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公开(公告)号：CN103576453B
公开(公告)日：2019-05-31
申请号：CN201310322524.8
申请日：2013-07-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种丝网印刷用墨液组合物，其适合于利用丝网印刷法在基板上形成用于形成图案的涂膜。本发明的一个方案的丝网印刷用墨液组合物含有基材树脂成分(A)、光活性化合物(B)和由沸点为200℃以上的有机溶剂构成的溶剂(C)。该丝网印刷用墨液组合物的表面张力为34.0mN/m以上且39.0mN/m以下。
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公开(公告)号：CN103576453A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201310322524.8
申请日：2013-07-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种丝网印刷用墨液组合物，其适合于利用丝网印刷法在基板上形成用于形成图案的涂膜。本发明的一个方案的丝网印刷用墨液组合物含有基材树脂成分(A)、光活性化合物(B)和由沸点为200℃以上的有机溶剂构成的溶剂(C)。该丝网印刷用墨液组合物的表面张力为34.0mN/m以上且39.0mN/m以下。
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公开(公告)号：CN101644896B
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN200910164463.0
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN101644896A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200910164463.0
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN1742029A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：CN200480002954.0
申请日：2004-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F220/28 , C08J3/14 , G03F7/039
Abstract: 提供了一种有效地除去电子材料用粗树脂内含有的副产品例如低聚物的方法，这样生产出电子材料用树脂。在这个方法中，使用(b1)能够溶解电子材料用粗树脂与水混合时分成两层的有机溶剂和(b2)水，洗涤含有(a1)由带有亲水性位的(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元的电子材料用粗树脂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103309152A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201310076590.1
申请日：2013-03-11
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种抗蚀图形的形成方法，其包括：将正型抗蚀组合物涂布于包含太阳能电池基板的支承体上而形成抗蚀膜的工序，所述正型抗蚀剂含有酚醛清漆树脂(A)和感光剂(B)、且由所述的正型抗蚀剂形成的膜厚3μm的抗蚀膜的波长365nm的光的透射率为10％以上，所述感光剂(B)含有具有三(羟苯基甲烷骨架的酚类(B1)与含醌二叠氮基的磺酰化合物(B2)的酯化合物；对该抗蚀膜选择性地照射光而进行曝光的工序；和用碱性溶液将曝光后的该抗蚀膜显影而将曝光部分除去的工序。
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公开(公告)号：CN101697064B
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN200910164462.6
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN1726435B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200380106292.7
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN100555079C
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200480003485.4
申请日：2004-01-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/28
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F6/06 , C08F6/12
Abstract: 提供一种精制抗蚀剂用粗树脂的方法，该方法能够有效去除副产物例如包含在粗树脂中的聚合物和低聚物。该方法提供一种精制在光致抗蚀剂组合物中使用的抗蚀剂树脂(A)的粗树脂的方法，光致抗蚀剂组合物至少包含在第一有机溶剂(C1)中溶解的抗蚀剂树脂(A)和酸生成剂(B)，其中如果光致抗蚀剂组合物中组分(A)的浓度标示为X，在粗树脂溶液中的组分(A)的粗树脂浓度标示为Y，所述粗树脂溶液包含在第二有机溶剂(C2)溶解的组分(A)的粗树脂，那么(i)制备粗树脂溶液，以便Y小于X，和(ii)接着过滤粗树脂溶液。
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公开(公告)号：CN1748180A
公开(公告)日：2006-03-15
申请号：CN200480003485.4
申请日：2004-01-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/28
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F6/06 , C08F6/12
Abstract: 提供一种精制抗蚀剂用粗树脂的方法，该方法能够有效去除副产物例如包含在粗树脂中的聚合物和低聚物。该方法提供一种精制在光致抗蚀剂组合物中使用的抗蚀剂树脂(A)的粗树脂的方法，光致抗蚀剂组合物至少包含在第一有机溶剂(C1)中溶解的抗蚀剂树脂(A)和酸生成剂(B)，其中如果光致抗蚀剂组合物中组分(A)的浓度标示为X，在粗树脂溶液中的组分(A)的粗树脂浓度标示为Y，所述粗树脂溶液包含在第二有机溶剂(C2)溶解的组分(A)的粗树脂，那么(i)制备粗树脂溶液，以便Y小于X，和(ii)接着过滤粗树脂溶液。
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