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公开(公告)号：CN116153748A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202211221674.5
申请日：2022-10-08
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于聚焦离子束设备的装夹装置，包括基座；其特征在于：还包括转动件，可转动地设于所述基座上；运动机构，设于所述基座上、并用来驱动所述转动件转动；夹头，安装在所述转动件上、并用来夹持住样品。本发明还涉及一种应用有前述用于聚焦离子束设备的装夹装置的聚焦离子束设备。
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公开(公告)号：CN115592162A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211350750.2
申请日：2022-10-31
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院(CN)
Abstract: 本发明涉及一种用于柱塞马达的柱塞孔镗削加工装置，包括有：底座，用于供待柱塞马达的马达轴和缸体一上一下地布置其上；还包括有：分度盘，套设于马达轴外，与马达轴同轴设置并被布置成能绕其自身中轴线转动；内部中空的轴套，设于分度盘的上表面并位于缸体的上方，并随分度盘转动而能分别与缸体上的每个柱塞孔上下对齐；以及镗削件，包括镗刀和用于加长镗刀的刀杆，刀杆的下端与镗刀相连接，刀杆穿设于所述轴套内，并且刀杆的上端至少局部伸出于轴套外而与外部动力源的输出轴相连接，镗刀与轴套同轴布置。该装置拆装检修方便，互换性高，可根据不同的柱塞孔数量或者加工精度更换分度盘，针对此类型缸体的盲孔镗削加工具备较高的普适性和灵活性。
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公开(公告)号：CN114800926A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210472210.5
申请日：2022-04-29
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B29B9/12
Abstract: 本发明公开了一种离子束加工聚合物微球的方法，S1、将待加工的聚合物微球依次装入基台的第一凹槽中，放置完成后，各聚合物微球的底面抵接在对应第一凹槽的内壁上，此时聚合物微球上半部外露的球面记为A面；S2、通过离子束依次对各聚合物微球的A面进行加工；S3、待所有聚合物微球的A面加工完成后，将背板盖设在基台上方，直到各聚合物微球的顶面抵接在对应第二凹槽的内壁上；S4、通过翻转机构将整个样品台上下翻转，然后移走基台，此时聚合物微球上半部外露的球面记为B面；S5、通过离子束依次对各聚合物微球的B面进行加工。与现有技术相比，本发明方法既能实现样品固定又能实现导电功能，且能够实现批量化加工。
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公开(公告)号：CN113070742A
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202110429742.6
申请日：2021-04-21
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一：对光学元件进行古典抛光；步骤二：对经过古典抛光的光学元件进行真空等离子体抛光。本发明采用古典抛光和等离子抛光的复合抛光技术，能显著消除光学元件的表面与亚表面损伤，该复合抛光技术能够有效克服古典抛光造成光学元件表面和亚表面损伤以及等离子抛光的抛光效率低的问题，即将古典抛光与等离子体抛光结合，可以兼顾抛光效率和对损伤层的去除。
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公开(公告)号：CN120055994A
公开(公告)日：2025-05-30
申请号：CN202510310426.5
申请日：2025-03-17
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种抛光压力可调节的上抛光盘装置，包括有：基座和抛光组件，抛光组件包括有旋转杆、抛光盘安装组件及抛光盘，旋转杆的下端通过抛光盘安装组件连接有抛光盘；移动组件包括有气缸，气缸活动端的下端通过可旋转连接结构连接旋转杆；其特征在于移动组件包括有压力调节装置，平衡缸的活塞杆下端连接可旋转连接结构，承担抛光盘和可旋转连接结构的重力；压力缸的活塞杆下端连接可旋转连接结构，推动抛光盘上下升降并施加抛光压力；压力传感器设在活塞杆下端和可旋转连接结构之间，用于测量抛光压力并输出压力信号；控制器的信号输入端接收输出压力信号，对应地，压力缸和平衡缸所对应电控阀门，结构简单、成本低、操作方便而且抛光压力测量准确。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111403251B
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202010286352.3
