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公开(公告)号：CN119658476A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202411889936.4
申请日：2024-12-20
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B1/00 , B24B13/02 , B24B49/00 , B24B13/01 , B24B13/005
Abstract: 一种高效率复合加工非球面光学元件的方法，步骤：根据待加工光学元件形状制作工装夹具，将光学元件坯料下表面磨平抛光，固定在工装夹具上；通过粗磨+精磨对光学元件毛坯上表面进行非球面成型加工，得到非球面样件；采用轮廓仪测量非球面样件面形数据；将面形数据导入气囊抛光机床，计算得到补偿加工的NC代码，将工装夹具与非球面样件一同固定在抛光机床的过渡夹具上采用不同气囊抛光头对非球面样件的上表面进行粗抛和精抛；加工完成后采用轮廓仪测量非球面样件面形数据，合格后将非球面样件及工装夹具浸泡在丙酮溶液中，取出样件。本发明工艺科学合理，能实现对元件面形的快速测量，减少装夹误差，提高加工质量和加工效率，降低生产成本。
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公开(公告)号：CN113618542A
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN202110791252.0
申请日：2021-07-13
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B13/00 , B24B13/01 , B24B41/04 , B24B47/14 , B24B47/22 , B24B47/12 , B24B41/02 , B24B41/00 , B24B49/12 , B24B49/04
Abstract: 一种抛光设备，包括：机架(1)、抛光头(2)、第一传感器(3)、转动件(4)和第一驱动件(5)，所述抛光头(2)连接有第一连接件(21)；所述第一传感器(3)用于检测加工精度或检测待抛光面的几何尺寸，其连接有第二连接件(31)；所述转动件(4)以能转动的方式设于机架(1)上，且转动件(4)上设有供上述第一连接件(21)、第二连接件(31)择一地与其拆卸式连接的连接头(41)；所述第一驱动件(5)作用在转动件(4)上，以驱动转动件(4)旋转。与现有技术相比，本申请能减少工件装卸次数，从而提高加工效率，并且提高加工精度。
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公开(公告)号：CN109623560B
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN201811536305.9
申请日：2018-12-14
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于六轴运动抛光系统的确定离子束抛光工艺参数的方法，本发明以Sigmund溅射理论为基础，利用有限次的法拉第扫描实验来确定比例系数和常数C的值，从而得到去除函数的峰值去除率Rmax和去除函数的半高全宽HR相对于法拉第扫描电流密度分布曲线的相关参数的表达式，因此调节工艺参数后，通过法拉第扫描实验得到法拉第扫描电流密度分布曲线后，利用该曲线的参数即可计算得到去除函数，大大缩短了确定去除函数的时间，从2个小时缩短到5分钟。因此，提高了针对不同的工艺参数进行仿真加工试验的效率，从而能更快速地确定最佳工艺参数。另外，由于该种方法确定去除函数时，不需要对于每种工艺参数都进行刻蚀实验，从而避免了样件的浪费，节约成本。
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公开(公告)号：CN110712094B
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201910844111.3
申请日：2019-09-06
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种降低离子束抛光光学元件表面污染的方法，1)将离子束抛光设备中用以对光学元件进行夹持的夹具的外侧采用高温胶带进行贴封处理；2)将光学元件安装在夹具后，对光学元件和夹具的表面进行清洁处理，随后放入离子束抛光设备的副腔室内，最后将光学元件送至离子束抛光设备的主腔室内；3)安装离子源，离子源的栅网采用溅射率低于金属银溅射率的栅网；4)开启离子束抛光设备，启动离子源，使用法拉第杯测量离子源发出的离子束电流，待离子源运行一定设定时间t稳定后，对光学元件进行离子束抛光。采用该方法，离子束加工后光学元件表面洁净，有效抑制污染，提高加工质量。
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公开(公告)号：CN110712094A
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：CN201910844111.3
申请日：2019-09-06
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种降低离子束抛光光学元件表面污染的方法，1)将离子束抛光设备中用以对光学元件进行夹持的夹具的外侧采用高温胶带进行贴封处理；2)将光学元件安装在夹具后，对光学元件和夹具的表面进行清洁处理，随后放入离子束抛光设备的副腔室内，最后将光学元件送至离子束抛光设备的主腔室内；3)安装离子源，离子源的栅网采用溅射率低于金属银溅射率的栅网；4)开启离子束抛光设备，启动离子源，使用法拉第杯测量离子源发出的离子束电流，待离子源运行一定设定时间t稳定后，对光学元件进行离子束抛光。采用该方法，离子束加工后光学元件表面洁净，有效抑制污染，提高加工质量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109623560A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201811536305.9
