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公开(公告)号：CN109623560B
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN201811536305.9
申请日：2018-12-14
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于六轴运动抛光系统的确定离子束抛光工艺参数的方法，本发明以Sigmund溅射理论为基础，利用有限次的法拉第扫描实验来确定比例系数和常数C的值，从而得到去除函数的峰值去除率Rmax和去除函数的半高全宽HR相对于法拉第扫描电流密度分布曲线的相关参数的表达式，因此调节工艺参数后，通过法拉第扫描实验得到法拉第扫描电流密度分布曲线后，利用该曲线的参数即可计算得到去除函数，大大缩短了确定去除函数的时间，从2个小时缩短到5分钟。因此，提高了针对不同的工艺参数进行仿真加工试验的效率，从而能更快速地确定最佳工艺参数。另外，由于该种方法确定去除函数时，不需要对于每种工艺参数都进行刻蚀实验，从而避免了样件的浪费，节约成本。
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公开(公告)号：CN110712094B
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201910844111.3
申请日：2019-09-06
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种降低离子束抛光光学元件表面污染的方法，1)将离子束抛光设备中用以对光学元件进行夹持的夹具的外侧采用高温胶带进行贴封处理；2)将光学元件安装在夹具后，对光学元件和夹具的表面进行清洁处理，随后放入离子束抛光设备的副腔室内，最后将光学元件送至离子束抛光设备的主腔室内；3)安装离子源，离子源的栅网采用溅射率低于金属银溅射率的栅网；4)开启离子束抛光设备，启动离子源，使用法拉第杯测量离子源发出的离子束电流，待离子源运行一定设定时间t稳定后，对光学元件进行离子束抛光。采用该方法，离子束加工后光学元件表面洁净，有效抑制污染，提高加工质量。
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公开(公告)号：CN110712094A
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：CN201910844111.3
申请日：2019-09-06
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种降低离子束抛光光学元件表面污染的方法，1)将离子束抛光设备中用以对光学元件进行夹持的夹具的外侧采用高温胶带进行贴封处理；2)将光学元件安装在夹具后，对光学元件和夹具的表面进行清洁处理，随后放入离子束抛光设备的副腔室内，最后将光学元件送至离子束抛光设备的主腔室内；3)安装离子源，离子源的栅网采用溅射率低于金属银溅射率的栅网；4)开启离子束抛光设备，启动离子源，使用法拉第杯测量离子源发出的离子束电流，待离子源运行一定设定时间t稳定后，对光学元件进行离子束抛光。采用该方法，离子束加工后光学元件表面洁净，有效抑制污染，提高加工质量。
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公开(公告)号：CN109623560A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201811536305.9
申请日：2018-12-14
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于六轴运动抛光系统的确定离子束抛光工艺参数的方法，本发明以Sigmund溅射理论为基础，利用有限次的法拉第扫描实验来确定比例系数和常数C的值，从而得到去除函数的峰值去除率Rmax和去除函数的半高全宽HR相对于法拉第扫描电流密度分布曲线的相关参数的表达式，因此调节工艺参数后，通过法拉第扫描实验得到法拉第扫描电流密度分布曲线后，利用该曲线的参数即可计算得到去除函数，大大缩短了确定去除函数的时间，从2个小时缩短到5分钟。因此，提高了针对不同的工艺参数进行仿真加工试验的效率，从而能更快速地确定最佳工艺参数。另外，由于该种方法确定去除函数时，不需要对于每种工艺参数都进行刻蚀实验，从而避免了样件的浪费，节约成本。
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公开(公告)号：CN119427215A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202411777140.X
申请日：2024-12-05
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种用于双面快速抛光机床的抛光液循环装置，包括一柜体，柜体内设有循环水箱、精密过滤器和PLC控制器，循环水箱设有进水口和出水口与进水管路、出水总管相连，出水总管分为二路：第一路通过出水总阀与精密过滤器相连接，抛光液经精密过滤器过滤后输送至抛光区域；第二路通过回流阀与循环水箱的回流口相连接，双面快速抛光机床下抛光盘的四周设置抛光液收集槽，下抛光盘外侧设有对抛光液收集槽内沉积的抛光粉进行清扫的回收清洁板，抛光液收集槽的底部设有收集口，收集口通过回流管路与循环水箱相连，柜体内还设有对循环水箱进行冷却的恒温控制器。本发明具有结构合理紧凑、自动化程度高、精度高、运行稳定等特点，可应用于抛光液的循环利用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117532441A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202311560586.2
