公开(公告)号：CN108630514B

公开(公告)日：2020-06-26

申请号：CN201810240731.1

申请日：2018-03-22

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 高桥秀一 ,  宫馆孝明 ,  伴瀬贵德 ,  高良穣二 ,  守屋瑠美子

IPC: H01J37/32 ,  H01J37/21

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，其具有聚焦环，该聚焦环包括：设置在处理室内的载置台所载置的基板的附近的内侧聚焦环；设置在上述内侧聚焦环的外侧，通过移动机构而能够上下移动的中央聚焦环；和设置在上述中央聚焦环的外侧的外侧聚焦环。由此，能够维持对基板的面内整体进行的处理的特性，并控制基板的边缘部的处理特性。

公开(公告)号：CN102751227B

公开(公告)日：2015-02-18

申请号：CN201210214785.3

申请日：2010-01-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 吉冈建 ,  高桥秀一 ,  佐佐木康晴

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01L21/6831 ,  H01L21/67132 ,  Y10T29/49746 ,  Y10T428/219 ,  Y10T428/24777 ,  Y10T428/24843 ,  Y10T428/249982 ,  Y10T428/249985

Abstract: 本发明提供一种静电卡盘装置，在静电卡盘装置的粘合剂层的侧面被侵蚀时，能够均匀地修补该侵蚀部分。一种静电卡盘装置，其在金属底座上至少具有粘合剂层和吸附层，其特征在于：在上述粘合剂层的侧面卷绕有线状的粘合剂，上述线状的粘合剂为与上述粘合剂层相同的成分。

公开(公告)号：CN3349265D

公开(公告)日：2004-01-28

申请号：CN03352229.4

申请日：2003-06-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 高桥秀一 ,  佐佐木康晴

Abstract: 1.因左视图与右视图相对称，所以省略左

公开(公告)号：CN3360481D

公开(公告)日：2004-03-31

申请号：CN03342350.4

申请日：2003-05-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 高桥秀一 ,  加藤幸司 ,  滨元新二 ,  佐佐木康晴

Abstract: 后视图及左、右视图与主视图相同，故

公开(公告)号：CN3370151D

公开(公告)日：2004-05-26

申请号：CN03342341.5

申请日：2003-05-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 高桥秀一 ,  加藤幸司 ,  滨元新二 ,  佐佐木康晴

Abstract: 1.因左视图与右视图对称，故省略左视图。2.B为本外观设计产品。

公开(公告)号：CN3348519D

公开(公告)日：2004-01-21

申请号：CN03342352.0

申请日：2003-05-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 高桥秀一 ,  加藤幸司 ,  滨元新二

Abstract: 本外观设计产品主要是沿着半导体晶片