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公开(公告)号：CN119842323A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202411857052.0
申请日：2024-12-17
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
Abstract: 本发明涉及一种用于获得高质量SiC单晶衬底表面的CMP组合物，其由下述重量百分比的原料制成：抛光磨料20‑50 wt%，氧化剂3‑5 wt%，表面活性剂0.1‑0.5 wt%，氢键调节剂0.2‑0.5 wt%，抛光促进剂0.2‑1 wt%，消泡剂0.01‑0.05wt%，余量为水；所述CMP组合物呈中性。该CMP组合物采用氧化硅作为磨料，引入氢键调节剂、抛光促进剂和氧化剂，提升碳化硅晶圆CMP抛光速率，实现清洗后硅面表面粗糙度Ra可达0.07nm以下，清洗后表面无大颗粒（＞0.2um），同时无需对氧化硅原料进行处理，具有优异的长期储存稳定性，并且体系随着储存时间的延长不会出现颗粒团聚和沉降现象，在后续抛光过程中能够获得优异的抛光表面质量。
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公开(公告)号：CN115926747B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202211571493.5
申请日：2022-12-08
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC: C09K3/14 , C09G1/02 , H01L21/304
Abstract: 本发明涉及一种浓缩型水性研磨助剂，其由以下重量份数的原料组成：去离子水30‑50份，复合型触变剂5‑10份，乳液稳定剂5‑10份，润滑剂20‑30份，杀菌剂1‑5份，消泡剂1‑5份。将本发明浓缩型水性研磨助剂应用于碳化硅、氮化镓晶圆研磨加工，可大大降低直接使用金刚石研磨液成品的加工成本；同时可对金刚石磨料颗粒进行快速分散悬浮，并形成具有触变特性的稳定悬浮液。润滑剂在使用过程中可以有效降低研磨过程中的摩擦阻力，增加润滑性，有效改善研磨表面质量，并大大缩短后道晶圆抛光时间。
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公开(公告)号：CN117186839A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311024548.5
申请日：2023-08-15
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC: C09K3/14 , B01F27/112 , B01F27/192 , B01F27/90 , C09G1/02
Abstract: 本发明涉及一种高粘度研磨液稳定化生产工艺，其包括如下步骤：S1.将高粘度助剂进行溶胀、溶解、活化、真空脱泡预处理，获得浓度≤5%的高粘度助剂溶液，备用；S2.将部分溶剂与全部磨料混合，超声分散，形成分散液；S3.向分散液中加入乳化剂、消泡剂，并补足剩余的溶剂，匀化1‑10min；S4.加入步骤S1预处理后获得的高粘助剂溶液，匀化1‑30min，即得。采用本发明高粘度研磨液稳定化生产工艺及匀化装置，可有效降低批次间的粘度差异，以及长时间放置时的粘度波动。
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公开(公告)号：CN115746789A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211588554.9
申请日：2022-12-12
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
Abstract: 本发明涉及一种稳定全悬浮研磨用金刚石研磨液，其由下述重量份数的原料组成：金刚石微粉0.5‑15份，密度调节剂1‑50份，悬浮剂0.01‑10份，流动性调节剂0.1‑5份，粘度调节剂0.1‑5份，润滑剂1‑50份，消泡剂0.0001‑0.5份，水10‑90份。相较于现有的半悬浮或无悬浮状态的研磨液，本发明产品具有更好的产品品质观感；将其应用于研磨加工时性能稳定，有更好的加工效率和加工表面质量；应用于研磨抛光液的批量化生产时，无沉降聚集造成灌装不均的隐忧，可实现批量化稳定生产。
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公开(公告)号：CN112592663B
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202011523862.4
申请日：2020-12-22
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC: C09G1/02 , H01L21/304
