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公开(公告)号：CN101697064B
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN200910164462.6
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN101223479B
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN200680026355.1
申请日：2006-05-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/38 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供一种正型抗蚀剂组合物的制备方法，其中，具有使正型抗蚀剂组合物通过具备尼龙制的膜的过滤器(f1)的工序(I)，所述正型抗蚀剂组合物是将因酸的作用而碱可溶性增大的树脂成分(A)和曝光下产生酸的产酸剂成分(B)溶解于有机溶剂(S)中而成的；所述树脂成分(A)是在使至少一种单体聚合而制造聚合物时通过使酸存在而得到的具有至少2种结构单元的共聚物。通过本发明，可以提供能够形成同时减轻了架桥系缺陷和再析出系缺陷的抗蚀图案的正型抗蚀剂组合物的制备方法、正型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法。
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公开(公告)号：CN1726435B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200380106292.7
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN101697064A
公开(公告)日：2010-04-21
申请号：CN200910164462.6
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN101223479A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200680026355.1
申请日：2006-05-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/38 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供一种正型抗蚀剂组合物的制备方法，其中，具有使正型抗蚀剂组合物通过具备尼龙制的膜的过滤器(f1)的工序(I)，所述正型抗蚀剂组合物是将因酸的作用而碱可溶性增大的树脂成分(A)和曝光下产生酸的产酸剂成分(B)溶解于有机溶剂(S)中而成的；所述树脂成分(A)是在使至少一种单体聚合而制造聚合物时通过使酸存在而得到的具有至少2种结构单元的共聚物。通过本发明，可以提供能够形成同时减轻了架桥系缺陷和再析出系缺陷的抗蚀图案的正型抗蚀剂组合物的制备方法、正型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1326895C
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：CN200480002954.0
申请日：2004-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F220/28 , C08J3/14 , G03F7/039
Abstract: 提供了一种有效地除去电子材料用粗树脂内含有的副产品例如低聚物的方法，这样生产出电子材料用树脂。在这个方法中，使用(b1)能够溶解电子材料用粗树脂、与水混合时分成两层的有机溶剂和(b2)水，洗涤含有(a1)由带有亲水性位的(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元的电子材料用粗树脂。
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公开(公告)号：CN101644896B
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN200910164463.0
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN101644896A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200910164463.0
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN1742029A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：CN200480002954.0
申请日：2004-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F220/28 , C08J3/14 , G03F7/039
Abstract: 提供了一种有效地除去电子材料用粗树脂内含有的副产品例如低聚物的方法，这样生产出电子材料用树脂。在这个方法中，使用(b1)能够溶解电子材料用粗树脂与水混合时分成两层的有机溶剂和(b2)水，洗涤含有(a1)由带有亲水性位的(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元的电子材料用粗树脂。
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公开(公告)号：CN100555079C
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200480003485.4
申请日：2004-01-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/28
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F6/06 , C08F6/12
Abstract: 提供一种精制抗蚀剂用粗树脂的方法，该方法能够有效去除副产物例如包含在粗树脂中的聚合物和低聚物。该方法提供一种精制在光致抗蚀剂组合物中使用的抗蚀剂树脂(A)的粗树脂的方法，光致抗蚀剂组合物至少包含在第一有机溶剂(C1)中溶解的抗蚀剂树脂(A)和酸生成剂(B)，其中如果光致抗蚀剂组合物中组分(A)的浓度标示为X，在粗树脂溶液中的组分(A)的粗树脂浓度标示为Y，所述粗树脂溶液包含在第二有机溶剂(C2)溶解的组分(A)的粗树脂，那么(i)制备粗树脂溶液，以便Y小于X，和(ii)接着过滤粗树脂溶液。
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