-
公开(公告)号：CN101789358A
公开(公告)日：2010-07-28
申请号：CN200910129865.7
申请日：2009-03-30
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/00 , H01L21/324
Abstract: 提供能够以低成本制造、高效率良好加热处理基板的加热处理装置。该加热处理装置具有真空腔(20)、支持部件(30)和加热装置(40)，所述真空腔(20)具备：腔本体(21)，该腔本体(21)由具有贯通孔(24)的多个腔部件(25)构成，在邻接的腔部件(25)的至少一个上，沿与另一个抵接的面的贯通孔(24)的开口部的整个周围连续设置槽部(27)，各腔部件(25)在夹着安装在槽部(27)中的密封部件(26)、分别紧靠的状态下被固定，腔本体(21)具有由多个贯通孔(24)构成的处理空间(A)；塞住处理空间(A)的壁面部件(22)；以及盖部件(23)，上述支持部件(30)配置在处理空间(A)内、支持基板(S)，上述加热装置(40)用辐射热加热基板(S)。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102598293B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201080050150.3
申请日：2010-08-30
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B23K26/36 , B23K26/40 , B23K2103/172 , H01L31/046 , H01L31/0463 , H01L31/18 , Y02E10/50
Abstract: 本发明提供一种可以防止分流及裂纹的产生的、包括激光除边工序的太阳能电池制造方法及用于该方法的制造装置。通过从透明基板(2)侧向层叠体(1)照射第一激光(L1)，除去第一激光(L1)所照射的第一区域(A1)内的光电转换层(4)及里侧电极层(5)，其中，层叠体(1)包括在透明基板(2)上顺次形成的透明电极层(3)、光电转换层(4)及里侧电极层(5)；并且，通过在区域(A1)内以与区域(A1)分离的方式照射具有与第一激光(L1)不同的特性的第二激光(L2)，除去第二激光(L2)所照射的包含在第一区域(A1)内的第二区域(A2)上的透明电极层(3)。
-
公开(公告)号：CN101786797B
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN200910129866.1
申请日：2009-03-30
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供运输方便且使用更紧凑的真空腔的处理装置。该处理装置具有真空腔，该真空腔具备：腔本体(21)，该腔本体(21)由具有形成可将基板插入的贯通孔(24)的块状多个腔部件(25)构成，在邻接的腔部件的至少一个上，沿与另一个抵接的面的贯通孔的开口部的整个周围连续设置槽(27)，各腔部件在夹着安装在槽中的密封部件(26)、分别紧靠的状态下被固定，腔本体(21)具有由多个贯通孔构成的处理空间(A)；密封处理空间的一个开口的壁面部件(22)；能开闭地塞住处理空间的另一开口的盖部件(23)，在各处理空间中具有用辐射热加热基板的加热装置(40)和分别设置在该加热装置的上下、与加热装置相对向地支持各基板(S)的一对基板支持部件(30)。
-
公开(公告)号：CN102598293A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080050150.3
申请日：2010-08-30
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B23K26/36 , B23K26/40 , B23K2103/172 , H01L31/046 , H01L31/0463 , H01L31/18 , Y02E10/50
Abstract: 本发明提供一种可以防止分流及裂纹的产生的、包括激光除边工序的太阳能电池制造方法及用于该方法的制造装置。通过从透明基板(2)侧向层叠体(1)照射第一激光(L1)，除去第一激光(L1)所照射的第一区域(A1)内的光电转换层(4)及里侧电极层(5)，其中，层叠体(1)包括在透明基板(2)上顺次形成的透明电极层(3)、光电转换层(4)及里侧电极层(5)；并且，通过在区域(A1)内以与区域(A1)分离的方式照射具有与第一激光(L1)不同的特性的第二激光(L2)，除去第二激光(L2)所照射的包含在第一区域(A1)内的第二区域(A2)上的透明电极层(3)。
-
公开(公告)号：CN101786797A
公开(公告)日：2010-07-28
申请号：CN200910129866.1
申请日：2009-03-30
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 提供运输方便且使用更紧凑的真空腔的处理装置。该处理装置具有真空腔，该真空腔具备：腔本体(21)，该腔本体(21)由具有形成可将基板插入的贯通孔(24)的块状多个腔部件(25)构成，在邻接的腔部件的至少一个上，沿与另一个抵接的面的贯通孔的开口部的整个周围连续设置槽(27)，各腔部件在夹着安装在槽中的密封部件(26)、分别紧靠的状态下被固定，腔本体(21)具有由多个贯通孔构成的处理空间(A)；密封处理空间的一个开口的壁面部件(22)；能开闭地塞住处理空间的另一开口的盖部件(23)，在各处理空间中具有用辐射热加热基板的加热装置(40)和分别设置在该加热装置的上下、与加热装置相对向地支持各基板(S)的一对基板支持部件(30)。
-
公开(公告)号：CN101789358B
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN200910129865.7
申请日：2009-03-30
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/00 , H01L21/324
Abstract: 本发明提供能够以低成本制造、高效率良好加热处理基板的加热处理装置。该加热处理装置具有真空腔(20)、支持部件(30)和加热装置(40)，真空腔(20)具备：腔本体(21)，该腔本体(21)由具有贯通孔(24)的多个腔部件(25)构成，在邻接的腔部件(25)的至少一个上，沿与另一个抵接的面的贯通孔(24)的开口部的整个周围连续设置槽部(27)，各腔部件(25)在夹着安装在槽部(27)中的密封部件(26)、分别紧靠的状态下被固定，腔本体(21)具有由多个贯通孔(24)构成的处理空间(A)；堵住处理空间(A)的壁面部件(22)和盖部件(23)，支持部件(30)配置在处理空间(A)内、支持基板(S)，加热装置(40)用辐射热加热基板(S)。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.019 seconds)
