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公开(公告)号：CN106019833B
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201610200291.8
申请日：2016-03-31
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题的目的是提供能够制造具有优异的形状、从曝光到加热处理为止的后曝光放置时间(PED)所引起的抗蚀图案尺寸变化小的抗蚀图案的抗蚀剂组合物。其解决手段为一种抗蚀剂组合物，含有：含式(I)表示的结构单元的树脂、碱溶性树脂、产酸剂和溶剂。[式(I)中，Ri51表示氢原子或甲基。Ri52和Ri53各自独立地表示氢原子或碳原子数1～12的烃基。Ri54表示碳原子数5～20的脂环式烃基。Ri55表示碳原子数1～6的烷基或碳原子数1～6的烷氧基。p表示0～4的整数。p为2以上时，多个Ri55可彼此相同或不同。]。
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公开(公告)号：CN103488048A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201310218296.X
申请日：2013-06-04
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/20 , Y10S430/113
Abstract: 本发明公开了一种光致抗蚀剂组合物，其包含：树脂，所述树脂显示通过酸的作用在碱性水溶液中的溶解度增加；酸生成剂；增塑剂；和溶剂，所述溶剂的量为所述光致抗蚀剂组合物的总量的40至75质量％。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106019831B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN201610200060.7
申请日：2016-03-31
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题涉及提供可制造形状良好且脱模性优异的抗蚀图案的抗蚀剂组合物的目的。其解决手段为抗蚀剂组合物，其含有具有对酸不稳定基团的树脂、产酸剂、具有2个以上的酚性羟基的化合物(其中，不包括树脂)和溶剂。例如具有对酸不稳定基团的树脂为含有式(a1‑2)所示的结构单元的树脂。#imgabs0#[式中，Ra1’和Ra2’各自独立地表示氢原子或烃基；Ra3’表示烃基，或者Ra1’表示氢原子或烃基，Ra2’和Ra3’互相键合表示2价烃基，所述烃基所含的亚甲基可替换为氧原子或硫原子；Ra5表示氢原子或甲基；Ra6表示烷基或烷氧基；mx表示0～4的整数]。
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公开(公告)号：CN106019833A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610200291.8
申请日：2016-03-31
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/085 , G03F7/004 , G03F7/0035
Abstract: 本发明的课题的目的是提供能够制造具有优异的形状、从曝光到加热处理为止的后曝光放置时间(PED)所引起的抗蚀图案尺寸变化小的抗蚀图案的抗蚀剂组合物。其解决手段为一种抗蚀剂组合物，含有：含式(I)表示的结构单元的树脂、碱溶性树脂、产酸剂和溶剂。[式(I)中，Ri51表示氢原子或甲基。Ri52和Ri53各自独立地表示氢原子或碳原子数1～12的烃基。Ri54表示碳原子数5～20的脂环式烃基。Ri55表示碳原子数1～6的烷基或碳原子数1～6的烷氧基。p表示0～4的整数。p为2以上时，多个Ri55可彼此相同或不同。]。
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公开(公告)号：CN106019831A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610200060.7
申请日：2016-03-31
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0751 , G03F7/085 , G03F7/30 , G03F7/004 , G03F7/00
Abstract: 本发明的课题涉及提供可制造形状良好且脱模性优异的抗蚀图案的抗蚀剂组合物的目的。其解决手段为抗蚀剂组合物，其含有具有对酸不稳定基团的树脂、产酸剂、具有2个以上的酚性羟基的化合物(其中，不包括树脂)和溶剂。例如具有对酸不稳定基团的树脂为含有式(a1‑2)所示的结构单元的树脂。[式中，Ra1’和Ra2’各自独立地表示氢原子或烃基；Ra3’表示烃基，或者Ra1’表示氢原子或烃基，Ra2’和Ra3’互相键合表示2价烃基，所述烃基所含的亚甲基可替换为氧原子或硫原子；Ra5表示氢原子或甲基；Ra6表示烷基或烷氧基；mx表示0～4的整数。]。
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公开(公告)号：CN113296357A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202110189234.5
申请日：2021-02-19
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种对镀敷处理具有充分的耐性且能够精度优良地形成抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物。并提供使用了该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的制造方法、以及使用了该抗蚀剂图案的镀敷造型物的制造方法。本发明涉及含有具有醌二叠氮基磺酰基的化合物(I)、包含具有对酸不稳定的基团的结构单元的树脂(A1)、碱可溶性树脂(A2)及酸产生剂(B)的抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物制造抗蚀剂图案的方法、以及使用该抗蚀剂图案制造镀敷造型物的方法。
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