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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101819925A
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN201010162506.4
申请日：2010-04-28
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L21/205
Abstract: 本发明公开了一种化学气相沉积装置，该装置包括多个独立的生长室，该多个独立的生长室位于一箱体之内，使用机械臂进行样品的传递，分别用于n型层外延材料的生长、多量子阱有源层的生长，以及p型层外延材料等不同生长工艺的材料生长。利用本发明，解决了现有化学气相沉积尤其是MOCVD装置单反应室一次生长结构材料导致的化学气相沉积装置复杂、沉积工艺复杂，受到影响因素较多，工艺可重复性差，可推广性差，同时工艺周期长，生产效率低下等问题。
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公开(公告)号：CN103296165B
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201310244179.0
申请日：2013-06-19
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 本发明公开了一种提高发光二极管有源区多量子阱中辐射复合效率的可调控能带的量子阱结构及其外延生长方法。该可调控能带的LED量子阱结构包括至少一个组分渐变的量子阱势阱层，实现对量子阱区域的能带调控，提高量子阱有源区中的电子空穴波函数叠加，提高LED量子阱区域的辐射复合效率。该多量子阱结构可应用于InGaN基蓝光和绿光LED，提高InGaN基蓝光和绿光LED有源区的内量子效率，进而提高LED的功率和效率。
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公开(公告)号：CN101931036B
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201010235850.1
申请日：2010-07-21
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L33/02
Abstract: 一种氮化镓系发光二极管，包括：一衬底；一氮化镓成核层，该氮化镓成核层制作在衬底上；一缓冲层制作在成核层上；一n型接触层制作在缓冲层上，该n型接触层由n型氮化镓构成；一活性发光层制作在n型接触层上并覆盖所述n型接触层的部分表面，所述活性发光层是由铟镓氮薄层和氮化镓薄层交互层叠形成的多周期的量子阱结构构成；一p型电子阻挡层制作在活性发光层上，其下为氮化镓薄层，该p型电子阻挡层由铝镓氮构成；一p型铟镓氮插入层制作在p型电子阻挡层上；一p型接触层制作在p型铟镓氮插入层上，该p型接触层由p型氮化镓构成；一负电极制作在制作在n型接触层的台面上；一正电极制作在p型接触层上，完成氮化镓系发光二极管的制作。
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公开(公告)号：CN101819925B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201010162506.4
申请日：2010-04-28
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L21/205
Abstract: 本发明公开了一种化学气相沉积装置，该装置包括多个独立的生长室，该多个独立的生长室位于一箱体之内，使用机械臂进行样品的传递，分别用于n型层外延材料的生长、多量子阱有源层的生长，以及p型层外延材料等不同生长工艺的材料生长。利用本发明，解决了现有化学气相沉积尤其是MOCVD装置单反应室一次生长结构材料导致的化学气相沉积装置复杂、沉积工艺复杂，受到影响因素较多，工艺可重复性差，可推广性差，同时工艺周期长，生产效率低下等问题。
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公开(公告)号：CN101931036A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010235850.1
申请日：2010-07-21
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L33/02
Abstract: 一种氮化镓系发光二极管，包括：一衬底；一氮化镓成核层，该氮化镓成核层制作在衬底上；一缓冲层制作在成核层上；一n型接触层制作在缓冲层上，该n型接触层由n型氮化镓构成；一活性发光层制作在n型接触层上并覆盖所述n型接触层的部分表面，所述活性发光层是由铟镓氮薄层和氮化镓薄层交互层叠形成的多周期的量子阱结构构成；一p型电子阻挡层制作在活性发光层上，其下为氮化镓薄层，该p型电子阻挡层由铝镓氮构成；一p型铟镓氮插入层制作在p型电子阻挡层上；一p型接触层制作在p型铟镓氮插入层上，该p型接触层由p型氮化镓构成；一负电极制作在制作在n型接触层的台面上；一正电极制作在p型接触层上，完成氮化镓系发光二极管的制作。
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