公开(公告)号：CN117769466A

公开(公告)日：2024-03-26

申请号：CN202280053475.X

申请日：2022-07-18

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： 刘研 ,  刘羽轩 ,  C·凡卡拉曼 ,  C·瓦尔德弗里德

IPC: B05D7/24 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  B05D1/02 ,  B05D1/28 ,  B05D3/02 ,  B05D3/06

Abstract: 描述用于施加固化聚合物覆盖涂层到表面上，明确来说用于施加覆盖涂覆固化聚合物涂层到可用作用于处理半导体晶片的静电卡盘的衬底的表面上的技术。通过施加液体喷雾溶液涂层到静电卡盘的整个表面上且然后在覆盖涂层的整个表面区域上固化所述覆盖涂层的聚合物而制备所述固化聚合物覆盖涂层。

公开(公告)号：CN115831849A

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN202211133065.4

申请日：2022-09-16

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： C·瓦尔德弗里德 ,  J·莱辛斯基 ,  F·波帕 ,  M·亚尔迪兹利

IPC: H01L21/683 ,  B22F10/28 ,  B33Y10/00 ,  B33Y80/00

Abstract: 本申请案涉及静电吸盘及相关方法及结构。描述用于在处理工件的步骤期间支撑所述工件的静电吸盘及通过增材制造技术制备的静电吸盘底座组件。

公开(公告)号：CN114695239A

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN202111648506.X

申请日：2021-12-30

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： C·凡卡拉曼 ,  S·西里尼亚诺 ,  刘研 ,  S·古达蒂 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  M·利维 ,  J·莱辛斯基 ,  C·瓦尔德弗里德

IPC: H01L21/683 ,  B33Y80/00

Abstract: 本申请案涉及一种通过增材制造来制备的静电吸盘以及相关方法及结构。描述用于在加工工件的步骤期间支撑所述工件的静电吸盘以及通过增材制造技术制备的静电吸盘底座组件。

公开(公告)号：CN113930746A

公开(公告)日：2022-01-14

申请号：CN202111192285.X

申请日：2016-02-13

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： B·C·亨德里克斯 ,  D·W·彼得斯 ,  李卫民 ,  C·瓦尔德弗里德 ,  R·A·库克 ,  N·困达 ,  林奕宽

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  C23C16/04 ,  C23C16/56 ,  H01L21/67 ,  B01D39/20

Abstract: 本发明涉及用于增强衬底制品及装置的性质及性能的涂层。本发明描述适用于多种衬底制品、结构、材料及设备的涂层。在各种应用中，所述衬底包含金属表面，所述金属表面易于在其上形成此金属的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物，其中所述金属表面经配置以在使用中与气体、固体或液体接触，所述气体、固体或液体与所述金属表面进行反应以形成对所述衬底制品、结构、材料或设备有害的反应产物。所述金属表面涂覆有保护涂层，所述保护涂层防止所述经涂覆表面与所述反应性气体进行反应及/或以其它方式改进所述衬底制品或设备的电性质、化学性质、热性质或结构性质。描述涂覆所述金属表面及用于选择所利用的涂层材料的各种方法。

公开(公告)号：CN111566255A

公开(公告)日：2020-08-21

申请号：CN201880086065.9

申请日：2018-12-18

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： 林奕宽 ,  C·文卡特拉曼 ,  C·瓦尔德弗里德

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/40 ,  C23C16/44 ,  C23C16/458 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明描述了多层涂层、涂有多层涂层的基板(即，物品)以及通过原子层沉积制备多层涂层的方法，其中所述涂层包括氧化铝层和氧化钇层。

公开(公告)号：CN111108070A

公开(公告)日：2020-05-05

申请号：CN201880060835.2

申请日：2018-09-21

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： T·史考金斯 ,  R·G·谢佩德 ,  C·瓦尔德弗里德

IPC: C03B11/06 ,  C03B23/03

Abstract: 本发明描述玻璃形成模具，其由石墨模具本体及通过原子层沉积形成的涂层制成，其中所述涂层由氧化铝或氧化铝及氧化钇的组合制成。

公开(公告)号：CN108780773A

公开(公告)日：2018-11-09

申请号：CN201780015129.1

申请日：2017-02-02

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： 林奕宽 ,  C·瓦尔德弗里德 ,  J·M·格拉斯科欧

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01L21/6833 ,  H01L21/6831

Abstract: 本发明涉及一种具有整体非弧形顶表面状突部的静电吸盘，所述突部具有与椭圆的部分类似的边缘表面。所述突部的结构导致由所支撑衬底与所述吸盘之间的交互生成的微粒材料减少。通过改善所述突部表面的平滑化及平坦化来达成降低刮擦、打磨、磨损及微粒生成的水平。

公开(公告)号：CN220069926U

公开(公告)日：2023-11-24

申请号：CN202222622171.0

申请日：2022-09-30

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： C·瓦尔德弗里德

IPC: A61F2/00 ,  A61F2/82 ,  A61M25/00 ,  A61B17/00 ,  A61M25/10 ,  A61F2/24 ,  A61F2/02 ,  A61N1/39 ,  A61N1/362 ,  A61N1/36 ,  B33Y80/00

Abstract: 一些实施例涉及增材制造3D制品及相关医疗装置。所述制品可包括增材制造3D主体。所述增材制造3D主体可包括镁组分。所述增材制造3D主体可具有不能通过机械加工构造的整体结构。所述制品可在所述增材制造3D主体的表面处及下方具有钝化层。所述钝化层可包括氟化镁。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN220046187U

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202222623055.0

申请日：2022-09-30

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： C·瓦尔德弗里德

IPC: A61F2/00 ,  A61F2/82 ,  A61M25/00 ,  A61B17/00 ,  A61M25/10 ,  A61F2/24 ,  A61F2/02 ,  A61N1/39 ,  A61N1/362 ,  A61N1/36 ,  B33Y80/00

Abstract: 一些实施例涉及增材制品及相关医疗装置。所述增材制品可包括增材制造三维3D主体。所述增材制造3D主体可具有不能通过机械加工构造的整体结构。所述增材制造3D主体可在所述增材制造3D主体的表面上具有涂层。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN217239427U

公开(公告)日：2022-08-19

申请号：CN202123432100.6

申请日：2021-12-30

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： C·凡卡拉曼 ,  S·西里尼亚诺 ,  刘研 ,  S·古达蒂 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  M·利维 ,  J·莱辛斯基 ,  C·瓦尔德弗里德

IPC: H01L21/683 ,  B33Y80/00

Abstract: 本申请案涉及一种吸盘底座。具有所述吸盘底座的所述静电吸盘用于在加工工件的步骤期间支撑所述工件。所述静电吸盘底座组件通过增材制造技术制备。