申请日：2020-04-13
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种射频离子源离子束束径约束器，其特征在于：所述束径约束器包括具有可供离子束穿过的中空结构的底座、多个叶片及驱动机构；所述多个叶片设于底座一端并环绕中空结构呈圆周排布，多个叶片的尾端伸入中空结构所在区域以围合形成可供离子束穿过的光阑，所述驱动机构可驱动叶片的尾端相对叶片排布形成的圆周中心运动以调节光阑大小。本发明还涉及一种包括束径约束器的控制装置及对应的方法，采用该装置及方法进行离子束束径控制，操作方便，调节精度好，效率高，而且成本节约。
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公开(公告)号：CN118635958A
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202410670497.1
申请日：2024-05-28
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B23Q11/08
Abstract: 本发明公开一种等离子体加工机床运动系统的防护装置，包括内伸缩罩，能伸缩地罩设于运动系统的导向件/传动件外，伸缩方向与导向件/传动件的导向/传动方向相一致，内伸缩罩在运动系统的运动件处避位，内伸缩罩开有气孔，内伸缩罩内为内部空间；外伸缩罩，能伸缩地罩设于内伸缩罩外，伸缩方向与导向件/传动件的导向/传动方向相一致，外伸缩罩在运动系统的运动件处设有第二开口，第二开口的边沿与运动件的侧面相连接并使运动件的顶面外露于外伸缩罩，外伸缩罩与内伸缩罩之间为中部空间，外伸缩罩外为外部空间，中部空间通过内伸缩罩的气孔与内部空间相连通；气源，与中部空间相连通，并向中部空间供给气体，气体通过气孔进入内部空间使内部空间的气压始终高于外部空间。
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公开(公告)号：CN114804011B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202210476300.1
申请日：2022-04-29
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B81C1/00
Abstract: 本发明涉及一种聚合物微结构的超精密制造方法，步骤S1、采用金刚石铣削接触式工艺对聚合物表面进行加工，以实现对微结构的毫微级控形；步骤S2、对步骤S1得到的聚合物微结构采用激光束非接触式工艺，实现微米级调形；步骤S3、在步骤S2得到的聚合物外设置导电层，导电层具有使聚合物的微结构外露的镂空部，然后采用非接触式离子束加工，离子束直接对聚合物微结构进行纳米级精调。最终产品可以达到需要的精度要求及表面质量要求，并且加工效率较高。
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公开(公告)号：CN114564688A
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202210107456.2
申请日：2022-01-28
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种基于PB神经网络确定离子束抛光去除函数的方法，通过有限次的法拉第扫描和线扫描实验建立数据库，确定离子束电流密度和去除函数分布系数之间的关系，根据法拉第扫描结果，通过线性公式计算去除函数峰值去除率，通过BP神经网络预测去除函数分布系数。本方法得到的去除函数信息与通过实验方法得到的去除函数信息基本相同，却极大的缩短了确定去除函数的时间；同时基于法拉第扫描结果确定去除函数，无需在元件表面进行去除函数实验，从而节约了成本；且本发明通过线性公式和BP神经网络来确定去除函数的分布信息，这种方法对于所有可用于离子束加工的材料均适用，不受材料特性的限制，可用于所有的离子束加工过程。
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公开(公告)号：CN111885807A
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN202010672938.3
申请日：2020-07-14
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: H05H1/00
Abstract: 本发明涉及一种表征射频离子源离子束特性的测量方法，所述方法包括S1、真空腔室内固定硅片并将稳定后的离子束垂直投射于硅片上即α＝0；S2、调整离子束引出端面与硅片之间的距离WD以调整形成于硅片上的束斑，并据此束斑分析离子束形态为聚焦离子束或平行离子束；S3、获取离子束投射于硅片上形成的束斑面形PV值，利用MetroPro软件分析计算束斑直径；S4、测量束斑的长半轴a和短半轴b，并据二者比值a/b大小确定束斑形状为圆形光斑或椭圆形光斑。本发明能够直观反应离子束形态、束径大小以及束斑形状，便于准确分析离子束特性，对后期工艺实验提供了指导依据。
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