公开(公告)号：CN113204170A

公开(公告)日：2021-08-03

申请号：CN202110115902.X

申请日：2021-01-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 白载烈 ,  权纯亨 ,  金旼秀 ,  朴贤 ,  裵信孝 ,  宋大锡 ,  崔有廷

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含含由化学式1表示的结构单元的聚合物和溶剂，以及一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。在化学式1中，每一个取代基与详细描述中所定义的相同。[化学式1]

公开(公告)号：CN113138532A

公开(公告)日：2021-07-20

申请号：CN202110056902.7

申请日：2021-01-15

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  朴贤 ,  白载烈 ,  金旼秀 ,  裵信孝 ,  宋大锡 ,  安度源

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含：(A)包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的化合物或其组合的聚合物；(B)包含其中由化学式3或化学式4表示的部分中的至少一个和由化学式7表示的部分彼此键结的结构的聚合物；以及(C)溶剂；且还公开一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法，化学式1到化学式4和化学式7的定义如说明书中所描述。

公开(公告)号：CN106883380B

公开(公告)日：2019-11-19

申请号：CN201611079474.5

申请日：2016-11-30

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  金瑆焕 ,  金旼秀 ,  朴惟廷 ,  郑瑟基

IPC: C08G61/02 ,  C08L65/00 ,  C09D165/00 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明涉及一种聚合物、有机层组合物及形成图案的方法。所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元：其中Ar1及Ar2独立地为经取代或未经取代的苯环或包含两个至四个稠合的经取代或未经取代的苯环的芳环，A1及A2独立地为经取代或未经取代的芳环，其限制条件是A1及A2中的至少一者经氢可键结官能基取代，且A1的氢可键结官能基的数量与A2的氢可键结官能基的数量的总和大于或等于3，L为二价有机基，且＊为连接点。本发明的聚合物具有令人满意的溶解性特征以及优异的机械特征、耐蚀刻性及耐热性。[化学式1]所述化学式1与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN106046695B

公开(公告)日：2019-06-11

申请号：CN201510919236.X

申请日：2015-12-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 姜善惠 ,  南沇希 ,  金旼秀 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  朴惟廷 ,  宋炫知 ,  梁善暎

IPC: C08L65/00 ,  C08G61/12 ,  G03F7/00

CPC classification number: C08K5/18 ,  C08G2261/12 ,  C08G2261/124 ,  C08G2261/135 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/3142 ,  C08G2261/3162 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/344 ,  C08G2261/76 ,  C08K5/06 ,  C08K5/07 ,  C08K5/13 ,  C08L65/00 ,  G03F7/11 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/36

Abstract: 本发明涉及有机层组合物，所述有机层组合物包含具有经取代或未经取代的芴结构的聚合物、由下述化学式1表示的添加剂、以及溶剂；通过固化所述有机层组合物形成的有机层；以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物能够改善间隙填充特征和平坦化特征以及耐蚀刻性。化学式1中各符号的定义与实施方式中所定义相同。

公开(公告)号：CN106046695A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201510919236.X

申请日：2015-12-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 姜善惠 ,  南沇希 ,  金旼秀 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  朴惟廷 ,  宋炫知 ,  梁善暎

IPC: C08L65/00 ,  C08G61/12 ,  G03F7/00

CPC classification number: C08K5/18 ,  C08G2261/12 ,  C08G2261/124 ,  C08G2261/135 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/3142 ,  C08G2261/3162 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/344 ,  C08G2261/76 ,  C08K5/06 ,  C08K5/07 ,  C08K5/13 ,  C08L65/00 ,  G03F7/11 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/36 ,  C08G61/12 ,  G03F7/0035

Abstract: 本发明涉及有机层组合物，所述有机层组合物包含具有经取代或未经取代的芴结构的聚合物、由下述化学式1表示的添加剂、以及溶剂；通过固化所述有机层组合物形成的有机层；以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物能够改善间隙填充特征和平坦化特征以及耐蚀刻性。化学式1中各符号的定义与实施方式中所定义相同。

公开(公告)号：CN119535885A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202411079823.8

申请日：2024-08-07

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴贤 ,  南宫烂 ,  河京珍 ,  宋大锡 ,  金旼秀

IPC: G03F7/004

Abstract: 提供了抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法。该抗蚀剂顶涂层组合物包含：共聚物，该共聚物包括由化学式M‑1表示的第一结构单元、由化学式M‑2表示的第二结构单元和由化学式M‑3A或化学式M‑3B表示的第三结构单元；以及溶剂。

公开(公告)号：CN119432511A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202411054043.8

申请日：2024-08-02

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金兑镐 ,  金旼秀 ,  文炯朗 ,  朴时均 ,  裵鎭希 ,  韩承 ,  扈锺必 ,  朴景铃 ,  宋明洙 ,  朴庆熏

IPC: C11D7/28 ,  G03F7/00 ,  G03F1/76 ,  C11D7/50

Abstract: 公开一种用于从含金属的抗蚀剂移除边缘珠粒的组合物、一种含金属的抗蚀剂的显影剂组合物、以及使用其形成图案的方法。根据一个或多个实施例的组合物包含：经至少一个氟取代的C1至C10羧酸化合物；以及有机溶剂。

公开(公告)号：CN118444539A

公开(公告)日：2024-08-06

申请号：CN202311535938.9

申请日：2023-11-17

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴景铃 ,  文炯朗 ,  许伦旼 ,  郭泽秀 ,  成太根 ,  李忠宪 ,  黄丙奎 ,  金旼秀

IPC: G03F7/32

Abstract: 本发明公开一种含金属光刻胶显影剂组合物、和一种形成包含使用所述含金属光刻胶显影剂组合物的显影步骤的图案的方法，含金属光刻胶显影剂组合物包含：有机溶剂；酸化合物，具有1.0≤pKa1≤4.8；以及至少一种醇类化合物，选自衍生自非环烃的二醇化合物和环状醇化合物。

公开(公告)号：CN106610567B

公开(公告)日：2020-08-04

申请号：CN201610860457.9

申请日：2016-09-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 郑瑟基 ,  金旼秀 ,  金瑆焕 ,  宋炫知 ,  姜善惠 ,  金永珉 ,  金有那 ,  金眞亨 ,  南沇希 ,  白载烈 ,  尹星莉 ,  李忠宪 ,  洪承希 ,  黄善民

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1)；施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2)；以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3)，其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征，且通过使用预定聚合物作为层材料，显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中，A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。

公开(公告)号：CN106226997B

公开(公告)日：2019-12-17

申请号：CN201610182871.9

申请日：2016-03-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金旼秀 ,  南沇希 ,  白载烈 ,  宋炫知 ,  尹星莉 ,  郑瑟基 ,  洪承希 ,  黄善民

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种有机层组成物以及形成图案的方法，该有机层组合物包含热收缩率为10％到70％的第一化合物、热收缩率小于所述第一化合物的第二化合物以及溶剂；以及一种通过使所述有机层组成物固化获得的有机层以及一种使用所述有机层组成物形成图案的方法。可以提供同时确保耐蚀刻性和平面化特征的有机层。