-
公开(公告)号：CN117029725A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202310518456.6
申请日：2023-05-09
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/25
Abstract: 本发明公开了一种相位测量轮廓术多频外差相位展开的相位跳变误差消除方法，基于多频外差原理，通过后一像素点相位幅值减去当前像素点相位幅值计算展开相位的梯度，找出展开相位中可能存在误差的可疑点，根据误差的幅值判断误差来源并确定误差的起始和终止像素点位置，消除跳变误差并对跳跃点处加以平滑，该方法可判别实际形貌落差与跳变误差，消除阴影部分以外的跳变误差部分，使相位展开后得到的绝对相位更加平整且无跳变，从而使得整幅光栅条纹的相位展开图连续、光滑、无跳变，提高了三维形貌测量结果的精确度及稳定性。
-
公开(公告)号：CN118623767A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202411044172.9
申请日：2024-07-31
Abstract: 本发明为一种基于激光跟踪仪的立体标准器测量系统及其测量方法，采用平面反射装置使激光跟踪仪的激光光路发生镜面折转而改变其激光光路，使激光跟踪仪镜像原点与立体标准器两两顶点的靶球处在同一测量轴线上，减少需对立体标准器进行多次搬动调整位置的动作，即可实现激光跟踪仪干涉测距模块的高精度测量工作，实现激光跟踪仪干涉模块测量立体标准器的各边长，再根据立体标准器的几何关系，以立体标准器的四个顶点建立笛卡尔坐标系，建立顶点‑边长关系方程，计算出各顶点的坐标值，从而获得立体标准器各顶点的参考坐标值。本发明操作便捷、测量精度高、不受限于立体标准器尺寸大小，实现了立体标准器各顶点坐标值的精确测量。
-
公开(公告)号：CN117006950A
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202311081467.9
申请日：2023-08-25
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明为一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置，包括准直光源、置于所述准直光源光路上的光电探测模块、与所述光电探测模块位置对应的待校准的纳米位移台、置于所述待校准的纳米位移台上的光栅、与所述光电探测模块电路连接的信号处理系统以及与所述待校准的纳米位移台电路连接的位移台驱动系统，所述位移台驱动系统驱动待校准的纳米位移台带动光栅同步运动，所述的光电探测模块设有用于采集干涉信号的光电探测器，所述光电探测器采集的干涉信号转化为电流信号传输至信号处理系统，由信号处理系统对干涉信号进行数据处理，获得光栅和待校准的纳米位移台的位移信息。
-
公开(公告)号：CN216846167U
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN202120786997.3
申请日：2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本实用新型为一种复合型微纳米高深宽比沟槽标准样板，其特征在于：所述的标准样板包括分设于基底上的几何台阶结构测量工作区域、一维栅格结构测量工作区域及深槽结构测量工作区域，所述的几何台阶结构测量工作区域设有直角三角形循迹标识和台阶结构循迹标识及台阶，一维栅格结构测量工作区域设有一维栅格标准样板及指向一维栅格标准样板的一维栅格结构循迹标识，深槽结构测量工作区域设有具有深度、宽度尺寸的沟槽，在沟槽两侧对称设有定位角标识、沟槽定位结构、切片定位结构和正交扫描标定结构，所述台阶的高度与一维栅格标准样板的结构高度及沟槽的深度尺寸相同，且台阶的宽度与一维栅格标准样板中每个光栅的结构宽度及沟槽的宽度尺寸相同。
-
公开(公告)号：CN215261700U
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN202120786965.3
申请日：2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本实用新型为一种复合型纳米膜厚标准样板，其特征在于：所述的标准样板包括分设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域，所述的第一测量工作区域为几何薄膜结构测量工作区域，所述的第二测量工作区域为物性薄膜结构测量工作区域，两测量工作区域厚度参数相同，所述的第一测量工作区域设有几何结构工作框，所述的工作框四边外周设有一级循迹标识，在工作框内部设有二级循迹标识，工作框中部则设有中心几何薄膜结构，所述的第二测量工作区域设有物性薄膜结构中心圆，其外周布置有带箭头循迹标识，所述物性薄膜结构中心圆的外周还顺序设有第一外环、第二外环和第三外环。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN216791112U
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202120786964.9
