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公开(公告)号：CN113432961A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN202110647765.4
申请日：2021-06-10
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本发明涉及一种微纳涂层多功能力学试验机及其使用方法，其中微纳涂层多功能力学试验机包括工作台和工件固定装置，工作台上固设有支撑座和液体储存箱，支撑座上设有移动块和驱动移动块沿横向往复移动的横向驱动装置，工件固定装置上方设有摩擦组件以及给摩擦组件提供恒加载力的竖向驱动装置，竖向驱动装置与移动块相对固定设置。本发明通过加载力闭环控制，实现摩擦测试过程中的恒加载力加载实现了精确力度输出；通过摩擦组件与安装杆的插设连接，可以根据测试需求更换不同类型的摩擦组件，提高了试验机的通用性；通过加热装置对工件进行加热，满足了工件在不同温度下的摩擦测试要求；通过设置供液泵和液体储存箱，方便精确控制滴液速度。
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公开(公告)号：CN111399206A
公开(公告)日：2020-07-10
申请号：CN202010331853.9
申请日：2020-04-24
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本发明公开一种落射式紫外光学显微镜光源多维调节机构，主要包括用于转换光路的落射照明盒、支撑零部件用的笼杆、安装各种透镜的笼板、光圈可调的可变光阑以及安装并调节紫外光源用的光学调整架。通过调节安装透镜的笼板和安装紫外光源的光学调整架在笼杆上的位置，能够实现成像要求的紫外光源的消色差、扩束和准直，通过移动可变光阑上的拨杆，能够调节紫外光源入射到落射照明盒的光束范围，通过调节安装紫外光源的光学调整架上面的旋转调节螺钉，能够实现紫外光源在俯仰、偏摆方向的微调，紫外光学显微镜在三种紫外光源调节方式下，互相配合，共同作用，从而达到高分辨率成像的显微镜光源需求。
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公开(公告)号：CN119618772A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202411810046.X
申请日：2024-12-10
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01N1/28 , G01N23/2251 , H01L21/66
Abstract: 一种稀疏散射缺陷的标准晶圆片的制造方法，包括以下步骤：步骤一、确定预设的缺陷参数；步骤二、根据预设的缺陷参数，生成在缺陷区域内位置坐标随机排布的凸起或凹坑构成的缺陷图形，将缺陷图形设计为标准样板结构版图，并按照标准样板结构版图制作目标掩模版；通过热氧化工艺得到目标晶圆片；步骤三、利用光刻工艺，将目标掩模板上的图形转移到目标晶圆片上；采用刻蚀工艺对目标晶圆片进行刻蚀，得到标准晶圆片。本发明提供一种稀疏散射缺陷的标准晶圆片的制造方法，所制备的标准晶圆片具有可控的缺陷数目和缺陷直径，该晶圆可以清洗，具有更长的寿命。缺陷的分布区域、尺寸以及数量参数均为可控生成，能够满足不同类型检测设备的需要。
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公开(公告)号：CN110208936B
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN201910468723.7
申请日：2019-05-31
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本发明公开一种用于共聚焦显微镜探测针孔的纳米级微位移调节装置，由设置在下基座上的驱动器支撑上基座并对其进行快速、大行程的一级调节，由安装在上基座上的三维精密微位移平台对针孔盘进行三维方向的精密二级调节，通过上述双级调节可有效消除传统手动调节方式所带来的不确定性和不稳定性，以及现有光路调整机构可调行程小和应用范围受限的缺陷，并且上述一级大行程快速调节部分和二级精密微调部分可单独使用，以应用于相应需求场合。本发明通过控制器控制其进行纳米微位移调节，可使装置在工作过程中运行稳定、重复性好，从而使调节精度得到保障，实用性强。
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公开(公告)号：CN113447406B
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202110767211.8
申请日：2021-07-07
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01N15/02
Abstract: 本发明涉及一种一种基于FPGA的多通道动态光散射自相关系统及方法，系统包括：动态光散射发生装置、光子相关器和上位机；光子相关器包括FPGA和USB通讯模块；动态光散射发生装置与FPGA连接；FPGA用于将动态光散射发生装置产生的光子脉冲进行计数和相关计算；USB通讯模块与上位机连接；上位机用于根据计数结果和相关计算结果确定颗粒信息；FPGA包括双计数器模块和相关计算模块；双计数器模块分别与动态光散射发生装置和相关计算模块连接；相关计算模块与USB通讯模块连接；双计数器模块包括多个双计数器；相关计算模块包括多个相关器。本发明能够实现多角度同时采集和计算样品的粒径和分布。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111721677A
