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公开(公告)号：CN101999172A
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200980112427.8
申请日：2009-06-04
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L31/04 , C23C16/505 , H01L21/205
CPC classification number: H01L21/67173 , C23C16/24 , C23C16/45565 , C23C16/4587 , C23C16/509 , C23C16/54 , H01L21/67161 , H01L21/67167 , H01L21/67754 , H01L21/67781 , H01L31/202 , H01L31/206 , Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明的薄膜太阳能电池制造装置具有：成膜室，以基板的成膜面与重力方向大致平行的方式配置所述基板，在所述成膜面上通过CVD法形成膜；电极单元，具有：施加有电压的阴极被配置在两侧的阴极单元、以及与所述各阴极分别对置且隔开间隔距离配置的一对阳极；以及搬送部，支撑所述基板，将所述基板搬送到所述阴极与对置于所述阴极的所述阳极之间，所述间隔距离可变。
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公开(公告)号：CN101990585A
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：CN200980112430.X
申请日：2009-06-05
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C16/4587 , C23C16/24 , C23C16/54 , H01L21/67161 , H01L21/67173 , H01L21/67712 , H01L21/67736 , H01L21/67754 , H01L31/076 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02E10/548 , Y02P70/521
Abstract: 一种成膜装置包括：成膜室(11)，在真空中将希望的膜成膜在基板(W)上；放入取出室(13)，经由第一开闭部(25)被固定于所述成膜室(11)，并能将内部减压为真空气氛；第二开闭部(36)，设置在所述放入取出室(13)的、与设置有所述第一开闭部(25)的面相反的面上；以及托架(21)，以所述基板(W)的成膜面与重力方向大致平行的方式保持所述基板(W)，所述托架或所述基板(W)通过所述第二开闭部(36)被搬入、搬出所述放入取出室(13)，在所述放入取出室(13)中并列配置多个所述托架(21)，在所述放入取出室(13)与所述成膜室(11)之间所述多个托架(21)被并列地搬入或搬出，在所述成膜室(11)中对保持在所述多个托架(21)上的多个所述基板(W)同时进行成膜。
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公开(公告)号：CN109477221B
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201780036633.X
申请日：2017-06-16
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C16/505 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H05H1/46
Abstract: 提供一种能够实现缩短返回电流路径和确保对称性的等离子体处理装置。本发明的一实施方式涉及的等离子体处理装置具备腔室主体、载物台、高频电极、多个接地部件、可动单元。上述腔室主体具有侧壁，所述侧壁的一部分包括能够使基板通过的开口部。上述多个接地部件配置在上述载物台的周围，电连接上述侧壁与上述载物台之间。上述可动单元具有支撑体，所述支撑体支撑作为上述多个接地部件的一部分的第一接地部件。上述可动单元构成为，能够使上述支撑体在上述第一接地部件间隔上述开口部而与上述开口部的内周面对置的第一位置和上述第一接地部件电连接于上述内周面的第二位置之间移动。
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公开(公告)号：CN104221122B
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201380008973.3
申请日：2013-02-13
Applicant: 日新离子机器株式会社 , 株式会社爱发科
IPC: H01J37/317 , B65G49/06 , H01L21/265 , H01L21/677 , H01L21/683
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/30 , H01J37/317 , H01J2237/20221 , H01J2237/20292 , H01L21/67173 , H01L21/67213 , H01L21/67259 , H01L21/67712 , H01L21/6776
Abstract: 离子束照射装置(10)具备：真空槽(14)，其收容对基板(S)进行保持的输送托盘(T)；输送部，其在真空槽(14)内向输送方向输送输送托盘(T)；离子束照射部(21L、21U)，其向真空槽(14)内的预定的照射位置照射离子束；以及位置检测部(23A‑23D)，其检测输送托盘(T)的位置。位置检测部(23A‑23D)通过输送托盘(T)的输送而在预定的拍摄位置对表示输送托盘(T)上的部位的、沿输送方向排列且彼此不同的多个指标分别进行拍摄，基于所拍摄到的指标来检测出输送托盘(T)相对于拍摄位置的位置。
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公开(公告)号：CN101786797B
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN200910129866.1
申请日：2009-03-30
