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公开(公告)号：CN108475608A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201680077769.0
申请日：2016-02-26
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种加工技术，其能够抑制在加工面产生再沉积的可能性，并且获得所需的加工内容。为了解决该问题，根据本发明的离子铣削装置具有：离子源(1)，其发出离子束；试样保持部，其保持试样；以及试样滑动移动机构(70)，其使试样保持部沿包括离子束的轴的法线方向成分的方向滑动移动。
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公开(公告)号：CN105917438B
公开(公告)日：2018-04-24
申请号：CN201480073422.X
申请日：2014-11-21
Inventor： 马修·C·格温
IPC: H01J37/317
CPC classification number: H01J37/30 , H01J37/08 , H01J2237/0812 , H01J2237/317
Abstract: 描述了一种用于执行各种材料的气体团簇离子束(GCIB)蚀刻处理的方法和系统。特别地，该GCIB蚀刻处理包括使用一种或更多种分子束来优化离子束的局部区域处的压力。
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公开(公告)号：CN105321790B
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201510245840.9
申请日：2015-05-14
Applicant: 斯伊恩股份有限公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/30
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/1477 , H01J37/30 , H01J37/3007 , H01J37/317 , H01J2237/15 , H01J2237/1534 , H01J2237/303 , H01J2237/31701
Abstract: 本发明提供一种能够广泛使用的离子注入装置。本发明的离子注入装置具备扫描单元(1000)，该扫描单元包括：扫描电极装置(400)，向沿着基准轨道(Z)射入的离子束B施加偏转电场，以向与基准轨道(Z)正交的横向扫描离子束(B)；及上游电极装置(300)，由设置于扫描电极装置(400)的上游的多个电极体构成。扫描电极装置(400)具备隔着基准轨道(Z)横向对置而设的一对扫描电极(410R，410L)及隔着基准轨道(Z)而在与横向正交的纵向对置而设的一对射束输送补正电极(450)。一对射束输送补正电极(450)分别在扫描电极装置(400)的入口(402)附近具有向基准轨道(Z)纵向延伸的射束输送补正入口电极体(454)。
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公开(公告)号：CN104039360B
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201280062476.7
申请日：2012-12-19
Applicant: 克朗斯股份公司
Inventor： 约恩·克鲁格
CPC classification number: A61L2/087 , A61L2202/11 , A61L2202/23 , B65B43/50 , B65B55/08 , B65B57/02 , B65B65/003 , B67C7/0073 , H01J33/02 , H01J37/30
Abstract: 一操作用于为容器（10）灭菌的装置（1）的方法，其中，该容器（10）通过传输设备（2）沿着预设的传输路径（P）传输，并且在这一传输过程中，借助于至少一台第一辐射设备（4）辐射—特别是电荷载子辐射该容器（10）的至少一个侧壁，以及其中，另外具有一传感器设备（6），该传感器设备检测电荷载子辐射和/或该由电荷载子所产生的辐射，该传感器设备以这样的方式安装，撞击该传感器设备（6）的辐射受到波动，由于该容器（10）沿着该传输路径（P）的移动，并且这一传感器设备（6）检测该辐射的至少一个模式特点，其特征在于，确定了至少一个第一阈值（G1），并且在这一阈值（G1）和该模式之间做了比较，其特征在于，该阈值（G1）具有一个值，该值可以随着时间而变化。
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公开(公告)号：CN101964294B
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201010504226.7
申请日：2010-07-15
Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
IPC: H01J37/28 , G01N23/225
CPC classification number: H01J37/30 , H01J37/28 , H01J37/3178 , H01J2237/0044 , H01J2237/006 , H01J2237/022 , H01J2237/3174
Abstract: 本发明提供一种粒子束显微系统及其操作方法。用于清洁自身的该粒子束显微系统1包括：辐射系统，以导引电磁辐射到需要清洁的表面；以及供给系统61，以供给前驱气体到粒子束系统1的真空室11的内部。在将被清洁的表面的附近，前驱气体被激活并转变为与存在于被辐照表面的污染物反应的反应气体，从而所述污染物随后可以被泵出。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104039360A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201280062476.7
