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公开(公告)号：CN103076646A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201310035344.1
申请日：2013-01-30
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种纳米尺度超分辨光学聚焦器件的制作方法，包括S1：选择入射光的工作波长选择能透光的基底；在表面蒸镀厚度为的金属膜，入射光垂直于金属膜的上表面入射；S2：根据工作波长选择金属薄膜与介质薄膜的材料，设计菲涅尔各级波带半径；S3：选择凹槽环带的位置即内环半径；步骤S4：根据焦斑强度需要调制凹槽环带的宽度与深度；S5：根据入射光偏振态选择凹槽环带的排列方向；S6：用加工技术获得菲涅尔波带环形条缝和凹槽的金属掩膜；S7：在金属掩膜后表面交替蒸镀纳米厚度的金属和介质多层膜结构，沉积多层膜的总厚度为透镜的焦距；S8：在多层膜结构后蒸镀一层纳米厚度的光刻胶及一层反射金属层，获得纳米尺度超分辨光学聚焦器件。
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公开(公告)号：CN1800975B
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN200510126215.9
申请日：2005-11-28
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 分步重复光照纳米压印装置，由压力驱动系统、Z向校准机构、双路CCD对准系统、倾斜校准机构、压模、基片、XYθ工件台、基片承片调平系统、大机台柜、控制系统、主机大底板和紫光均匀照明系统及机架等部分组成，能装载基片的承片调平系统安装于XYθ工件台上，机架上安装了压力驱动系统、Z向校准机构、倾斜校准机构和压模，双路CCD对准系统和紫光均匀照明系统，它既不需要弹性印章或铸模，也不需要加高温、高压和降温，只需普通紫光照射，应用CCD图像高精度对准，就能分步重复廉价制作出较复杂多层结构、较大有效工作面积和有利于推广应用的纳米图形结构。
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公开(公告)号：CN100582933C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200510086826.5
申请日：2005-11-10
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 加温闪光两用纳米压印装置，由双路CCD对准系统、Z向校正器、紫光照明系统、左右侧板、油压顶系统、承片加热台、倾斜校准机构和控制系统等组成，主机大底板位于电气控制系统的机台柜上，并安装了左右侧板和后板及上面安装了横板构成框架，在横板的下面悬挂有Z向校正机构和装有压模的倾斜校准机构，在主机大底板的中间正对压模的位置装了油压顶系统，使安于上面的XYθ微动工件台、承片加热台和基片上升压紧压模而压印出纳米图形结构，装于横板上的紫光照明系统可对压印层聚合物进行紫光照射使其固化，同时承片吸板可被加热升温和降温，使聚合物固化脱模，从而可实现闪光压印和加温大面积压印。本发明发挥出了两种压印方法的优点，以利于推广应用。
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公开(公告)号：CN100498527C
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200510130741.2
申请日：2005-12-27
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构，由上中下圆弧导轨、限位外套、压模卡盘、压模、基片、钢球或滚柱、上下隔离架、拉簧和拉簧挂销组成，上中下圆弧导轨之间有钢球或滚柱，并通过拉簧拉紧连接，下圆弧导轨与装有压模的压模卡盘相接，正对压模的下方是基片，限位外套安装在上圆弧导轨上，限位外套的下方四周对下圆弧导轨的旋转角度范围起限位作用。当压模和基片由于不平行，在压模下压接触基片时，压模可绕过压模下表面中心点的Y或X轴线作微滚动旋转，达到压模和基片的完全平行贴合与压紧，不产生偏离，使纳米压印套准精度大幅提高，制作出复杂多层的纳米图形结构，该机构用常规设备加工，制作方便，成本低廉，应用广泛。
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公开(公告)号：CN101424758A
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200810227029.8
申请日：2008-11-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种基于金属覆盖层的负折射人工材料，其特征包括以下步骤：(1)选择石英基片，并将其表面抛光；然后在其表面蒸镀一层高纯SiO2膜；(2)在高纯SiO2膜表面蒸镀一层铬膜，并在其上均匀涂覆一层光刻胶；(3)采用电子束光刻的方法，在光刻胶上制备出介质光栅结构；(4)采用湿法腐蚀技术，将光刻胶作为掩模，腐蚀掉裸露在外的铬膜；(5)采用干法腐蚀技术，将铬膜作为掩模，在高纯SiO2膜上刻蚀出介质光栅结构，去除铬膜；(6)采用真空蒸镀技术，在SiO2光栅结构上蒸镀厚度为h的金属层，基于金属覆盖层的负折射人工材料制作完成。本发明具有制作简便，单层损耗小，单层正入射的特性，在磁共振、近场光学、隐身材料等领域具有很大的应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103078185B
