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公开(公告)号：CN105093834B
公开(公告)日：2020-03-13
申请号：CN201510136947.X
申请日：2015-03-26
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组成物和使用所述硬掩模组成物形成图案的方法。所述硬掩模组成物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。[化学式1]＊‑A‑B‑＊在所述化学式1中，A和B与具体实施方式中所定义的相同。本发明提供的硬掩模组成物能确保溶剂的可溶性、间隙填充特性和平坦化特性并满足耐热性和耐蚀刻性。
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公开(公告)号：CN111542558B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN201880079125.4
申请日：2018-09-17
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C08G61/12 , C09D183/04 , G03F7/11 , G03F7/09 , H01L21/027 , H01L21/033
Abstract: 本公开是有关于一种聚合物、包含所述聚合物的有机膜组成物以及使用所述有机膜组成物形成图案的方法，其中所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、以及由化学式2或3表示的结构单元。化学式1至3的定义与在说明书中的描述相同。[化学式1]；[化学式2]；[化学式3]
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公开(公告)号：CN104749886B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201410705160.6
申请日：2014-11-27
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、形成图案的方法与半导体集成电路装置。所述硬掩模组合物包含：聚合物，所述聚合物包含由以下化学式1a到化学式1c中的一个表示的部分；由以下化学式2表示的单体；以及溶剂。[化学式1a][化学式1b][化学式1c][化学式2]在上述化学式1a、化学式1b、化学式1c和化学式2中，R1a、R1b、R4a、R4b、R2a、R2b、R5a、R5b和R3与说明书中定义的相同。
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公开(公告)号：CN104749886A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201410705160.6
申请日：2014-11-27
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、形成图案的方法与半导体集成电路装置。所述硬掩模组合物包含：聚合物，所述聚合物包含由以下化学式1a到化学式1c中的一个表示的部分；由以下化学式2表示的单体；以及溶剂。[化学式1a][化学式1b][化学式1c][化学式2]在上述化学式1a、化学式1b、化学式1c和化学式2中，R1a、R1b、R4a、R4b、R2a、R2b、R5a、R5b和R3与说明书中定义的相同。
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公开(公告)号：CN111542558A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201880079125.4
申请日：2018-09-17
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C08G61/12 , C09D183/04 , G03F7/11 , G03F7/09 , H01L21/027 , H01L21/033
Abstract: 本公开是有关于一种聚合物、包含所述聚合物的有机膜组成物以及使用所述有机膜组成物形成图案的方法，其中所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、以及由化学式2或3表示的结构单元。化学式1至3的定义与在说明书中的描述相同。[化学式1] [化学式2] [化学式3]
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公开(公告)号：CN106046696A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201510919487.8
申请日：2015-12-11
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C08G73/0672 , G03F7/0041 , G03F7/0752 , G03F7/091 , G03F7/094 , H01L51/0018
Abstract: 一种有机层组合物包含：包含由化学式1表示的部分的聚合物、由化学式2表示的单体以及溶剂，还提供一种由所述有机层组合物制造的有机层，和一种使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物可以提供同时确保耐蚀刻性、耐热性以及平坦化特征的有机层。化学式1和化学式2的定义与具体实施方式中相同。[化学式1][化学式2]。
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公开(公告)号：CN105884685A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201511020947.X
申请日：2015-12-30
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C07D215/14 , C07C39/12 , C07D311/58 , C07C39/14 , G03F7/16
Abstract: 本发明公开一种单体、包含所述单体的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。本发明的单体由化学式1表示，化学式1与具体实施方式中所定义的相同。该单体具有改善的耐蚀刻性和溶解性特征，因此适用于旋涂法。
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公开(公告)号：CN105093834A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201510136947.X
申请日：2015-03-26
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组成物和使用所述硬掩模组成物形成图案的方法。所述硬掩膜组成物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。[化学式1]*—A—B—*在所述化学式1中，A和B与具体实施方式中所定义的相同。本发明提供的硬掩模组成物能确保溶剂的可溶性、间隙填充特性和平坦化特性并满足耐热性和耐蚀刻性。
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