申请日：2023-11-22
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种加工深矢高非球面元件的集成抛光装置，包括立柱，立柱固定在回转台上，回转台底部安装直驱电机，立柱左侧安装有双头抛光电主轴，双头抛光电主轴两端安装对元件外表面进行抛光的气囊抛光工具和碟形抛光工具，立柱右侧安装有轮带驱动装置，轮带驱动装置下方安装对元件内表面进行抛光的轮带抛光装置，轮带抛光装置的带传动中心轴线与双头电主轴轴线共面且平行。本发明结构设计合理，装置整体结构尺寸小巧，可安装于任一抛光机床运动部件上，操作方便灵活，可实现深矢高非球面元件的内外表面精密抛光加工，同时减少了工序，有效提高加工效率。
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公开(公告)号：CN116252211A
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN202310117169.4
申请日：2023-02-15
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B13/00 , B24B49/12 , B24B27/00 , B24B13/005 , B24B41/00
Abstract: 一种小口径非球面光学元件的磨抛检集成加工设备，其特征在于：包括床身及设于所述床身上的磨削机构、粗抛机构、精抛机构、检测机构和用于夹持传送小口径非球面光学元件的工件夹持传送机构。本发明的优点在于：通过将磨削机构、粗抛机构、精抛机构、检测机构和工件夹持传送机构集成于一体，整体尺寸小，对安装空间要求低；同时，工件自动传送提高了自动化与智能化程度，工序转换、加工、检测等环节均由设备自动完成，人工操作环节少，对操作人员要求低，加工精度不依赖操作者的使用经验。
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公开(公告)号：CN113172459B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202110370874.6
申请日：2021-04-07
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B23Q3/12
Abstract: 本发明涉及一种光学元件的车削定心装置，其特征在于：包括活动基座，用于安装在机床上；依次重叠的多个叶片，各叶片可摆动地设于所述活动基座上，多个叶片的内壁能够围合成供光学元件穿设的通孔，且所述活动基座安装于机床状态下，所述通孔的中心线与机床主轴的轴线同轴；驱动结构，用于驱动各叶片摆动以无极调节所述通孔的孔径；锁定结构，用于锁定所述通孔的孔径。本发明涉及的一种光学元件的车削定心装置，更易操作、工作效率高，而且，定心操作对操作者要求较低，定心精度高且定心稳定性更好，适用范围广。
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公开(公告)号：CN116153748A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202211221674.5
申请日：2022-10-08
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于聚焦离子束设备的装夹装置，包括基座；其特征在于：还包括转动件，可转动地设于所述基座上；运动机构，设于所述基座上、并用来驱动所述转动件转动；夹头，安装在所述转动件上、并用来夹持住样品。本发明还涉及一种应用有前述用于聚焦离子束设备的装夹装置的聚焦离子束设备。
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公开(公告)号：CN115592162A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211350750.2
申请日：2022-10-31
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院(CN)
Abstract: 本发明涉及一种用于柱塞马达的柱塞孔镗削加工装置，包括有：底座，用于供待柱塞马达的马达轴和缸体一上一下地布置其上；还包括有：分度盘，套设于马达轴外，与马达轴同轴设置并被布置成能绕其自身中轴线转动；内部中空的轴套，设于分度盘的上表面并位于缸体的上方，并随分度盘转动而能分别与缸体上的每个柱塞孔上下对齐；以及镗削件，包括镗刀和用于加长镗刀的刀杆，刀杆的下端与镗刀相连接，刀杆穿设于所述轴套内，并且刀杆的上端至少局部伸出于轴套外而与外部动力源的输出轴相连接，镗刀与轴套同轴布置。该装置拆装检修方便，互换性高，可根据不同的柱塞孔数量或者加工精度更换分度盘，针对此类型缸体的盲孔镗削加工具备较高的普适性和灵活性。
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