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公开(公告)号:CN116445044A
公开(公告)日:2023-07-18
申请号:CN202310261443.5
申请日:2023-03-17
Applicant: 华南理工大学
IPC: C09D129/04 , H01B13/00 , H01B5/14 , C09D7/61
Abstract: 本发明属于电子技术领域,具体涉及一种复合结构柔性透明介电层及其低温制备方法与应用。将含有铪、镁、钛、钇、锆的前驱体溶液与含有极性基团的有机大分子前驱体溶液等体积混合,分散均匀,旋涂于衬底上,进行预退火,然后进行热退火,得到所述的复合结构柔性透明介电层。本发明通过结合低漏电流的高熵金属氧化物薄膜和高抗弯折性的有机大分子来制备柔性介电层。两者通过配位螯合以及氧化还原反应形成稳定的网络结构,可以增加薄膜抗弯折的能力,并且降低退火温度,使其符合柔性基板的要求。
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公开(公告)号:CN116445044B
公开(公告)日:2024-02-06
申请号:CN202310261443.5
申请日:2023-03-17
Applicant: 华南理工大学
IPC: C09D129/04 , H01B13/00 , H01B5/14 , C09D7/61
Abstract: 本发明属于电子技术领域,具体涉及一种复合结构柔性透明介电层及其低温制备方法与应用。将含有铪、镁、钛、钇、锆的前驱体溶液与含有极性基团的有机大分子前驱体溶液等体积混合,分散均匀,旋涂于衬底上,进行预退火,然后进行热退火,得到所述的复合结构柔性透明介电层。本发明通过结合低漏电流的高熵金属氧化物薄膜和高抗弯折性的有机大分子来制备柔性介电层。两者通过配位螯合以及氧化还原反应形成稳
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公开(公告)号:CN114919291A
公开(公告)日:2022-08-19
申请号:CN202210503784.4
申请日:2022-05-10
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种异极性双电喷头装置及其喷印方法。本异极性双电喷头装置包括第一电喷印模块、第二电喷印模块、气筒、安装模块。第一电喷印模块、第二电喷印模块、气筒均分别与安装模块连接。第一电喷印模块、第二电喷印模块均分别设有电极电针。第一电喷印模块、第二电喷印模块各自的电极电针分别设为相反电性的电极。气筒设有接地极电针。接地极电针设于气筒中轴线上。气筒用于输出保护气体。第一电喷印模块、第二电喷印模块分别设于气筒的两侧。第一电喷印模块、第二电喷印模块各自喷射墨滴的方向均分别与气筒输出保护气体的方向形成夹角。本发明的有益效果在于,避免现有电流体喷印后墨滴出现滑移偏离沉积位置的问题。
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公开(公告)号:CN114919291B
公开(公告)日:2023-03-21
申请号:CN202210503784.4
申请日:2022-05-10
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种异极性双电喷头装置及其喷印方法。本异极性双电喷头装置包括第一电喷印模块、第二电喷印模块、气筒、安装模块。第一电喷印模块、第二电喷印模块、气筒均分别与安装模块连接。第一电喷印模块、第二电喷印模块均分别设有电极电针。第一电喷印模块、第二电喷印模块各自的电极电针分别设为相反电性的电极。气筒设有接地极电针。接地极电针设于气筒中轴线上。气筒用于输出保护气体。第一电喷印模块、第二电喷印模块分别设于气筒的两侧。第一电喷印模块、第二电喷印模块各自喷射墨滴的方向均分别与气筒输出保护气体的方向形成夹角。本发明的有益效果在于,避免现有电流体喷印后墨滴出现滑移偏离沉积位置的问题。
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公开(公告)号:CN114355693A
公开(公告)日:2022-04-15
申请号:CN202111586266.5
申请日:2021-12-20
Applicant: 华南理工大学
IPC: G02F1/163
Abstract: 本发明公开了一种用于电致变色器件的电荷补偿装置及控制方法,其中,电荷补偿装置包括霍尔传感器、透过率传感器、充电模块,其中,霍尔传感器、透过率传感器分别与测试元件相连,该测试元件为电致变色器件,霍尔传感器和透过率传感器对电致变色器件的透过率和残余电压进行检测,然后将测试信号输出到充电模块,若透过率超出指定阈值或者残余电压大于0,充电模块对电致变色器件进行电荷补偿,直至电致变色器件的无电荷积累褪色完全。本发明有效解决了电致变色器件褪色残余与电荷积累的问题,进而提高了电致变色器件的寿命。
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公开(公告)号:CN116607045A
公开(公告)日:2023-08-18
申请号:CN202310383411.2
申请日:2023-04-12
