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公开(公告)号：CN106019833B
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201610200291.8
申请日：2016-03-31
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题的目的是提供能够制造具有优异的形状、从曝光到加热处理为止的后曝光放置时间(PED)所引起的抗蚀图案尺寸变化小的抗蚀图案的抗蚀剂组合物。其解决手段为一种抗蚀剂组合物，含有：含式(I)表示的结构单元的树脂、碱溶性树脂、产酸剂和溶剂。[式(I)中，Ri51表示氢原子或甲基。Ri52和Ri53各自独立地表示氢原子或碳原子数1～12的烃基。Ri54表示碳原子数5～20的脂环式烃基。Ri55表示碳原子数1～6的烷基或碳原子数1～6的烷氧基。p表示0～4的整数。p为2以上时，多个Ri55可彼此相同或不同。]。
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公开(公告)号：CN106019832B
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN201610200067.9
申请日：2016-03-31
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题涉及提供一种可以制造形状良好并且抗裂性良好的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物的目的。其解決手段为抗蚀剂组合物，其含有：具有对酸不稳定基团的树脂、含有式(I)所示的结构单元的树脂、产酸剂和溶剂。[式中、Ri41为氢原子或甲基；Ri42为碳原子数2～7的酰基或氢原子、可被羟基取代的碳原子数1～10的烃基；Ri43为碳原子数1～6的烷基或碳原子数1～6的烷氧基；p为0～4的整数；Z表示含有式(Ia)所示的基团的碳原子数3～20的2价烃基，该烃基的亚甲基可替换为氧原子、硫原子、羰基。＊为与氧原子的键合位点；w和r各自独立地表示1～10的整数，其中，w为1时，Ri42为碳原子数2～7的酰基]。
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公开(公告)号：CN106019833A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610200291.8
申请日：2016-03-31
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/085 , G03F7/004 , G03F7/0035
Abstract: 本发明的课题的目的是提供能够制造具有优异的形状、从曝光到加热处理为止的后曝光放置时间(PED)所引起的抗蚀图案尺寸变化小的抗蚀图案的抗蚀剂组合物。其解决手段为一种抗蚀剂组合物，含有：含式(I)表示的结构单元的树脂、碱溶性树脂、产酸剂和溶剂。[式(I)中，Ri51表示氢原子或甲基。Ri52和Ri53各自独立地表示氢原子或碳原子数1～12的烃基。Ri54表示碳原子数5～20的脂环式烃基。Ri55表示碳原子数1～6的烷基或碳原子数1～6的烷氧基。p表示0～4的整数。p为2以上时，多个Ri55可彼此相同或不同。]。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114995059A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202210663127.6
申请日：2016-03-31
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题涉及提供一种可以制造形状良好并且抗裂性良好的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物的目的。其解決手段为抗蚀剂组合物，其含有：具有对酸不稳定基团的树脂、含有式(I)所示的结构单元的树脂、产酸剂和溶剂。[式中、Ri41为氢原子或甲基；Ri42为碳原子数2～7的酰基或氢原子、可被羟基取代的碳原子数1～10的烃基；Ri43为碳原子数1～6的烷基或碳原子数1～6的烷氧基；p为0～4的整数；Z表示含有式(Ia)所示的基团的碳原子数3～20的2价烃基，该烃基的亚甲基可替换为氧原子、硫原子、羰基。＊为与氧原子的键合位点；w和r各自独立地表示1～10的整数，其中，w为1时，Ri42为碳原子数2～7的酰基。]。
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公开(公告)号：CN113296357A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202110189234.5
申请日：2021-02-19
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种对镀敷处理具有充分的耐性且能够精度优良地形成抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物。并提供使用了该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的制造方法、以及使用了该抗蚀剂图案的镀敷造型物的制造方法。本发明涉及含有具有醌二叠氮基磺酰基的化合物(I)、包含具有对酸不稳定的基团的结构单元的树脂(A1)、碱可溶性树脂(A2)及酸产生剂(B)的抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物制造抗蚀剂图案的方法、以及使用该抗蚀剂图案制造镀敷造型物的方法。
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公开(公告)号：CN106918990A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201611114494.1
申请日：2016-12-06
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/039 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2220/282 , C08F2220/286 , G03F7/004 , G03F7/0035
Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：具有由式(I)表示的结构单元的树脂：其中，R1表示氢原子、卤原子、或任选具有卤原子的C1至C6烷基，且R2表示任选具有取代基的C1至C42烃基；碱溶性树脂；酸生成剂；和溶剂。
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公开(公告)号：CN106019832A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610200067.9
申请日：2016-03-31
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: C08F216/10 , C08F212/02 , C08F216/12 , C08F216/14 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0751 , G03F7/085 , G03F7/004 , G03F7/00
Abstract: 本发明的课题涉及提供一种可以制造形状良好并且抗裂性良好的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物的目的。其解決手段为抗蚀剂组合物，其含有：具有对酸不稳定基团的树脂、含有式(I)所示的结构单元的树脂、产酸剂和溶剂。[式中、Ri41为氢原子或甲基；Ri42为碳原子数2～7的酰基或氢原子、可被羟基取代的碳原子数1～10的烃基；Ri43为碳原子数1～6的烷基或碳原子数1～6的烷氧基；p为0～4的整数；Z表示含有式(Ia)所示的基团的碳原子数3～20的2价烃基，该烃基的亚甲基可替换为氧原子、硫原子、羰基。＊为与氧原子的键合位点；w和r各自独立地表示1～10的整数，其中，w为1时，Ri42为碳原子数2～7的酰基]。
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