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公开(公告)号：CN118131476A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号：CN112684677B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN202110270751.5
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。这样，可以得到任意三维微纳形貌结构。
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公开(公告)号：CN112014914A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201910461031.X
申请日：2019-05-30
Applicant: 苏州迈塔光电科技有限公司 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种光学膜片，包括基层及设置在所述基层上的微纳结构层，所述微纳结构层包括至少一个第一结构区和至少一个第二结构区，所述第一结构区包括复数个微纳子结构，所述微纳子结构包括第一凸起结构和/或第一凹槽结构；所述第二结构区包括复数个微纳结构单元，所述微纳结构单元包括周期性排布的条纹结构，所述条纹结构包括第二凸起结构和/或第二凹槽结构。通过设置有至少一个第一结构区及至少一个第二结构区，使得光学膜片既有亮银光影效果，又有镭射效果，具有很好的装饰及辨识效果。
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公开(公告)号：CN111844735A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201910339444.0
申请日：2019-04-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/223 , B29C64/30 , B29C64/321 , G03F7/20 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y40/20
Abstract: 本发明提供一种激光直写和三维打印复合系统及其使用方法，所述复合系统包括传送机构、上料机构、透明支撑板、载物机构和成像机构。所述传送机构用于输送透明薄膜传送带，所述上料机构包括设置于所述透明薄膜传送带的上方的至少一个上料装置，所述透明支撑板可拆卸的设置于机台的投影窗口上方且位于所述透明薄膜传送带的下方，所述透明支撑板设置于机台的投影窗口上时，所述系统运行在三维打印模式，所述透明支撑板移除后，所述系统运行在激光直写模式。所述成像机构位于所述机台的投影窗口下方，用于产生预定投影图案。这样，所述复合系统其既可以实现三维打印，可满足生物医药领域对打印精度的要求，也可以支持激光直写。
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公开(公告)号：CN111844736A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201910340369.X
申请日：2019-04-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/336 , B29C64/245 , B29C64/194 , B22F3/105 , C12M3/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00
Abstract: 本发明提供一种三维打印系统、利用其制作金属微納结构和在薄膜衬底上制作微納结构的方法。所述三维打印系统包括：输送透明薄膜传送带输送的传送机构，上料机构，设置于机台的投影窗口上方的透明支撑板、载物机构和成像机构。所述上料机构包括设置于所述透明薄膜传送带的上方的至少一个上料装置，所述载物机构包括载物板和载物驱动部件，所述载物驱动部件驱动所述载物板靠近或远离所述透明薄膜传送带；所述成像机构位于所述机台的投影窗口下方，用于产生预定投影图案。本发明中的三维打印系统不仅可以实现正常的三维打印，还可以在薄膜衬底上制作微納结构，并且还可以制作金属微納结构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113515021A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110667771.6
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构。所述三维微纳形貌结构包括:基体；形成于所述基体上的至少一个三维微纳形貌单元，其中每个三维微纳形貌单元包括至少一个视觉高点，所述每个三维微纳形貌单元包括复数个从视觉高点开始斜坡形貌斜率按预设规律变化的环带。所述三维微纳形貌结构具有非常逼真的立体视觉。
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公开(公告)号：CN112684677A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202110270751.5
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。这样，可以得到任意三维微纳形貌结构。
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公开(公告)号：CN118915203A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202310500978.3
申请日：2023-05-06
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G02B3/00 , G02F1/1333 , G02F1/1337
Abstract: 本申请属于安全防伪技术领域，提出了一种基于液晶微透镜阵列的可切换光场防伪薄膜及其制备方法；该防伪薄膜包括基材层，基材层的上表面设置有配向层；所述配向层上设置有液晶微透镜阵列，所述液晶微透镜阵列包含复数个液晶微透镜；所述液晶微透镜会聚某一旋向圆偏振光，发散相反旋向圆偏振光；所述基材层下表面设置有由复数个微结构单元组成的图文微结构层；所述液晶微透镜与所述微结构单元一一对应。与普通微透镜相比，液晶微透镜能够满足切换不同圆偏振态的光，人眼观察到不同的像，达到可切换的光场防伪效果。
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公开(公告)号：CN118131476B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号：CN119310756A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202310848092.8
申请日：2023-07-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请实施例提供了一种荧光成像薄膜、防伪制品及荧光成像薄膜的制作方法，包括荧光层、间隔层和透镜层。其中，透镜层设置在间隔层的一侧，且该透镜层包括呈阵列排布的多个微透镜；荧光层设置在间隔层背向透镜层的一侧，间隔层用于将荧光层和透镜层间隔开，使荧光层至透镜层的距离满足透射焦距。该荧光层包括呈阵列排布的多个荧光部，荧光部中设置有荧光图案微结构，且荧光图案微结构填充有荧光材料。每个微透镜与每个荧光部对应设置。荧光成像薄膜使人们能够在光照下观察到荧光且悬浮的图像，获得丰富的视觉效果和优良的防伪效果。
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