Applicant: 华南理工大学
IPC: C22C9/00 , C23C14/35 , C23C14/20 , C23C14/58 , C23C14/02 , H01L29/49 , H01L21/285 , H01L29/786
Abstract: 本发明属于新型电子器件制备技术领域,公开了一种高反射高导电多组元合金电极薄膜以及其制备方法与应用。所述合金电极薄膜为铜基合金,成分为:Cu‑Cr‑Zr‑Ag,Cu元素的含量为99wt%‑99.8wt%,Cr元素的含量为0.12wt%‑0.3wt%,Zr元素的含量为0.05wt%‑0.2wt%,Ag元素的含量为0.1wt%‑0.2wt%。本发明通过银元素的引入,既保留了高结合强度以及阻止劣化性扩散的特点。同时银的加入优化了电极的导电性能,同时对于薄膜的表面形貌也起到了修饰作用,降低了表面粗糙度,提高了薄膜的反射率。同时,本发明采用双靶位磁控共溅射方法沉积薄膜,可通过改变功率自由调控薄膜中各组元成分。
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公开(公告)号:CN114179518B
公开(公告)日:2023-01-06
申请号:CN202111410677.9
申请日:2021-11-25
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种基于虹膜涡扇的微压电喷头及喷嘴孔径调控方法。本基于虹膜涡扇的微压电喷头包括待主动齿轮的微电机、与主动齿轮相互啮合的虹膜涡扇,设于虹膜涡扇上方的压电喷头。虹膜涡扇的外部通过一体成型的外从动齿轮和内从动齿轮,与主动齿轮啮合。虹膜涡扇的内部通过设有叶片齿轮的多个薄形金属叶片与内从动齿轮啮合,多个叶片相互重叠后形成孔径大小可调整了喷嘴。本发明的有益效果在于,可以灵活调整喷嘴的孔径大小,实现用一个压电喷头喷印不同精度大小的功能,满足多种喷印目标的需求。
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公开(公告)号:CN114388364A
公开(公告)日:2022-04-22
申请号:CN202111580209.6
申请日:2021-12-22
Applicant: 华南理工大学
IPC: H01L21/34 , H01L21/44 , H01L29/423 , H01L29/786
Abstract: 本发明公开了一种通过界面补偿消除柔性集成器件残余应力的方法。所述方法为:(1)通过氧气等离子处理衬底,提高衬底分子键合能力,实现PI与缓冲层的高粘附性;(2)利用沉积速率较温和的等离子体增强化学气相沉积制备SiOx/SiNx叠层薄膜,作为PI缓冲层、栅绝缘层和钝化层;SiOx/SiNx叠层薄膜与铜合金残余应力种类相反,可以相互补偿抵消,减少残余应力;(3)铜合金电极在高温退火后,微量掺杂的CrZr被排出晶格,在半导体/电极界面处与铟锌反应吸收能量,可以将部分界面残余应力的机械能转化为化学能,可以进一步消除残余应力。本发明所提出的工艺路径可以从制备器件的源头消除残余应力,是一种行之有效的方法。
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公开(公告)号:CN114179518A
公开(公告)日:2022-03-15
申请号:CN202111410677.9
申请日:2021-11-25
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种基于虹膜涡扇的微压电喷头及喷嘴孔径调控方法。本基于虹膜涡扇的微压电喷头包括待主动齿轮的微电机、与主动齿轮相互啮合的虹膜涡扇,设于虹膜涡扇上方的压电喷头。虹膜涡扇的外部通过一体成型的外从动齿轮和内从动齿轮,与主动齿轮啮合。虹膜涡扇的内部通过设有叶片齿轮的多个薄形金属叶片与内从动齿轮啮合,多个叶片相互重叠后形成孔径大小可调整了喷嘴。本发明的有益效果在于,可以灵活调整喷嘴的孔径大小,实现用一个压电喷头喷印不同精度大小的功能,满足多种喷印目标的需求。
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公开(公告)号:CN114388364B
公开(公告)日:2024-11-05
申请号:CN202111580209.6
申请日:2021-12-22
Applicant: 华南理工大学
IPC: H01L21/34 , H01L21/44 , H01L29/423 , H01L29/786
Abstract: 本发明公开了一种通过界面补偿消除柔性集成器件残余应力的方法。所述方法为:(1)通过氧气等离子处理衬底,提高衬底分子键合能力,实现PI与缓冲层的高粘附性;(2)利用沉积速率较温和的等离子体增强化学气相沉积制备SiOx/SiNx叠层薄膜,作为PI缓冲层、栅绝缘层和钝化层;SiOx/SiNx叠层薄膜与铜合金残余应力种类相反,可以相互补偿抵消,减少残余应力;(3)铜合金电极在高温退火后,微量掺杂的CrZr被排出晶格,在半导体/电极界面处与铟锌反应吸收能量,可以将部分界面残余应力的机械能转化为化学能,可以进一步消除残余应力。本发明所提出的工艺路径可以从制备器件的源头消除残余应力,是一种行之有效的方法。
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