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公开(公告)号：CN112684677A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202110270751.5
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。这样，可以得到任意三维微纳形貌结构。
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公开(公告)号：CN115497403B
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202211139010.4
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G09F19/12
Abstract: 本发明公开一种多色立体动态图像的可签注防伪证卡及其制备方法。本发明提供的可签注防伪证卡包括基层、设置于基层一侧的第一签注层、设置于第一签注层上的第一复合层、设置于基层另一侧的第二签注层和设置于第二签注层上的第二复合层；本发明提供的制备方法，通过制备第一复合层，制备第二复合层，将第一复合层、第一签注层、基层、第二签注层、第二复合层进行加热层压，制得可签注防伪证卡。防伪证卡的纹理通过精密光刻，可实现动态、浮雕等极具光泽感的多色立体动态图像效果，防伪效果佳；防伪证卡的双面设置紧密精密微结构防伪效果，更能实现有效防伪，并且提高防伪证卡的表现力。
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公开(公告)号：CN119200214A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202311052575.3
申请日：2023-08-21
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及防伪技术领域，具体公开一种微图文的制作方法及动态放大薄膜。方法包括：获取微透镜参数，所述微透镜参数包括焦距、周期、折射率；预设立体图像效果，并设定最高景深和最低景深；根据所述预设立体图像效果进行立体建模，形成立体图像模型；根据所述微透镜参数、所述立体图像模型的景深数据确定所述立体图像模型上各点的周期，所述景深数据包括所述最高景深、所述最低景深以及所述立体图像模型上各点的景深；根据所述立体图像模型上各点的周期，得到目标微图文。上述方法可以制作出满足各种立体显示需求的微图文，进而得到多样化的立体显示效果，制作过程较为简单。
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公开(公告)号：CN119148401A
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202310705884.X
申请日：2023-06-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种具有抗复印特性的光学成像薄膜及其制备方法和防伪产品。光学成像薄膜包括：透明间隔层，具有相对的两个表面；微聚焦单元阵列层，位于透明间隔层的一个表面，包括若干阵列排布的微聚焦单元；以及微图文层，位于透明间隔层的另一个表面，包括若干阵列排布的微图文单元，若干微图文单元与若干微聚焦单元对应设置；微图文单元的正视图形基于立体实物像和虚拟像获得，从而在特定视角范围内只呈现部分立体实物像，立体实物像被虚拟像遮挡的部分不显示。本发明的抗复印光学成像薄膜，在特定视角范围内只呈现部分立体实物像，立体实物像被虚拟像遮挡的部分不显示，因而能够使复印图像无法携带光学成像薄膜全部信息，从而实现抗复印功能。
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公开(公告)号：CN118915203A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202310500978.3
申请日：2023-05-06
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G02B3/00 , G02F1/1333 , G02F1/1337
Abstract: 本申请属于安全防伪技术领域，提出了一种基于液晶微透镜阵列的可切换光场防伪薄膜及其制备方法；该防伪薄膜包括基材层，基材层的上表面设置有配向层；所述配向层上设置有液晶微透镜阵列，所述液晶微透镜阵列包含复数个液晶微透镜；所述液晶微透镜会聚某一旋向圆偏振光，发散相反旋向圆偏振光；所述基材层下表面设置有由复数个微结构单元组成的图文微结构层；所述液晶微透镜与所述微结构单元一一对应。与普通微透镜相比，液晶微透镜能够满足切换不同圆偏振态的光，人眼观察到不同的像，达到可切换的光场防伪效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118131476B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号：CN115497403A
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202211139010.4
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G09F19/12
Abstract: 本发明公开一种多色立体动态图像的可签注防伪证卡及其制备方法。本发明提供的可签注防伪证卡包括基层、设置于基层一侧的第一签注层、设置于第一签注层上的第一复合层、设置于基层另一侧的第二签注层和设置于第二签注层上的第二复合层；本发明提供的制备方法，通过制备第一复合层，制备第二复合层，将第一复合层、第一签注层、基层、第二签注层、第二复合层进行加热层压，制得可签注防伪证卡。防伪证卡的纹理通过精密光刻，可实现动态、浮雕等极具光泽感的多色立体动态图像效果，防伪效果佳；防伪证卡的双面设置紧密精密微结构防伪效果，更能实现有效防伪，并且提高防伪证卡的表现力。
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公开(公告)号：CN119493268A
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202311039282.1
申请日：2023-08-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏大维格(盐城)光电科技有限公司
Abstract: 本申请实施例提供了一种微透镜阵列离散型放大图像的制作方法及光学成像薄膜，包括：确定图文层中各图文的初始中心点位置及各图文的初始周期；对光学成像薄膜所要呈现的立体图像进行建模，得到立体模型；根据立体模型各点的高度确定立体模型各点的周期；根据各图文的目标周期及各图文的初始中心点位置，对各图文的中心点位置进行调整，获得各图文的目标中心位置；根据各图文的目标周期和微透镜的周期，获得各图文的放大率；制作图文的基准图形，根据预期各显示图形的大小，及对应的各图文的放大率，获得各图文的目标图形；将各图文的目标图形设置在目标中心位置，以形成图文层。
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公开(公告)号：CN118474330A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202310085843.5
申请日：2023-02-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: H04N13/305
Abstract: 本申请涉及印刷技术领域，具体公开一种3D集成成像装置及其制备方法。3D集成成像装置包括立体结构层、间隔层及微透镜阵列，间隔层具有预设厚度，立体结构层设置于所述间隔层的一侧表面，所述立体结构层包括复数个微纳结构单元，微透镜阵列设置于所述间隔层远离所述立体结构层的一侧表面，微透镜阵列包括复数个微透镜，所述微纳结构单元与所述微透镜一一对应，所述微纳结构单元的正视图案为目标立体图像分层后，每层图像根据不同景深在所述微透镜下成像的图像的叠加。通过控制间隔层的厚度可以控制微透镜阵列的顶点到立体结构层之间的距离，进而控制像的景深，具有调节再现像的景深效果的功能。
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公开(公告)号：CN114445516A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202011201840.6
申请日：2020-11-02
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明涉及的磨砂效果的制备方法，包括：S1、采用图文处理软件通过随机点组合得到具有若干像素点的随机图案，像素点为方形点；S2、加入若干单点模板，用单点模板替换像素点，得到磨砂效果图案；S3、依据磨砂效果图案，在胶版上进行光刻得到磨砂效果。磨砂效果图案的随机点的形状更为多样化同时降低了设计的难度；光刻后的随机点之间相互独立，磨砂效果比较细腻，无颗粒感；胶版内具有凸起结构或凹陷结构的光滑槽型；且制备方法，操作简单，可得到不同磨砂通透感、层次感和渐消等磨砂效果。
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