: G03F7/039 ,  B01D61/58 ,  B01D69/02 ,  B01D71/26 ,  B01D71/56

CPC classification number: B01D61/58 ,  B01D69/02 ,  B01D71/26 ,  B01D71/56 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162

Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。