申请日：2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本实用新型为一种可循迹多尺寸纳米膜厚标准样板，其特征在于：所述的纳米膜厚标准样板包括设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域，所述的第一测量工作区域设有小光斑光源测量工作中心圆，所述的第二测量工作区域设有大光斑光源测量工作中心圆，所述的小光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向小光斑光源测量工作中心圆的小光斑光源工作区域循迹标识，所述大光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向大光斑光源测量工作中心圆的大光斑光源工作区域循迹标识。本实用新型能够满足测量中不同光斑大小的测量需求，完善了半导体行业不同类型仪器的量值统一方式，使测量结构能被快速、准确地定位和测量，大大提高了测量效率。
-
公开(公告)号：CN119268563A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411599697.9
申请日：2024-11-11
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明为一种基于激光干涉仪的纳米光栅位姿校准系统，包括光路系统及位移台驱动系统，所述的位移台驱动系统包括四轴位移台，所述的四轴位移台的安装台面上设有用于安装纳米光栅的纳米光栅支架和激光干涉仪，所述的纳米光栅通过四轴位移台依次对纳米光栅三轴方向角度分别进行修正，包括俯仰、横滚与偏摆三自由度上的自由转动以及光栅轴线方向上的线位移。本发明采用激光干涉仪测量值作为光栅姿态的修正反馈，将光栅位移测量系统的测量值与其进行比对，判断四轴位移台各轴的调整方向，最后再经由多次驱动四轴位移台，将纳米光栅支架调整至理想位置，解决纳米光栅位姿误差问题。
-
公开(公告)号：CN119126322A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202411327663.4
申请日：2024-09-23
Abstract: 本发明为一种双光栅角度调整用旋转位移台及调整光栅对平行的方法，所述的旋转位移台包括位于底部的微振动位移台、设于所述微振动位移台上的一对结构相同且背对设置的光栅调节夹具及位于两光栅调节夹具中间的光面接收屏，两所述的光栅调节夹具分别包括固定于各自相应的光栅三轴调节装置上的伸缩式光栅夹具，所述的调整光栅对平行的方法通过调节两伸缩式光栅夹具分别夹持的标准光栅A和待测光栅B的俯仰、滚转、偏摆角度，使两光栅各自的反射光分别与线光源通过水平狭缝形成的准直线光垂直完成栅面平行调整，使两光栅各自的衍射光连线分别与线光源通过水平狭缝形成的准直线光平行完成栅线平行调整。本发明采用模块化设计，结构紧凑，便于安装拆卸。
-
公开(公告)号：CN116558447A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310592305.5
申请日：2023-05-24
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/26
Abstract: 本发明为一种用于检定两光栅平行性的装置，包括同光轴布置的第一光栅、第二光栅、激光器、小孔光阑、半透半反棱镜、五角棱镜和观察屏，所述装置包括调节栅面平行和调节栅线平行两部分，利用第一光栅和第二光栅的镜面反射，通过调节第一光栅和第二光栅的偏摆角度，使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一水平直线，实现两光栅栅面平行调整，利用第一光栅和第二光栅的衍射效应，通过调节第一光栅和第二光栅的绕水平方向旋转的旋转角度，使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一竖直方向直线，实现两光栅栅线平行调整。本发明结构简单，原理易懂，便于操作实现。
-
公开(公告)号：CN115112028A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210957257.0
申请日：2022-08-10
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明为一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置及测量方法，属于纳米薄膜厚度的光学测量领域。本发明装置依次为激光光源、滤光轮、光隔离器、反射镜组、起偏调制模块、样品台、检测调制模块和信号采集处理模块；所述激光光源发出激光光束，激光光束依次经所述滤光轮、光隔离器和反射镜组后以入射角θ输出进入起偏调制模块，形成调制偏振光入射到样品台上的待测样品后反射进入检偏调制模块进行偏振态调制，最后进入信号采集处理模块被所述硅探测器接收；所述信号采集单元将所述硅探测器接收到的光强信号转换为数字信号，并进行数据处理。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
31
records
(took 0.031 seconds)