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供运输方便且使用更紧凑的真空腔的处理装置。该处理装置具有真空腔，该真空腔具备：腔本体(21)，该腔本体(21)由具有形成可将基板插入的贯通孔(24)的块状多个腔部件(25)构成，在邻接的腔部件的至少一个上，沿与另一个抵接的面的贯通孔的开口部的整个周围连续设置槽(27)，各腔部件在夹着安装在槽中的密封部件(26)、分别紧靠的状态下被固定，腔本体(21)具有由多个贯通孔构成的处理空间(A)；密封处理空间的一个开口的壁面部件(22)；能开闭地塞住处理空间的另一开口的盖部件(23)，在各处理空间中具有用辐射热加热基板的加热装置(40)和分别设置在该加热装置的上下、与加热装置相对向地支持各基板(S)的一对基板支持部件(30)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101990585B
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN200980112430.X
申请日：2009-06-05
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C16/4587 , C23C16/24 , C23C16/54 , H01L21/67161 , H01L21/67173 , H01L21/67712 , H01L21/67736 , H01L21/67754 , H01L31/076 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02E10/548 , Y02P70/521
Abstract: 一种成膜装置包括：成膜室(11)，在真空中将希望的膜成膜在基板(W)上；放入取出室(13)，经由第一开闭部(25)被固定于所述成膜室(11)，并能将内部减压为真空气氛；第二开闭部(36)，设置在所述放入取出室(13)的、与设置有所述第一开闭部(25)的面相反的面上；以及托架(21)，以所述基板(W)的成膜面与重力方向大致平行的方式保持所述基板(W)，所述托架或所述基板(W)通过所述第二开闭部(36)被搬入、搬出所述放入取出室(13)，在所述放入取出室(13)中并列配置多个所述托架(21)，在所述放入取出室(13)与所述成膜室(11)之间所述多个托架(21)被并列地搬入或搬出，在所述成膜室(11)中对保持在所述多个托架(21)上的多个所述基板(W)同时进行成膜。
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公开(公告)号：CN102575343A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201080044569.8
申请日：2010-10-01
IPC: C23C16/44 , C23C16/24 , H01L21/205
CPC classification number: C23C16/44 , C23C16/24 , C23C16/325 , C23C16/345 , C23C16/4404 , C23C16/481 , H01L21/68757
Abstract: 在催化CVD装置(100)中，保持体300)具有用于防止从催化剂丝(11)所放出的辐射线向基材(200)侧反射的防反射结构。
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公开(公告)号：CN102017169A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200980112754.3
申请日：2009-06-05
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L31/04 , C23C16/505 , H01L21/205
CPC classification number: H01L31/18 , C23C16/50 , C23C16/5096 , C23C16/54 , H01J37/32568 , H01L21/67748 , H01L31/1876 , Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 一种薄膜太阳能电池制造装置包括：成膜空间(81)，以基板(W)的成膜面与重力方向大致平行的方式配置所述基板(W)，并通过CVD法将希望的膜形成在所述成膜面上；阴极单元(68、118、128)，具有施加有电压的阴极(75)和两个以上的供电点(88)，所述阴极(75)配置在两侧；以及阳极(67)，与配置在所述阴极单元(68、118、128)的两侧的所述阴极(75)隔开并对置地配置。
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公开(公告)号：CN101786797A
公开(公告)日：2010-07-28
申请号：CN200910129866.1
申请日：2009-03-30
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 提供运输方便且使用更紧凑的真空腔的处理装置。该处理装置具有真空腔，该真空腔具备：腔本体(21)，该腔本体(21)由具有形成可将基板插入的贯通孔(24)的块状多个腔部件(25)构成，在邻接的腔部件的至少一个上，沿与另一个抵接的面的贯通孔的开口部的整个周围连续设置槽(27)，各腔部件在夹着安装在槽中的密封部件(26)、分别紧靠的状态下被固定，腔本体(21)具有由多个贯通孔构成的处理空间(A)；密封处理空间的一个开口的壁面部件(22)；能开闭地塞住处理空间的另一开口的盖部件(23)，在各处理空间中具有用辐射热加热基板的加热装置(40)和分别设置在该加热装置的上下、与加热装置相对向地支持各基板(S)的一对基板支持部件(30)。
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公开(公告)号：CN102859031B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201180021220.7
申请日：2011-04-19
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C16/042 , C23C16/4586 , C23C16/54 , H01L51/5253 , H01L51/56
Abstract: 提供一种即便不将真空槽内曝露于大气也能够更换对位掩模的真空处理装置。在气体导入装置（12）的下方配置插入有基板升降销（46）、在上下方向中比基板升降销（46）还长的掩模升降销（45）的板（23），在板（23的下方配置有构成为在令与板（23）之间接近至第一距离以下时分别铅直地载置掩模升降销（45）和基板升降销（46）的销支承部件（24）。掩模升降销（45）和基板升降销（46）上设置卡止部件（47），当令板（23）和销支承部件（24）之间为比第一距离还分离的第二距离以上时，令掩模升降销（45）和基板升降销（46）在销支承部件（24）上方从销支承部件（24）离开而被板（23）悬吊。
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