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公开(公告)号：CN101955453A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN201010234016.0
申请日：2010-07-12
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C53/10 , C07C61/135 , C07C62/24 , C07D333/76 , C07C63/08 , C07C63/36 , C08F220/18 , C08F220/38 , C08F212/14 , G03F7/004 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/066 , C07C62/22 , C07C63/08 , C07C69/63 , C07C69/712 , C07C69/753 , C07C69/757 , C07C205/57 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/76 , C08F8/12 , C08F12/24 , C08F20/38 , C08F28/02 , C08F28/06 , C08F212/14 , C08F220/18 , C09D125/18 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/38 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , C08F12/22 , C08F2220/1883 , C08F2220/1891 , C08F220/20 , C08F2220/283 , C08F220/38
Abstract: 一种如通式(I-Pb)所示的盐：其中XPb表示单键或-O-；RPb表示单键等；YPb表示可聚合的基团；ZPb表示有机基团；XPc表示单键或C1-C4亚烷基；以及RPc表示可具有一个以上取代基的C1-C10脂肪烃基等。
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公开(公告)号：CN101898984A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN201010188195.9
申请日：2010-05-25
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07C323/20 , C07C309/17 , C07D307/00 , G03F7/004 , G03F7/00
CPC classification number: C07D493/18 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D307/33 , C07D307/77 , C07D307/93 , C07D309/06 , C07D309/30 , C07D313/04 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392
Abstract: 本发明提供盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物。一种由式(I-BB)表示的盐，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子等，X1表示单键等，Y1表示C1-C36脂族烃基等，A1和A2各自独立地表示C1-C20脂族烃基等，Ar1表示可以具有一个或多个取代基的(m4+1)价C6-C20芳族烃基，B1表示单键等，B2表示具有一个或多个-OXa基团并且不能通过酸的作用消除的C4-C36脂环族烃基等，并且Xa表示氢原子或能通过酸的作用消除的基团，m1和m2各自独立地表示0至2的整数，m3表示1至3的整数，条件是m1+m2+m3＝3，并且m4表示1至3的整数。
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公开(公告)号：CN101493541A
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200910009724.1
申请日：2009-01-23
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/30 , C08F283/00 , C08G18/32 , C08G18/40 , C08G18/28 , C08G18/72 , C08G18/83 , C08L75/04 , C08L33/10 , C08L33/12 , C08L39/04 , C08L25/08 , C08L33/08 , C08L33/26 , C08L33/02 , C08J5/18
Abstract: 一种光学膜及该光学膜的制造方法，所述光学膜含有具有如下结构单元的树脂，所述结构单元为：来自选自式(I)～式(VI)表示的单体中的1种以上的单体(1)的结构单元；和来自使具有脂环式烃骨架的聚异氰酸酯化合物以及多元醇化合物反应而得到的化合物(2)的结构单元。
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公开(公告)号：CN1958660A
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200610143606.6
申请日：2006-11-02
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08L33/08 , C08L33/10 , C09J133/08 , C09J133/10 , G02B1/00 , G02B5/30 , B32B37/12
Abstract: 提供适于即使在高湿热条件下以及重复加热－冷却时，也不产生光学叠层体的外观变化的耐久性优异的胶粘剂的丙烯酸树脂组合物，其相对于(1)和(2)100份，含有10份～50份的(1)，其中(1)中所含有的羟基浓度[b]、(2)中所含有的羟基浓度[b′]和该组合物中所含有的极性官能团浓度[c]的关系满足下式：6≤[b/(b+b′+c)]≤50；(1)：以(甲基)丙烯酸酯(a)为主要成分，含有0.1mol％～10mol％的(b)的分子量为50000～500000的丙烯酸树脂；(2)以(a)为主要成分，含有0.5mol％～8mol％的(c)的分子量为1000000～1500000的丙烯酸树脂；(b)：含有羟基和烯属双键的单体；(c)：分子内含有极性官能团和烯属双键的单体。
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公开(公告)号：CN114995059A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202210663127.6
申请日：2016-03-31
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题涉及提供一种可以制造形状良好并且抗裂性良好的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物的目的。其解決手段为抗蚀剂组合物，其含有：具有对酸不稳定基团的树脂、含有式(I)所示的结构单元的树脂、产酸剂和溶剂。[式中、Ri41为氢原子或甲基；Ri42为碳原子数2～7的酰基或氢原子、可被羟基取代的碳原子数1～10的烃基；Ri43为碳原子数1～6的烷基或碳原子数1～6的烷氧基；p为0～4的整数；Z表示含有式(Ia)所示的基团的碳原子数3～20的2价烃基，该烃基的亚甲基可替换为氧原子、硫原子、羰基。＊为与氧原子的键合位点；w和r各自独立地表示1～10的整数，其中，w为1时，Ri42为碳原子数2～7的酰基。]。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113296357A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202110189234.5
申请日：2021-02-19
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种对镀敷处理具有充分的耐性且能够精度优良地形成抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物。并提供使用了该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的制造方法、以及使用了该抗蚀剂图案的镀敷造型物的制造方法。本发明涉及含有具有醌二叠氮基磺酰基的化合物(I)、包含具有对酸不稳定的基团的结构单元的树脂(A1)、碱可溶性树脂(A2)及酸产生剂(B)的抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物制造抗蚀剂图案的方法、以及使用该抗蚀剂图案制造镀敷造型物的方法。
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公开(公告)号：CN103454857B
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201310198534.5
申请日：2013-05-24
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：树脂，所述树脂显示通过酸的作用在碱性水溶液中的溶解度增加；酸生成剂；由式(I)表示的化合物；和溶剂，所述溶剂的量为所述光致抗蚀剂组合物的总量的40至75质量％：其中所述环W1是含氮杂环，或具有取代或未取代的氨基的苯环，A1表示苯基或萘基，并且n表示2或3的整数。
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公开(公告)号：CN106918990A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201611114494.1
申请日：2016-12-06
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/039 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2220/282 , C08F2220/286 , G03F7/004 , G03F7/0035
Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：具有由式(I)表示的结构单元的树脂：其中，R1表示氢原子、卤原子、或任选具有卤原子的C1至C6烷基，且R2表示任选具有取代基的C1至C42烃基；碱溶性树脂；酸生成剂；和溶剂。
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公开(公告)号：CN106019832A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610200067.9
申请日：2016-03-31
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: C08F216/10 , C08F212/02 , C08F216/12 , C08F216/14 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0751 , G03F7/085 , G03F7/004 , G03F7/00
Abstract: 本发明的课题涉及提供一种可以制造形状良好并且抗裂性良好的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物的目的。其解決手段为抗蚀剂组合物，其含有：具有对酸不稳定基团的树脂、含有式(I)所示的结构单元的树脂、产酸剂和溶剂。[式中、Ri41为氢原子或甲基；Ri42为碳原子数2～7的酰基或氢原子、可被羟基取代的碳原子数1～10的烃基；Ri43为碳原子数1～6的烷基或碳原子数1～6的烷氧基；p为0～4的整数；Z表示含有式(Ia)所示的基团的碳原子数3～20的2价烃基，该烃基的亚甲基可替换为氧原子、硫原子、羰基。＊为与氧原子的键合位点；w和r各自独立地表示1～10的整数，其中，w为1时，Ri42为碳原子数2～7的酰基]。
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