一种柔性基板半嵌入式栅极薄膜晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN111129161A

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201911353459.9

    申请日:2019-12-25

    Abstract: 本发明属于薄膜晶体管技术领域,公开了一种柔性基板半嵌入式栅极薄膜晶体管及其制备方法。所述薄膜晶体管包括柔性基板和柔性基板上的栅极,所述柔性基板上设有矩形凹槽,所述栅极下部矩形区域刚好嵌入至矩形凹槽内,栅极上部梯形区域凸出于矩形凹槽外。与现有的堆栈式底栅顶接触的薄膜晶体管和全嵌入式栅极的薄膜晶体管结构相比,本发明有利于绝缘层薄膜和有源层薄膜的内部及接触界面的缺陷减少,提高器件的性能。且本发明在对嵌入栅极后的柔性基板进行表明清洗时,可有效去除可能存在于凹槽内边角处的杂质和清洗剂,洁净度更高,器件质量更好。

    一种可变空间密度型的多色墨阵列化电喷印头及其控制方法

    公开(公告)号:CN114347657B

    公开(公告)日:2022-12-16

    申请号:CN202111623422.0

    申请日:2021-12-28

    Abstract: 本发明公开了一种可变空间密度型的多色墨阵列化电喷印头及其控制方法。本可变空间密度型的多色墨阵列化电喷印头包括多个喷头容体、多个电喷印头、横梁、多个平移模块、切换模块、驱动模块;电喷印头与喷头容体连接;喷头容体内部设有多个电喷印头,喷头容体顶部与平移模块连接、底部与切换模块连接;横梁与平移模块连接;平移模块与驱动模块连接;切换模块用于驱动电喷印头绕喷头容体中轴线进行旋转;驱动模块用于驱动平移模块在横梁内平移。本发明的有益效果在于,避免了阵列式电喷印头的单一分辨率缺陷,便于组装和卸载,可以切换不同的色墨进行喷印,避免了现有电流体动力喷印技术中需要反复取针充墨的问题。

    基于电磁耦合作用的柔性可变尺寸微压电喷头及调节方法

    公开(公告)号:CN113459671B

    公开(公告)日:2022-04-22

    申请号:CN202110717843.3

    申请日:2021-06-28

    Abstract: 本发明公开了一种基于电磁耦合作用的柔性可变尺寸微压电喷头及调节方法,该喷头包括:流体输入管、螺纹直插头、固定密封组件、流道、压电主体、底座、强电螺纹管主体、喷嘴固定座和喷嘴主体;流体输入管同轴插入螺纹直插头内,压电主体在流道中产生按需式喷墨;强电螺纹管主体包括芯柱和强电螺线管,强电螺线管同轴围绕在芯柱上;喷嘴主体包括弱电螺线管、内侧柔性壁和喷嘴,弱电螺线管同轴围绕内侧柔性壁,弱电螺线管的内壁与内侧柔性壁的外壁贴合,弱电螺线管与强电螺线管处于同条轴线上;调节强、弱电螺线管的电流方向与大小,完成喷嘴尺寸大小调节。本发明实现传统压电喷头无法印刷的亚微米尺寸目标,并将同型号压电喷头拓宽至不同印刷场合。

    一种用于印刷OLED器件的压电控制系统及优化方法

    公开(公告)号:CN113211980A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN202110430569.1

    申请日:2021-04-21

    Abstract: 本发明公开了一种用于印刷OLED器件的压电控制系统及优化方法,系统通过上位机控制主像素墨滴喷射系统喷射有机材料,以在OLED基板表面上印刷形成机发光层,同时,空位像素监测系统实时采集印刷过程中OLED基板的像素群图像,并将像素群图像发送给上位机;上位机找出图像中的空位像素点以及空位像素点在OLED基板中的对应位置,并控制空位像素补偿系统对OLED基板中的空位像素点对应位置进行填补印刷,以消除有机发光层中的缺陷,达到优化印刷OLED制程的目的,避免了印刷OLED过程中由于少数空位像素导致的器件良品率低下的问题,可有效提升印刷OLED的工艺稳定性,进一步推进印刷OLED技术替代蒸镀技术的进度。

    一种晶型及厚度可控的二氧化锆薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN111455324A

    公开(公告)日:2020-07-28

    申请号:CN202010315773.4

    申请日:2020-04-21

    Abstract: 本发明属于薄膜材料制备技术领域,公开了一种晶型及厚度可控的二氧化锆薄膜的制备方法。以氧化锆为靶材,将玻璃基片放置在基板上,将真空腔室抽至2×10-4~5×10-4Pa,调整靶材与基板之间的距离,设置脉冲频率为4~6Hz,激光能量为150~350mJ,采用非圆形的激光光斑照射靶材,预沉积1~3min后将脉冲数设置为10000~30000次继续沉积,然后在空气环境中热退火,退火温度为300~400℃,得到晶型及厚度可控的二氧化锆薄膜。本发明通过激光光斑的形状及基片放置的位置调控薄膜晶型,通过沉积时的脉冲数及靶材-基板距离等调节厚度,可以实现一次制样得到不同晶型及厚度的氧化锆薄膜。

    一种WO3电致变色薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN111039573A

    公开(公告)日:2020-04-21

    申请号:CN201911352145.7

    申请日:2019-12-23

    Abstract: 本发明属于电致变色薄膜的技术领域,公开了一种WO3电致变色薄膜及其制备方法。所述方法:1)采用浓氨水将纳米氧化钨配成前驱体溶液;2)将前驱体溶液滴加至转动的衬底上,滴加完后,加大衬底的转速继续旋转,获得薄膜;3)将薄膜进行预退火;4)将预退火后的薄膜在空气氛围中进行快速退火,获得WO3电致变色薄膜。本发明的方法简单,原料成本低,溶液稳定性高,制备的薄膜均匀平滑,而且薄膜电致变色性能好。

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