Abstract: 本发明公开一种SiC衬底加工用纳米金刚石抛光液及其制备方法，属于超精密研磨抛光技术领域，所述抛光液由以下重量份数的原料组成：水50‑85份；金刚石微粉0.5‑15份；分散剂0.1‑5份；悬浮剂0.1‑5份；润滑剂1‑40份；消泡剂0.001‑0.1份,金刚石微粉粒度10‑1000nm，所述金刚石微粉中，耐磨磨粒/圆形磨粒颗粒数比值为1‑15:1，其中，圆度Fc＞0.950为圆形磨粒；0.900≤Fc≤0.950为耐磨磨粒。所述抛光液通过控制金刚石微粉的形貌构成，在耐磨磨粒提高抛光效率的同时，借助圆形磨粒修复表面损伤层和粗糙度，从而实现对抛光划伤的控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113265224A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202110471142.6
申请日：2021-04-29
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC: C09K3/14
Abstract: 本发明涉及一种喷雾型金刚石研磨液，其由以下重量份数的原料组成：水50‑85份，金刚石微粉0.5‑15份，复配型乳化分散剂0.1‑5份，复配型液体增粘剂0.2‑5份，保水剂10‑40份，消泡剂0.001‑0.1份。将该研磨液用于喷雾供液系统时，可有效减少雾化飞散液滴的产生，并可加速液滴沉降，在提升研磨液利用率的同时可以显著避免雾化吸入，从而降低对操作人员的身心伤害。
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公开(公告)号：CN112592663A
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN202011523862.4
申请日：2020-12-22
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC: C09G1/02 , H01L21/304
Abstract: 本发明公开一种SiC衬底加工用纳米金刚石抛光液及其制备方法，属于超精密研磨抛光技术领域，所述抛光液由以下重量份数的原料组成：水50‑85份；金刚石微粉0.5‑15份；分散剂0.1‑5份；悬浮剂0.1‑5份；润滑剂1‑40份；消泡剂0.001‑0.1份,金刚石微粉粒度10‑1000nm，所述金刚石微粉中，耐磨磨粒/圆形磨粒颗粒数比值为1‑15:1，其中，圆度Fc＞0.950为圆形磨粒；0.900≤Fc≤0.950为耐磨磨粒。所述抛光液通过控制金刚石微粉的形貌构成，在耐磨磨粒提高抛光效率的同时，借助圆形磨粒修复表面损伤层和粗糙度，从而实现对抛光划伤的控制。
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公开(公告)号：CN105199610A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201510670609.4
申请日：2015-10-16
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明属于一种蓝宝石抛光组合物及其制备方法，所述蓝宝石抛光组合物由下述重量百分含量的原料组成：纳米二氧化硅20%~40%、碱性化合物1%~10%、分散剂0.1%~3%、表面活性剂0.1%~3%、腐蚀抑制剂0.001%~1%、余量为去离子水。本发明通过加入腐蚀抑制剂减少了在高温高压下抛光组合物对蓝宝石晶片的过度腐蚀，使表面不产生麻点和橘皮等过度腐蚀的缺陷，同时引入和腐蚀抑制剂协同作用的表面活性剂，增加抛光组合物的腐蚀选择性，让抛光组合物均匀作用在蓝宝石晶片的表面，实现了在高效抛光的同时得以保证完好的表面质量。
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公开(公告)号：CN105111942A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201510575373.6
申请日：2015-09-10
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明涉及一种微结晶蓝宝石抛光液，其由下述重量百分比的原料组成：纳米二氧化硅20－40%；碱性化合物1－10%；分散剂0.1－3%；表面活性剂0.1－3%；保湿成分0.1－3%；吸湿成分0.1－5%；余量为去离子水。本发明抛光液在加入保湿成分的同时加入吸湿成分，这样可以在减少水分蒸发的基础上吸收空气中的水分，使抛光液不易凝结在机台上，同时不易风干在蓝宝石晶片表面，降低了后期清洗工艺的难度，提高了生产效率。
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公开(公告)号：CN104962199A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201510332607.4
申请日：2015-06-16
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有自清洗作用的抛光剂及抛光液，所述抛光剂包括以下重量份数的组分：二氧化硅5～40份、碱性化合物0.2～10份、椰子酸二乙醇胺缩合物0.001～1份、表面活性剂0.001～0.5份。本发明的抛光液，添加的椰子酸二乙醇胺缩合物可以吸附到有机物和磨料颗粒的表面，大大增加了有机物和磨料颗粒的表面活性，其与其他组分相互配合，协调作用，使抛光液具有自清洗作用；大大减少甚至完全避免了有机物和磨料颗粒在外延晶片表面的粘附；抛光后的晶片表面不会粘附有机物和磨料颗粒，或是仅有极少的粘附，后续勿需再用酸碱清洗，避免了对外延膜层产生腐蚀损坏，简化了清洗工序，节约了清洗成本，适合推广应用。
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