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN202010460736.2
申请日：2020-05-27
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01N15/02
Abstract: 本申请涉及一种颗粒粒径测量方法、装置、计算机设备和存储介质。基于多个角度与多个角度颗粒粒径、多个样品浓度与多个第一颗粒粒径，分别对多个角度颗粒粒径、多浓度条件下颗粒粒径采用多项式拟合的数学方法进行拟合，获得颗粒粒径随角度、浓度变化的趋势，进行回归分析预测，可以根据实际样本数据建立自变量与因变量的关系，进而预测出0°散射角和0样品浓度条件下对应的颗粒粒径。通过所述颗粒粒径测量方法可以消除颗粒间长程作用力、大颗粒自身散射信号互相干涉带来的粒径测量误差，解决了单一角度测量无法分析和消除误差的问题，并且解决了不同仪器、不同浓度和类型样品测量结果偏差大的问题。
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公开(公告)号：CN111366108A
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN202010298483.3
申请日：2020-04-16
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01B11/30
Abstract: 本发明公开了一种垂直式表面粗糙度测头及表面粗糙度仪，垂直式表面粗糙度测头包括固定架、移动架、位移测量模块、针杆、触针和导向装置，移动架竖向滑动连接于固定架上，移动架上设置针杆，移动架的底板上设有导向装置，导向装置能够用于对针杆进行竖向导向以防止针杆摆动，针杆的底端固定设置有触针，针杆穿过导向装置，触针贯穿移动架的底板，位移测量模块用于测量针杆竖直方向上的移动距离；表面粗糙度仪包括架体、移动装置和上述的垂直式表面粗糙度测头。本发明中，触针与针杆在导向装置的作用下，测量过程中始终与工件表面垂直，操作简便、测量精准程度高。
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公开(公告)号：CN108917655B
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201810818139.5
申请日：2018-07-24
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01B11/26
Abstract: 本发明公开一种旋转平台，包括固定基座、转台和两个驱动器，固定基座的上表面开设有与转台形状相匹配的凹槽，转台可转动嵌置安装在凹槽内；转台包括中心圆形转子，中心圆形转子的两侧对称设置有两个旋转臂，两个驱动器以中心圆形转子的圆心为中心呈中心对称分布，两个驱动器用于同时驱动两个旋转臂同向旋转；该旋转平台在转动时可避免中心产生平移。本发明还提供一种结构紧凑、受环境影响小、角度分辨率高的多倍程平面干涉角度测量系统，包括上述旋转平台、被测平面镜和测角干涉仪，被测平面镜放置在中心圆形转子的上表面，测角干涉仪设置在旋转平台的一侧。
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公开(公告)号：CN110455690A
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201910773638.1
申请日：2019-08-21
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01N15/02
Abstract: 本申请提供一种纳米颗粒粒径测量系统。在匹配液中放置有第一光阻断结构和第二光阻断结构。第一光阻断结构设置于入射光束正向延长线上，用以吸收和反射光束，使其无法到达匹配池壁面与空气交界处发生反射。第二光阻断结构设置于多个散射光通孔接收的散射光束的反向延长线上，用于吸收和反射测量接收角互补角上的散射光束，使其无法到达匹配池壁面与空气交界处发生反射。通过匹配液、第一光阻断结构以及第二光阻断结构可以极大程度上减少传统纳米颗粒粒径测量系统中样品池壁面反射光的影响，并避免多个散射光通孔接收自身角度的散射光信号中混入反射光信息，从而大幅提高了测量结果的准确性。
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公开(公告)号：CN119714144A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202510213079.4
申请日：2025-02-26
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01B15/00
Abstract: 本申请公开了一种用于皮米级位移台的X射线干涉仪及位移测量方法，涉及干涉仪领域，该干涉仪中第一分光器设置在X射线源的出射光路上；第一反射器和第二分光器分别设置在第一分光器的透射光路上；分析器设置在第一反射器的反射光路和第二分光器的第一透射光路上；第三分光器设置在第二分光器的第二透射光路上；第二反射器设置在第三分光器的反射光路上；第三反射器设置在第三分光器的透射光路上；第三分光器设置在第二和第三反射器的反射光路上；探测模块设置在分析器和第三分光器的出射光路上，探测干涉条纹强度，处理器根据强度计算X、Y方向上的位移，本申请仅用一个光源即可实现同时对二维运动进行皮米级精度的测量，结构简单，辐射风险小。
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