申请日：2018-12-14
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于六轴运动抛光系统的确定离子束抛光工艺参数的方法，本发明以Sigmund溅射理论为基础，利用有限次的法拉第扫描实验来确定比例系数和常数C的值，从而得到去除函数的峰值去除率Rmax和去除函数的半高全宽HR相对于法拉第扫描电流密度分布曲线的相关参数的表达式，因此调节工艺参数后，通过法拉第扫描实验得到法拉第扫描电流密度分布曲线后，利用该曲线的参数即可计算得到去除函数，大大缩短了确定去除函数的时间，从2个小时缩短到5分钟。因此，提高了针对不同的工艺参数进行仿真加工试验的效率，从而能更快速地确定最佳工艺参数。另外，由于该种方法确定去除函数时，不需要对于每种工艺参数都进行刻蚀实验，从而避免了样件的浪费，节约成本。
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公开(公告)号：CN109581609A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811556828.X
申请日：2018-12-19
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于光学元件面形检测的立式干涉仪标准镜装夹装置和方法，立式干涉仪标准镜装夹装置包括调平机构、辅助支撑件和用于放置标准镜的托盘，所述调平机构的数量至少为三个，并沿托盘的周向方向均匀分布，各所述调平机构包括驱动系统和用于支撑托盘的支承块，所述驱动系统能够驱动支承块沿高度方向移动，支承块能到达的高度最低值记为Hmin，最高值记为Hmax，所述辅助支撑件包括支架和安装在支架上的缓冲垫，该缓冲垫用于支撑托盘，其高度记为h，Hmin、Hmax和h的关系满足：Hmin＜h＜Hmax。与现有技术相比，本发明的优点在于：能够精密调整标准镜的水平度。
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公开(公告)号：CN106392881B
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：CN201610938494.7
申请日：2016-10-25
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种用于发动机一体式气门座圈巡边磨削加工的径向进给装置包括机体、推杆、滚轮及滑块，推杆在电机驱动下相对前述的机体能轴向移动；滚轮设于前述推杆的底端；滑块设于前述机体上并在滚轮的驱动下相对机体能径向移动，该滑块内设有变向滑轨，该变向滑轨上具有与前述滚轮配合从而带动滑块径向移动的斜导轨槽；所述的滑块上设有能消除滚轮与斜导轨槽间隙的间隙调整机构。与现有技术相比，本发明的优点在于：能够消除被磨削加工表面环形磨削痕迹，提高被磨削表面的表面质量；降低砂轮的磨损，从而达到提高磨削精度的目的。
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公开(公告)号：CN105234772B
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：CN201510661587.5
申请日：2015-10-14
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B13/00 , B24B13/005 , B24B41/02
Abstract: 一种真空室光学元件升降定位装置，其特征在于包括架体、电机、托盘、丝杆及导向机构，架体包括至少两块立板及设于立板上的顶板；电机的动力输出端上连接有一蜗杆，托盘包括至少两个纵梁及设于纵梁之间的横梁，每个纵梁上均设于端面朝上的第一定位球，前述横梁上也设有端面朝上的第二定位球，并且，前述的两个第一定位球和第二定位球处于非直线上并能重复定位光学元件；丝杆竖直地设置于前述托盘的横梁上，上端具有转动配合的旋转螺母，该旋转螺母外壁具有与前述蜗杆转动配合的蜗齿。与现有技术相比，本发明的优点在于：整体结构简单、使用方便，控制精确并容易调整提升距离；具有精确的三点定位机构使得重复定位误差较小。
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公开(公告)号：CN104816217B
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201510226173.X
申请日：2015-05-05
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B13/00
Abstract: 本发明涉及一种用于真空环境的精密角度驱动装置，包括支座、连接套、连接座、绕X轴旋转平台、第一离子源夹持臂、第二离子源夹持臂、绕Y轴旋转平台、从动旋转轴、离子源及控制系统。本发明通过马达直接驱动，与采用旋转电机及齿轮等旋转运动系统相比，没有中间传动环节，有利于提高真空室的洁净度，没有反向运动间隙，有效提高了重复定位精度；本发明的结构紧凑、简单，便于制造及安装，且传动结构运动响应频率高、动作速度快，满足了离子束抛光驻留时间的精确控制要求；第一光栅回馈机构、第二光栅回馈机构分别与第一马达、第二马达有机匹配，进一步提高了驱动装置的转动及定位精度，实现了离子束入射角的无级调整，重复定位精度可达到微米级。
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