沟槽引出集成型低压双向瞬时电压抑制器及其制造方法

    公开(公告)号:CN106129058A

    公开(公告)日:2016-11-16

    申请号:CN201610732260.7

    申请日:2016-08-27

    CPC classification number: H01L27/0814 H01L21/76224 H01L21/8222

    Abstract: 本发明沟槽引出的集成型低压双向瞬时电压抑制器,包括第一导电类型衬底;在衬底上有第二导电类型的外延层;在第二导电类型外延层上有第一导电类型外延层;第一隔离沟槽进入第一导电类型衬底,并形成第一区域和第二区域;第一区域中由第一导电类型注入区、第二导电类型扩散区及第一类型的外延形成二极管Z1,第一导电类型外延和第二导电类型外延形成二极管D1;第二区域中由第一导电类型注入区、第二导电类型扩散区及第一类型的外延形成二极管Z2,第一导电类型外延和第二导电类型外延形成二极管D2;第二引出沟槽,进入第二导电类型外延层,内填高浓度第二导电类型多晶硅;由第一金属线IO1连接所述二极管Z1和D2,第二金属线IO2连接所述二极管Z2和D1。

    双向电压完全对称带有超深沟槽超低漏电的TVS器件及制法

    公开(公告)号:CN106098792A

    公开(公告)日:2016-11-09

    申请号:CN201610735415.2

    申请日:2016-08-27

    CPC classification number: H01L29/861 H01L29/66136

    Abstract: 本发明公开了双向电压完全对称带有超深沟槽超低漏电的TVS器件及制法,其包括:步骤A:在重掺杂P型硅衬底生长一层轻掺杂N型外延层;步骤B:用光刻胶掩膜开出N型掺杂区域窗口,进行N型掺杂离子注入;步骤C:用光刻胶掩膜开出P型掺杂区域窗口,进行P型掺杂离子注入;步骤D:沉积一层1.5‑2μm的二氧化硅膜作为刻蚀超深隔离沟槽的硬掩膜;步骤E:在步骤D的硬掩膜上进行光刻和二氧化硅腐蚀,刻蚀出两条定位隔离沟槽窗口,该定位沟槽窗口作为步骤F中刻蚀超深隔离沟槽的参照位置;步骤F:在外延上刻蚀超深隔离沟槽一直延伸到P型衬底;步骤G:用二氧化硅膜填充步骤D中形成的超深隔离沟槽;步骤H:接触孔刻蚀;步骤I:金属布线。

    低电容低钳位过压保护器件

    公开(公告)号:CN102176624A

    公开(公告)日:2011-09-07

    申请号:CN201110058804.3

    申请日:2011-03-11

    Abstract: 本发明涉及一种低电容低钳位过压保护器件,其特征在于:所述的过压保护器件由低电容TVS管和低钳位管并联构成,低电容TVS管用于低电容通路及初级浪涌/ESD保护,低钳位管用于降低整个器件的钳位电压,其中,低电容TVS管的阴极与低钳位管的阳极相连,低电容TVS管的阳极与低钳位管的阴极相连,低电容TVS管的钳位输出端与低钳位管的门极控制端相连。优点是:利用PIN管的低电容特性和低钳位管的低通态压降特性构成了低电容、低钳位瞬态电压抑制器件,克服传统多级保护不能满足高速数据低电容、低残压的要求;实现用于差共模保护的三端低电容、低钳位瞬态电压抑制器,差分应用电容更低;实现具有低钳位、高浪涌能力的双向双端瞬态电压抑制器。

    低导通电阻阻断型浪涌保护器件

    公开(公告)号:CN102074929A

    公开(公告)日:2011-05-25

    申请号:CN201110058684.7

    申请日:2011-03-11

    Abstract: 本发明涉及一种低导通电阻阻断型浪涌保护器件,具有小触发电流应用下的低导通电阻特性,至少包括第一、第二、第三耗尽型场效应晶体管Q1、Q2、Q3,第一、第二可变电阻元件、第一、第二电阻构成串联结构的导通路径,形成电路模块,其中,Q1的漏极与模块输入端相连,栅极与Q2的源极相连;Q2的漏极与模块输出端相连,栅极与Q1的源极相连;第一可变电阻元件连接Q1的源极和Q3的源极;第二可变电阻元件连接Q2的源极和Q3的漏极;Q3的栅极与第一电阻和第二电阻分别相连;第一电阻另一端与模块输入端相连,第二电阻另一端与模块输出端相连。本发明能够特定地保护单个负载,且可用在高带宽的系统中。

    低电容电压可编程TVS器件
    29.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101771042B

    公开(公告)日:2014-03-05

    申请号:CN200910248044.5

    申请日:2009-12-31

    Abstract: 本发明涉及低电容电压可编程TVS器件及其制造方法,由闩锁通路和限压保护通路构成,在闩锁通路上,PNP三极管和NPN三极管构成闩锁结构,输入端接PNP三极管的发射极,PNP三极管的集电极接NPN三极管的基极,PNP三极管的基极接NPN三极管的集电极,NPN三极管的发射极接输出端,且PNP三极管的集电极与TVS管的阳极相连,PNP三极管的基极与TVS管的阴极连接,构成器件的门极;在限压通路上,由两个降容二极管和一TVS器件组成,TVS管阳极与第一导向二极管阳极连接,TVS管阴极与第二导向二极管阴极连接,第二导向二极管阳极接输入端,第一导向二极管阴极接输出端;通过改变门极电位,实现在TVS击穿电压以内的可编程保护和过压保护。

    低电容电压可编程TVS器件
    30.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101771042A

    公开(公告)日:2010-07-07

    申请号:CN200910248044.5

    申请日:2009-12-31

    Abstract: 本发明涉及低电容电压可编程TVS器件及其制造方法,由闩锁通路和限压保护通路构成,在闩锁通路上,PNP三极管和NPN三极管构成闩锁结构,输入端接PNP三极管的发射极,PNP三极管的集电极接NPN三极管的基极,PNP三极管的基极接NPN三极管的集电极,NPN三极管的发射极接输出端,且PNP三极管的集电极与TVS管的阳极相连,PNP三极管的基极与TVS管的阴极连接,构成器件的门极;在限压通路上,由两个降容二极管和一TVS器件组成,TVS管阳极与第一导向二极管阳极连接,TVS管阴极与第二导向二极管阴极连接,第二导向二极管阳极接输入端,第一导向二极管阴极接输出端;通过改变门极电位,实现在TVS击穿电压以内的可编程保护和过压保护。

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