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公开(公告)号:CN201004463Y
公开(公告)日:2008-01-09
申请号:CN200620048154.9
申请日:2006-11-24
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
IPC: H01L27/144
Abstract: 本实用新型涉及铟镓砷线列红外焦平面探测器,该器件包括半绝缘InP衬底,在半绝缘InP衬底上依次排列生长有N型InP层、InxGa1-xAs吸收层和P型InP层。其特征在于:在P型InP层上有线列光敏元,光敏元的侧面周围为H离子辐照形成的隔离区。本实用新型的优点是:相对于传统的平面结构探测器,光电流的收集结是外延生长的,缺陷较少;相对于台面器件,它基本上保留了InP层晶格的完整性,并且在器件的侧面引入隔离,降低了光生载流子在侧面的产生复合。离子辐照可以精确的定义光敏元的面积。离子注入还具有工艺简单、重复性好以及可控性高等特点。
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公开(公告)号:CN203631575U
公开(公告)日:2014-06-04
申请号:CN201320623863.5
申请日:2013-10-10
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
IPC: H01L31/09 , H01L27/146
Abstract: 本专利公开了一种改善光谱平整度的红外探测器,它包括金属电极、衬底、光敏感区和其它介质,金属电极位于矩形光敏感区的左右两边,其它介质位于矩形光敏感区的上下两边;所述的其它介质采用与光敏感区相同的材料,电学上与金属电极和光敏感区隔离。本专利的器件结构简单且有效,消除了响应光谱谱形的非线形,提高了光谱的平整度。
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公开(公告)号:CN201556629U
公开(公告)日:2010-08-18
申请号:CN200920272392.1
申请日:2009-11-18
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
IPC: H01L31/0224 , H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本专利公开了一种AIN晶体上的欧姆接触电极结构,AIN材料结构包括:一衬底;一AIN缓冲层;一本征型AIN层。通过先在本征型AIN上生长欧姆接触电极结构:钒金属层/铝金属层/钒金属层/金金属层,厚度依次为15~25μm/50~100μm/15~25μm/50~100μm;然后进行In离子注入,注入剂量大于1×1014cm-2,能量大于150keV;并进行高温退火激活工艺,制备出AIN材料上的欧姆接触。AIN欧姆接触的实现,有助于解决日盲型材料的欧姆接触问题,提高日盲器件的性能;并解决了制备高性能真空紫外响应器件的瓶颈。真空紫外器件的研制,将能为我国的太空探测提供技术支撑。
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