采用牺牲金属氧化物层形成双镶嵌金属互连的方法

    公开(公告)号:CN1306590C

    公开(公告)日:2007-03-21

    申请号:CN200410100189.8

    申请日:2004-12-03

    CPC classification number: H01L21/76808 H01L21/31144

    Abstract: 本发明披露一种采用牺牲金属氧化物层形成双镶嵌金属互连的方法。该方法包括制备半导体衬底。层间绝缘层形成在半导体衬底上,预通孔是通过对层间绝缘层形成图案而形成的。牺牲通孔保护层形成在具有预通孔的半导体衬底上,以填充预通孔并覆盖层间绝缘层的上表面。牺牲金属氧化物层形成在牺牲通孔保护层上,对牺牲金属氧化物层形成图案,以形成具有开口的牺牲金属氧化物图案,该开口横过预通孔并暴露牺牲通孔保护层。使用牺牲金属氧化物图案作为蚀刻掩模,蚀刻牺牲通孔保护层和层间绝缘层,以形成位于层间绝缘层内的槽。

    采用牺牲金属氧化物层形成双镶嵌金属互连的方法

    公开(公告)号:CN1624897A

    公开(公告)日:2005-06-08

    申请号:CN200410100189.8

    申请日:2004-12-03

    CPC classification number: H01L21/76808 H01L21/31144

    Abstract: 本发明披露一种采用牺牲金属氧化物层形成双镶嵌金属互连的方法。该方法包括制备半导体衬底。层间绝缘层形成在半导体衬底上,预通孔是通过对层间绝缘层形成图案而形成的。牺牲通孔保护层形成在具有预通孔的半导体衬底上,以填充预通孔并覆盖层间绝缘层的上表面。牺牲金属氧化物层形成在牺牲通孔保护层上,对牺牲金属氧化物层形成图案,以形成具有开口的牺牲金属氧化物图案,该开口横过预通孔并暴露牺牲通孔保护层。使用牺牲金属氧化物图案作为蚀刻掩模,蚀刻牺牲通孔保护层和层间绝缘层,以形成位于层间绝缘层内的槽。

    焊料用无铅合金
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1195592A

    公开(公告)日:1998-10-14

    申请号:CN98103857.3

    申请日:1998-02-12

    CPC classification number: B23K35/262

    Abstract: 一种焊料用无铅合金,不含铅,熔点、焊接强度及寿命得到改善,代替含铅的焊料,可防止焊接时铅对人体的侵害,减少金属氧化物的产生量,降低电路板焊接时的不良率,其组成为:铋(Bi)0.1—5.0wt%,银(Ag)0.1—5.0wt%,锑(Sb)0.1—3.0wt%,铜(Cu)0.1—5.5wt%,磷(P)0.001—0.01wt%,锗(Ge)0.01—0.1wt%,其余为锡(Sn)。

    电气元件传送装置
    26.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110998819B

    公开(公告)日:2023-11-28

    申请号:CN201880052299.1

    申请日:2018-07-11

    Abstract: 根据各种实施例,提供了一种电气元件传送装置,包括:固定夹具,在所述固定夹具中多个电气元件中的每个电气元件以预定间隔设置;移动夹具,所述移动夹具可移动地设置在所述固定夹具的上部,并且包括用于容纳所述多个电气元件中的每个电气元件的至少一部分的多个第一容纳槽;以及吸引设备,所述吸引设备布置在所述移动夹具附近,并且通过所述移动夹具利用磁力将所述多个电气元件中的每个电气元件附接到所述移动夹具的所述第一容纳槽。其它的各种实施例也是可能的。

    印刷电路板组件及其模制方法

    公开(公告)号:CN102421258B

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201110220965.8

    申请日:2011-07-27

    CPC classification number: H01R43/24 Y10T29/49147

    Abstract: 本发明提供一种印刷电路板组件及其模制方法。公开了一种印刷电路板组件PBA,其上安装有用于电连接到外部连接元件的连接器。可利用PBA的模制方法来形成这种组件,该方法包括为了给PBA提供刚度而将聚合物树脂施加到PBA以模制PBA。根据本公开的模制PBA的上述方法是一种包括PCB以及安装在PCB上以将PCB电连接到外部连接元件的连接器的PBA的模制方法。所述方法包括以下步骤:将连接器与连接器盖结合;将树脂施加到已与连接器盖结合的PBA,以执行PBA的模制;将连接器盖与模制的PBA分离,以使用于外部连接元件的电极端子暴露。

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