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：CN201310030029.X
申请日：2013-01-25
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种基于人工电磁结构材料的高增益低雷达散射截面平板天线，该天线由微带贴片和正反两面具有不同反射特性的周期性人工结构材料构成。该人工结构材料由介质基板，以及在基板正面制作的周期性金属方环结构和反面制作的周期性开口缝隙金属平面结构构成。正面金属方环结构的四边中心处加载了集中电阻元件。当电磁波从人工结构材料正面入射时，电磁波能量主要被吸收；当电磁波从人工结构材料反面入射时，电磁波能量主要被反射。将人工结构材料放置在微带贴片上方作为覆层，其反面作为部分反射表面和微带贴片的金属接地板构成F-P谐振腔，提高天线的辐射增益；其正面可以吸收外来入射波，降低天线的雷达散射截面。
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公开(公告)号：CN103984211A
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201410192957.0
申请日：2014-05-08
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种基于双光束聚合引发以及抑制的高分辨成像光刻方法，主要步骤为：(1)选择或配置一种光刻胶，其含有对不同波长激光响应的聚合引发剂和聚合抑制剂；(2)选择对应的聚合引发激光器和聚合抑制激光器；(3)制作两个掩模版，其掩模图形形状和尺寸均相同或相似；(4)掩模版1和掩模版2在聚合抑制和聚合引发激光的作用下，通过二向色镜和透镜合束成像在同一个平面内，所成的像在空间上部分交叠；(5)将含有聚合引发剂，聚合抑制剂的光刻胶样品放置在成像平面上进行曝光及显影，得到高分辨的成像光刻图形。本发明具有光刻分辨率高，加工效率高等优点，在超越衍射极限的高效率，低成本纳米加工技术领域具有很大的应用前景。
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公开(公告)号：CN102621803B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201210107639.0
申请日：2012-04-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种尖劈型超透镜的制备方法，用于制造实现超分辨成像的尖劈型超透镜。其主要步骤为：在平整的紫外透明基底上依次涂布或沉积牺牲层和掩蔽层；在掩蔽层上涂光刻胶，曝光得到直线结构；将直线结构刻蚀传递到掩蔽层；用掩蔽层做掩蔽，对牺牲层进行各向同性刻蚀，使掩蔽层部分悬空；倾斜蒸镀多层膜；去除牺牲层、掩蔽层，得到尖劈型超透镜。本发明该方法只需要通过常规的光刻、IBE刻蚀、RIE刻蚀或湿法腐蚀、阴影蒸镀，就可以制备得到用于实现超分辨成像的尖劈型超透镜。
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公开(公告)号：CN103457157A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201310340691.5
申请日：2013-08-07
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种纳米激光器激光合束器件的制备方法，包括：曲面多层膜的制备；曲面多层膜的平坦化；曲面多层膜的减薄；涂覆、固化溶胶层；在溶胶层上沉积金属Ag层；反复涂覆溶胶层-沉积Ag层，最终得到这种纳米激光器激光合束器件。该纳米激光器激光合束器件利用人工材料结构实现对激光光束的定向耦合、传输，克服了单个纳米激光器激光功率有限的不足，进而实现多束激光的合束。
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公开(公告)号：CN102880010A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210325359.7
申请日：2012-09-05
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种基于金属—介质—探针（Tip-Insulator-Metal,TIM）结构的表面等离子体超衍射光刻方法，其特征是由金属—介质—探针构成TIM共振腔结构，光从包含有所述共振腔的基底正入射，在所述探针的针尖激发局域表面等离子体（LSP），激发的局域表面等离子体波在向下衰减传播的过程中被金属反射层反射耦合，并经多次反射引起共振，使得夹在所述金属反射层和探针中间的介质记录层中形成纵向分布相对均匀的规则圆形光斑模式。该方法克服了传统探针直写光刻深度浅的问题，使得所述介质记录层不同深度处的光斑大小（FWHM）一致，能量均匀。本发明极大的改善了传统直写探针光刻的光斑质量。并且该方法所用结构简单。可以大大降低光刻线宽。
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