公开(公告)号：CN1326895C

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN200480002954.0

申请日：2004-01-28

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 羽田英夫 ,  岩井武 ,  竹下优 ,  林亮太郎 ,  室井雅昭 ,  厚地浩太 ,  富田浩明 ,  盐谷和幸

IPC: C08F220/28 ,  C08J3/14 ,  G03F7/039

Abstract: 提供了一种有效地除去电子材料用粗树脂内含有的副产品例如低聚物的方法，这样生产出电子材料用树脂。在这个方法中，使用(b1)能够溶解电子材料用粗树脂、与水混合时分成两层的有机溶剂和(b2)水，洗涤含有(a1)由带有亲水性位的(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元的电子材料用粗树脂。

公开(公告)号：CN100582938C

公开(公告)日：2010-01-20

申请号：CN200480018215.0

申请日：2004-06-28

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 林亮太郎 ,  竹下优 ,  岩井武

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/18

Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，该抗蚀剂组合物包括在酸作用下显示增加的碱溶解度的树脂组分(A)、通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)和有机溶剂(C)。组分(A)具有：(i)结构单元(a1)，其含有可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，(ii)结构单元(a2)，其含有比结构单元(a1)中含有的可酸解离的、溶解抑制基团更不容易解离的可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，和(iii)结构单元(a3)，其含有内酯官能团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯。

公开(公告)号：CN100427519C

公开(公告)日：2008-10-22

申请号：CN200480022815.4

申请日：2004-08-10

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 林亮太郎 ,  羽田英夫 ,  岩井武

IPC: C08F220/18 ,  G03F7/039 ,  H01L21/30

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28

Abstract: 一种具有优异的分辨率和景深的正性抗蚀剂组合物，一种用于在所述正性抗蚀剂组合物中使用的抗蚀剂的树脂，以及一种使用所述正性抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法。所述用于抗蚀剂的树脂包括衍生自(α-低级烷基)丙烯酸酯的结构单元(a)作为主要组分，其中这些结构单元(a)包括衍生自含酸可离解的溶解抑制基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯以及包含含内酯的单环基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯的结构单元(a1)，并且所述结构单元(a1)包括如下所示通式(a1-1)表示的结构单元[其中，R表示氢原子或低级烷基，而R11表示含单环脂肪族烃基但不含多环脂肪族烃基的酸可离解的溶解抑制基团]。

公开(公告)号：CN1813222A

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：CN200480018215.0

申请日：2004-06-28

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 林亮太郎 ,  竹下优 ,  岩井武

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/18

Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，该抗蚀剂组合物包括在酸作用下显示增加的碱溶解度的树脂组分(A)、通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)和有机溶剂(C)。组分(A)具有：(i)结构单元(a1)，其含有可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，(ii)结构单元(a2)，其含有比结构单元(a1)中含有的可酸解离的、溶解抑制基团更不容易解离的可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，和(iii)结构单元(a3)，其含有内酯官能团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯。

公开(公告)号：CN1742029A

公开(公告)日：2006-03-01

申请号：CN200480002954.0

申请日：2004-01-28

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 羽田英夫 ,  岩井武 ,  竹下优 ,  林亮太郎 ,  室井雅昭 ,  厚地浩太 ,  富田浩明 ,  盐谷和幸

IPC: C08F220/28 ,  C08J3/14 ,  G03F7/039

Abstract: 提供了一种有效地除去电子材料用粗树脂内含有的副产品例如低聚物的方法，这样生产出电子材料用树脂。在这个方法中，使用(b1)能够溶解电子材料用粗树脂与水混合时分成两层的有机溶剂和(b2)水，洗涤含有(a1)由带有亲水性位的(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元的电子材料用粗树脂。

公开(公告)号：CN1832971A

公开(公告)日：2006-09-13

申请号：CN200480022815.4

申请日：2004-08-10

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 林亮太郎 ,  羽田英夫 ,  岩井武

IPC: C08F220/18 ,  G03F7/039 ,  H01L21/30

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28

Abstract: 一种具有优异的分辨率和景深的正性抗蚀剂组合物，一种用于在所述正性抗蚀剂组合物中使用的抗蚀剂的树脂，以及一种使用所述正性抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法。所述用于抗蚀剂的树脂包括衍生自(α－低级烷基)丙烯酸酯的结构单元(a)作为主要组分，其中这些结构单元(a)包括衍生自含酸可离解的溶解抑制基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯以及包含含内酯的单环基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯的结构单元(a1)，并且所述结构单元(a1)包括如上所示通式(a1－1)表示的结构单元[其中，R表示氢原子或低级烷基，而R11表示含单环脂肪族烃基但不含多环脂肪族烃基的酸可离解的溶解抑制基团]。