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公开(公告)号：CN113574643B
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN201980093578.7
申请日：2019-08-23
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 一种参数稳定的错位测量改善系统及方法包含：提供选自希望相同的一批晶片的晶片，包含形成在其上的多个多层半导体装置；使用错位计量工具来使用多个测量参数集在所述晶片的至少第一层与第二层之间的多个位点处测量错位，借此针对所述测量参数集中的每一者生成经测量错位数据；针对所述测量参数集中的每一者从所述晶片的所述经测量错位数据识别及移除参数相依部分及平均误差部分，借此生成所述晶片的经改善参数稳定的经改善错位数据。
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公开(公告)号：CN111971712B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN201980023057.4
申请日：2019-04-05
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明揭示一种提供逐位点对准的重叠计量学工具，其包含耦合到远心成像系统的控制器。所述控制器可接收通过所述成像系统在两个或更多个焦点位置处捕获的样本上的重叠目标的两个或更多个对准图像；基于所述对准图像产生指示所述重叠目标在所述成像系统内的对准的对准数据；当所述重叠目标的所述对准在选定对准容差内时，将所述对准图像设置为测量图像；指导所述成像系统调整所述重叠目标在所述成像系统中的所述对准且在所述重叠目标的所述对准在所述选定对准容差外时进一步从所述成像系统接收一或多个测量图像；及基于所述测量图像中的至少一者确定所述样本的两个或更多个层之间的重叠。
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公开(公告)号：CN108027320B
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN201680051708.7
申请日：2016-08-18
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明提供计量测量方法及工具，其由固定的照明源照明固定的衍射目标；测量由零阶衍射信号及一阶衍射信号的总和组成的信号；维持所述衍射目标及所述照明源固定的同时，针对所述零与所述第一衍射信号之间的多个关系重复所述测量；及从所述测量总和导出所述一阶衍射信号。照明可为相干的且可在光瞳平面中测量，或照明可为不相干的且可在场平面中测量，在任一情况下，测量所述零与所述一衍射阶的部分重叠。照明可为环形且所述衍射目标可为带有具有不同节距以分离所述重叠区域的周期性结构的单个单元SCOL目标。
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公开(公告)号：CN110494966B
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN201880023805.4
申请日：2018-03-28
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明涉及一种计量系统，其包含图像装置及控制器。所述图像装置包含光谱可调照明装置及检测器，所述检测器用于基于响应于来自所述光谱可调照明装置的照明而从所述样本发出的辐射产生具有两个或两个以上样本层上的计量目标元件的样本的图像。所述控制器确定所述成像装置的层特定成像配置以在所选择的图像质量容限内成像所述两个或两个以上样本层上的所述计量目标元件，其中每一层特定成像配置包含来自所述光谱可调照明装置的照明光谱。所述控制器进一步接收使用所述层特定成像配置产生的所述两个或两个以上样本层上的所述计量目标元件的一或多个图像。所述控制器进一步基于所述两个或两个以上样本层上的所述计量目标元件的所述一或多个图像提供计量测量。
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公开(公告)号：CN113574643A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN201980093578.7
申请日：2019-08-23
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 一种参数稳定的错位测量改善系统及方法包含：提供选自希望相同的一批晶片的晶片，包含形成在其上的多个多层半导体装置；使用错位计量工具来使用多个测量参数集在所述晶片的至少第一层与第二层之间的多个位点处测量错位，借此针对所述测量参数集中的每一者生成经测量错位数据；针对所述测量参数集中的每一者从所述晶片的所述经测量错位数据识别及移除参数相依部分及平均误差部分，借此生成所述晶片的经改善参数稳定的经改善错位数据。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111971712A
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN201980023057.4
申请日：2019-04-05
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明揭示一种提供逐位点对准的重叠计量学工具，其包含耦合到远心成像系统的控制器。所述控制器可接收通过所述成像系统在两个或更多个焦点位置处捕获的样本上的重叠目标的两个或更多个对准图像；基于所述对准图像产生指示所述重叠目标在所述成像系统内的对准的对准数据；当所述重叠目标的所述对准在选定对准容差内时，将所述对准图像设置为测量图像；指导所述成像系统调整所述重叠目标在所述成像系统中的所述对准且在所述重叠目标的所述对准在所述选定对准容差外时进一步从所述成像系统接收一或多个测量图像；及基于所述测量图像中的至少一者确定所述样本的两个或更多个层之间的重叠。
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公开(公告)号：CN111033382A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201780093820.1
申请日：2017-10-22
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供系统及方法，其从至少一个计量成像目标中的每一ROI(所关注区域)的经分析测量计算叠加错位误差估计，且将所述经计算叠加错位误差估计并入在对应叠加错位估计中。所揭示实施例提供可以连续方式集成到计量测量过程中且此外依据叠加错位评估目标质量的分级及加权目标质量分析，所述分析形成用于评估来自例如生产步骤特性、测量参数及目标特性的不同源的误差的共同基础。接着，此类共同基础实现以下中的任一者：组合各种误差源以给出与测量保真度相关联的单个数目；在晶片级、批量级及过程级下分析各种误差；及/或通过减少测量次数而对于吞吐量以受控方式权衡所得准确度。
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公开(公告)号：CN110870052A
公开(公告)日：2020-03-06
申请号：CN201880044567.5
申请日：2018-07-05
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供通过识别其中(若干)对应计量测量信号具有最小振幅不对称性的(若干)计量测量参数值而导出所述(若干)值的计量方法。如所揭示选择所述测量参数值明显降低测量不精准度。例如，可检测波长值及/或焦点值以指示最小振幅不对称性及/或最小相位不对称性。在某些实施例中，提供最小振幅不对称性的波长值也提供对焦点的最小信号灵敏度。开发的度量可进一步用于指示跨晶片及批次的工艺稳健性。在一些实施例中，可通过振幅不对称性的离焦横向化及具有最小振幅不对称性的参数值的检测而增强成像精准度。
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公开(公告)号：CN107636538A
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201680028226.X
申请日：2016-05-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明提供计量工具及方法，其估计对应于从周期性目标上的光散射产生的不同衍射级的形貌相位的效应，及调整测量条件以改进测量准确度。在成像中，可通过基于对比函数行为的分析选择适当测量条件、改变照明条件(减小光谱宽度及照明NA)、使用偏光目标及/或光学系统、使用多个散焦位置等而减小叠加误差放大。可使用额外测量或额外目标单元在成像或散射测量中执行测量结果的实时校准。
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公开(公告)号：CN113039407B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN201980076145.0
申请日：2019-08-05
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01B11/27 , G01B9/02002 , G01N21/47 , G03F7/20 , G01N21/956
Abstract: 本发明提供散射术重叠SCOL测量方法、系统及目标以实现具有裸片中目标的有效SCOL计量。方法包括通过以下项产生信号矩阵：以至少一个照明参数的多个值且在SCOL目标上的多个光点位置照明所述目标，其中所述照明是以产生光点直径 1/3；测量零级及第一衍射级的干扰信号；及相对于所述照明参数及所述目标上的所述光点位置从测量信号建构所述信号矩阵；及通过分析所述信号矩阵而导出目标重叠。所述SCOL目标的尺寸可减小到相对于现有技术目标的十分之一，这是因为需要较少且较小目标单元，且容易设置于裸片中以改进计量测量的准确性及保真度。
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