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公开(公告)号:CN1976044A
公开(公告)日:2007-06-06
申请号:CN200610140028.0
申请日:2006-10-08
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L27/12 , H01L23/522 , H01L21/84 , H01L21/768
Abstract: 一种薄膜晶体管阵列面板,包括:像素电极,形成在基板上;栅极线,形成在像素电极上;栅极绝缘薄膜,形成在栅极线上;半导体,形成在栅极绝缘薄膜上;数据线和漏电极,形成在栅极绝缘薄膜上;以及钝化层,形成在数据线和漏电极的部分上。栅极线包括与像素电极形成在相同层上并且具有相同材料的第一薄膜以及形成在第一薄膜上的第二薄膜。
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公开(公告)号:CN1904742A
公开(公告)日:2007-01-31
申请号:CN200610103511.1
申请日:2006-07-19
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/425 , H01L21/2855 , H01L21/31133 , H01L21/76838 , H01L21/7685 , H01L27/124 , H01L27/1288 , H01L29/41733 , H01L29/458 , H01L29/4908
Abstract: 一种光刻胶去除剂组合物、以及用该组合物形成布线结构和制造薄膜晶体管基片的方法。该光刻胶去除剂组合物包括约50WT%至约70WT%的二乙二醇丁醚、约20WT%至约40WT%的烷基吡咯烷酮、约1WT%至约10WT%的有机胺化合物、约1WT%至约5WT%的氨基丙基吗啉、以及约0.01WT%至约0.5WT%的巯基化合物。
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公开(公告)号:CN1896822A
公开(公告)日:2007-01-17
申请号:CN200610099011.5
申请日:2006-07-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , C09K13/04
CPC classification number: G02F1/13439 , H01L31/022466 , H01L31/1884
Abstract: 本发明提供了一种用于透明导电氧化物层的蚀刻剂以及利用该蚀刻剂制造液晶显示器(LCD)的方法。该蚀刻剂包括2-15wt%(重量百分比)的硫酸、0.02-10wt%的碱金属的硫酸氢盐、以及余量的去离子水。
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公开(公告)号:CN1752852A
公开(公告)日:2006-03-29
申请号:CN200510105132.1
申请日:2005-09-22
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/42 , G02F1/1368
CPC classification number: G03F7/425 , H01L21/31133 , H01L27/124 , H01L27/1288 , H01L29/458
Abstract: 本发明提供了一种光刻胶剥离剂,包括:约5wt%至20wt%的醇胺、约40wt%至70wt%的乙二醇醚、约20wt%至40wt%的N-甲基吡咯烷酮、以及约0.2wt%至6wt%的螯合剂。
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公开(公告)号:CN1517802A
公开(公告)日:2004-08-04
申请号:CN03100735.X
申请日:2003-01-16
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/42 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及用于光致抗蚀剂的TFT-LCD高性能剥离剂组合物,并且更具体地是涉及用于抗蚀剂的剥离剂组合物,包含20%至60%重量的单乙醇胺、15%至50%重量的N,N-二甲基乙酰胺、15%至50%重量的卡必醇以及0.1%至10%重量的没食子酸。本发明还提供了用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物,包含20%至60%重量的单乙醇胺、15%至50%重量的N,N-二甲基乙酰胺、15%至50%重量的卡必醇。本发明的用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物在应用于TFT-LCD生产过程时,显著地降低了剥离时间。而且其因为具有良好的剥离能力也不会留下杂质颗粒,并且因为能够省略硬焙烤和磨光过程,所以能够简化门处理,降低了成本。此外,当其应用在使用银(Ag)作为反射/透射层的过程时,提供了纯银层的耐腐蚀能力和剥离能力。
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公开(公告)号:CN1298918A
公开(公告)日:2001-06-13
申请号:CN99127834.8
申请日:1999-12-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C09K19/38
CPC classification number: G02F1/133711
Abstract: 本发明涉及液晶排列材料的再生方法,其中与LCD液晶加工中原始液晶排列材料等效的再生液晶排列层可通过收集排列材料的废溶液而再生,该废溶液是在使用液晶排列材料的LCD制造过程中大量产生的。通过将排列材料的废溶液放入一种有机溶剂或超纯水中而固化聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺,液晶排列材料组分聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺不溶于该有机溶剂或超纯水中,从有机溶剂或者超纯水分离聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺,并将所分离的固体聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺溶解在一种溶剂中而做到这一点。用此方法再生液晶排列层材料能大大有助于降低生产成本。
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公开(公告)号:CN1297169A
公开(公告)日:2001-05-30
申请号:CN00126840.6
申请日:2000-09-06
IPC: G03F7/16
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了一种阳性光致抗蚀剂层的制备方法。在该方法中,将所述光致抗蚀剂组合物滴加到形成于基片上的绝缘层或导电性金属层上。所述光致抗蚀剂组合物包含聚合物树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光剂及溶剂。将上述涂敷了光致抗蚀剂组合物的基片以1250至1350rpm的转速旋转4.2至4.8秒。然后,干燥上述涂覆了光致抗蚀剂组合物的基片并将上述干燥的基片进行曝光。接着,利用碱性显像液清除曝光部位。所述溶剂包括乙酸3-甲氧基丁酯和4-丁内酯,或者包括乙酸3-甲氧基丁酯、2-庚酮和4-丁内酯。
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公开(公告)号:CN1288178A
公开(公告)日:2001-03-21
申请号:CN00126260.2
申请日:2000-08-30
IPC: G03F7/008
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226
Abstract: 本发明涉及一种感光速度及残膜率优秀,恶臭的发生量少,从而能够改善作业环境的正型光致抗蚀剂组合物,其包括:用以形成光致抗蚀剂层的高分子树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光性化合物以及作为溶剂的3-甲氧丁基乙酯、2-庚酮和4-丁内酯。
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公开(公告)号:CN119946174A
公开(公告)日:2025-05-06
申请号:CN202411917143.9
申请日:2019-06-14
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H04M1/02 , G09F9/30 , G06F3/041 , G06F3/04817 , G06F3/0484 , G06F3/0488
Abstract: 本公开提供了一种电子装置及非暂时性存储介质。根据各种实施例的电子装置包括:第一结构,其能够相对于第二结构在关闭状态和打开状态之间移动;第二结构;柔性触摸屏显示层,其包括平面部分和可弯曲部分;处理器,其可操作地连接到柔性触摸屏显示层;以及存储器,其可操作地连接到处理器。该存储器存储有指令,该指令在被执行时,使得处理器:在关闭状态下,在平面部分的第一区域中显示至少一个第一对象并在平面部分的第二区域中显示至少一个第二对象,以及在打开状态下,在第一区域中显示至少一个第一对象并在可弯曲部分的第三区域中显示至少一个第二对象。
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