申请日：2012-12-19
Applicant: 克朗斯股份公司
Inventor： 约恩·克鲁格
CPC classification number: A61L2/087 , A61L2202/11 , A61L2202/23 , B65B43/50 , B65B55/08 , B65B57/02 , B65B65/003 , B67C7/0073 , H01J33/02 , H01J37/30
Abstract: 一操作用于为容器（10）灭菌的装置（1）的方法，其中，该容器（10）通过传输设备（2）沿着预设的传输路径（P）传输，并且在这一传输过程中，借助于至少一台第一辐射设备（4）辐射—特别是电荷载子辐射该容器（10）的至少一个侧壁，以及其中，另外具有一传感器设备（6），该传感器设备检测电荷载子辐射和/或该由电荷载子所产生的辐射，该传感器设备以这样的方式安装，撞击该传感器设备（6）的辐射受到波动，由于该容器（10）沿着该传输路径（P）的移动，并且这一传感器设备（6）检测该辐射的至少一个模式特点，其特征在于，确定了至少一个第一阈值（G1），并且在这一阈值（G1）和该模式之间做了比较，其特征在于，该阈值（G1）具有一个值，该值可以随着时间而变化。
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公开(公告)号：CN103512567A
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201310255880.2
申请日：2013-06-25
Applicant: FEI公司
IPC: G01C15/02
CPC classification number: H01J37/30 , H01J37/28 , H01J37/3045 , H01J2237/2811 , H01J2237/31732 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749 , Y10T428/24488 , Y10T428/24802
Abstract: 一种用于在样品上形成基准并且使用该基准来定位该样品上的所感兴趣的区域的方法和系统，该方法包括通过以下步骤来形成一个基准：在样品上接近于该样品上的所感兴趣的区域处来沉积一种材料块，该材料块从该样品的表面延伸至该样品表面上方的可检测范围；并且使用一个带电粒子束在该材料块的至少两个暴露面中铣削一个预定图案；在形成该基准之后，通过检测该基准的位置来检测该所感兴趣的区域的位置；并且在检测到该所感兴趣的区域的位置之后，用一个带电粒子束来对该所感兴趣的区域进行成像或铣削。
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公开(公告)号：CN101824240A
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN201010128436.0
申请日：2010-03-03
Applicant: 通用汽车环球科技运作公司
Abstract: 本发明涉及车辆用光致发光涂料。具体而言，本发明提供用于照亮带轮廓表面比如车辆的方法和组合物，所述带轮廓表面具有从结构元件延伸出来的接收表面。方法包括提供非均匀混合物，所述非均匀混合物包括半导体纳米晶体络合物和分散介质，所述络合物一般包括在芯和外层之间延伸的中间层。将所述混合物施加到接收表面上，其接收具有足以照亮带轮廓表面的性质的照亮，并在聚合物加工过程添加所述混合物。另外，提供了车辆发光组合物，其中将半导体纳米晶体络合物的非均匀混合物浸没在分散介质中，其中所述络合物可以进一步包括通过中间层而和外层分开的半导体纳米晶体芯，所述非均匀混合物照亮所述带轮廓表面。
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公开(公告)号：CN1240051A
公开(公告)日：1999-12-29
申请号：CN97180399.4
申请日：1997-10-08
Applicant: F·O·B·有限公司(制造彩色光电构成元件公司)
IPC: H01J37/30 , H01J37/147 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/317 , H01J37/1472 , H01J37/30 , H01J2237/316
Abstract: 本发明是一种利用电子束的“结构化”能量传输方法，已知有多种方法利用电子束处理材料或改变其性质。迄今无法将微小的表面区域图元在该表面上进行某种排列以达成某些效果。根据本发明，所要加工的物体在一光罩下移动，二者不相接触，可作二维空间偏转的电子束(它以高频率垂直于物体运动方向振动)在光罩上移动，其速度比物体运动速度快得多。此方法可用于加工任何材料，特别是平坦或具有一定形状的物体，以利用物理或化学反应达到加工效果。
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公开(公告)号：CN107610994B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201710680517.3
申请日：2017-08-10
Applicant: 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC: H01J37/30 , H01J37/305 , H01J37/02
CPC classification number: H01J37/02 , H01J37/30 , H01J37/305
Abstract: 本发明公开一种离子束刻蚀系统，包括刻蚀腔体和刻蚀电极，还包括电极变位装置，用于使所述电极在所述刻蚀腔体内变化工作位置，所述电极变位装置包括动密封机构、电极动平衡配重机构、电极变位传动机构、以及电极变位驱动机构，所述刻蚀腔体包括腔室以及与所述腔室相连接的腔盖，所述腔室呈不规则形状。本发明的优点在于，可以实现对晶片的多角度刻蚀。另外，通过对刻蚀腔体的腔室形状进行特殊设计，能够节省占地空间，方便与其他外界设备连接，大幅度提高刻蚀工作效率。
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