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公开(公告)号：CN101898987A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN201010188189.3
申请日：2010-05-25
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C309/17 , C07C303/32 , C07D307/00 , G03F7/039 , G03F7/00
CPC classification number: C07C381/12 , C07C309/17 , C07C2601/04 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2602/08 , C07C2602/10 , C07C2602/42 , C07C2602/44 , C07C2603/68 , C07C2603/74 , C07C2603/86 , C07D307/77 , C07D307/93 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供：一种以式(I-CC)表示的盐，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子等，X1表示单键等，Y1表示C1-C36脂族烃基等，A1和A2各自独立地表示C1-C20脂族烃基等，Ar1表示可以具有一个或多个取代基的(m4+1)价C6-C20芳族烃基，B1表示单键等，B2表示能够通过酸的作用消除的基团，m1和m2各自独立地表示0至2的整数，m3表示1至3的整数，条件是m1+m2+m3＝3，并且m4表示1至3的整数；和一种光致抗蚀剂组合物，其包含以式(I-CC)表示的盐以及树脂，所述树脂包含具有酸不稳定基团的结构单元，并且不溶或难溶于碱水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱水溶液。
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公开(公告)号：CN101799629A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN201010114105.1
申请日：2010-02-04
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供化学放大型光致抗蚀剂组合物和形成图案的方法。化学放大型光致抗蚀剂组合物包含：由式(I)表示的酸生成剂(A)和树脂，所述树脂包括：衍生自通过酸的作用而在碱中成为可溶性的单体的结构单元(b1)，衍生自具有含至少2个羟基的金刚烷基的单体的结构单元(b2)和衍生自具有内酯环的单体的结构单元(b3)；式(I)中Q1和Q2独立地表示氟原子或C1至C6全氟烷基；X1表示单键或-[CH2]k-，在-[CH2]k-中含有的-CH2-可以被-O-或-CO代替，并且在-[CH2]k-中含有的氢原子可以被C1至C4脂族烃基代替；k表示整数1至17；Y1表示任选取代的C4至C36饱和环状烃基，在所述饱和环状烃基中含有的-CH2-可以被-O-或-CO代替；并且Z+表示有机阳离子。
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公开(公告)号：CN101899027A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN201010188312.1
申请日：2010-05-25
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07D307/33 , C07D307/00 , G03F7/039 , G03F7/00
CPC classification number: C07D307/80 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供一种盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物。一种以式(I-AA)表示的盐，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C4全氟烷基，X1表示单键等，Y1表示C1-C36脂族烃基等，A1和A2各自独立地表示C1-C20脂族烃基等，Ar1表示可以具有一个或多个取代基的(m4+1)价C6-C20芳族烃基，B1表示单键等，m1和m2各自独立地表示0至2的整数，m3表示1至3的整数，条件是m1+m2+m3＝3，并且m4表示1至3的整数，以及一种光致抗蚀剂组合物，其含有以式(I-AA)表示的盐和树脂，所述树脂包含具有酸不稳定基团的结构单元，并且不溶或难溶于碱水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱水溶液。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101490587A
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200780027030.X
申请日：2007-05-24
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/30 , C09J7/02 , C09J11/06 , C09J133/00
CPC classification number: G02B1/14 , C09J7/29 , C09J2201/162 , C09J2423/006 , C09J2433/00 , G02B1/105 , G02B5/3033 , G02F2202/28 , Y10T428/1041 , Y10T428/26 , Y10T428/31786 , Y10T428/31938
Abstract: 本发明提供一种带有粘合剂的偏振薄膜(10)，其具有由非晶性环状聚烯烃系树脂薄膜(12)/偏振片(13)/保护薄膜(14)的构成形成的偏振薄膜(15)、和设于其非晶性环状聚烯烃系树脂薄膜(14)的外侧的粘合层(11)，粘合层(11)的凝胶百分率为75重量％～95重量％。将该带有粘合剂的偏振薄膜10贴合在液晶显示用玻璃单元(35)的一面而制成光学层叠体。在玻璃单元(35)的另一面，夹隔着第二粘合层(21)贴合具有保护薄膜(22)/偏振片(23)/保护薄膜(24)的构成的第二偏振薄膜(25)。在保护薄膜(22)为乙酰纤维素系的情况下，以凝胶百分率低的材料来构成第二粘合层(21)。
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公开(公告)号：CN101333162A
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：CN200810129531.5
申请日：2008-06-30
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07C69/017 , G02B5/30
Abstract: 本发明的目的在于提供能够更加抑制相位差值的波长依赖性的新型化合物和新型光学膜。本发明提供式(a)所示化合物。(式(a)中，C10表示季碳原子，A10和A20表示2价的环状烃基或2价的杂环基。D10和D20为烃基或杂环基，是该基所含的至少一个氢原子被吸电子基团取代的基团。B10和B20表示2价基团。X10和X20例如表示式(2)所示的2价基团。[式(2)中，A3表示－C(＝O)－C6H4－、2价的环状烃基或2价的杂环基。B3表示与上述B10相同的意义。n表示1～4的整数。]E10和E20例如表示亚烷基，P10和P20例如表示聚合性基团。)。
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公开(公告)号：CN106019833B
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201610200291.8
申请日：2016-03-31
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题的目的是提供能够制造具有优异的形状、从曝光到加热处理为止的后曝光放置时间(PED)所引起的抗蚀图案尺寸变化小的抗蚀图案的抗蚀剂组合物。其解决手段为一种抗蚀剂组合物，含有：含式(I)表示的结构单元的树脂、碱溶性树脂、产酸剂和溶剂。[式(I)中，Ri51表示氢原子或甲基。Ri52和Ri53各自独立地表示氢原子或碳原子数1～12的烃基。Ri54表示碳原子数5～20的脂环式烃基。Ri55表示碳原子数1～6的烷基或碳原子数1～6的烷氧基。p表示0～4的整数。p为2以上时，多个Ri55可彼此相同或不同。]。
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公开(公告)号：CN101333162B
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN200810129531.5
申请日：2008-06-30
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07C205/06 , C07C255/50 , C07C69/017 , G02B5/30
Abstract: 本发明的目的在于提供能够更加抑制相位差值的波长依赖性的新型化合物和新型光学膜。本发明提供式(a)所示化合物。式(a)中，C10表示季碳原子，A10和A20表示2价的环状烃基或2价的杂环基。D10和D20为烃基或杂环基，是该基所含的至少一个氢原子被吸电子基团取代的基团。B10和B20表示2价基团。X10和X20例如表示式(2)所示的2价基团。式(2)中，A3表示-C(＝O)-C6H4-、2价的环状烃基或2价的杂环基。B3表示与上述B10相同的意义。n表示1～4的整数。E10和E20例如表示亚烷基，P10和P20例如表示聚合性基团。
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