公开(公告)号：CN119882348A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202411482622.2

申请日：2024-10-23

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李恩受 ,  白载烈 ,  黄丙奎 ,  阵和英 ,  金秀贞 ,  金圣振 ,  曹雅罗 ,  崔有廷 ,  郑盛宇 ,  林昌模 ,  权纯亨

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物和使用该抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。该抗蚀剂底层组合物包括：包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元、由化学式3表示的结构单元或其组合的聚合物；由化学式4至化学式6中选择的一者或多者表示的化合物；以及溶剂。化学式1到化学式6的定义如说明书中所述。#imgabs0#

公开(公告)号：CN119668032A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202411313526.5

申请日：2024-09-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 黄丙奎 ,  林昌模 ,  白载烈 ,  权纯亨 ,  阵和英 ,  金秀贞 ,  李恩受 ,  金圣振 ,  曹雅罗 ,  崔有廷 ,  郑盛宇

IPC: G03F7/09

Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物和使用所述抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。所述抗蚀剂底层组合物包括聚合物和溶剂，所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元、由化学式3表示的结构单元或其组合。化学式1到化学式3的定义如说明书中所述。化学式1#imgabs0#化学式2#imgabs1#化学式3#imgabs2#

公开(公告)号：CN110879508B

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN201910837249.0

申请日：2019-09-05

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 白载烈 ,  裵信孝 ,  崔有廷 ,  权纯亨 ,  朴贤

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F1/56 ,  G03F1/76

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂垫层组合物和使用抗蚀剂垫层组合物形成图案的方法，所述组合物包含：聚合物，包含由化学式1‑1表示的第一部分和由化学式1‑2表示的第二部分中的至少一者；热酸产生剂，包含由酸衍生的阴离子和衍生自pKa大于或等于7的碱的阳离子构成的盐；以及溶剂：化学式1‑1到化学式1‑2的定义与具体实施方式中所描述的定义相同。[化学式1‑1][化学式1‑2]

公开(公告)号：CN116057471A

公开(公告)日：2023-05-02

申请号：CN202180054499.2

申请日：2021-11-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  金旼秀 ,  金圣振 ,  白载烈 ,  阵和英 ,  朴贤 ,  裵信孝 ,  宋大锡 ,  千玟基

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明有关于一种光阻底层组成物以及使用所述光阻底层组成物形成图案的方法，所述光阻底层组成物包括：具有在环中包含两个或更多个氮原子的环骨架的聚合物、由化学式1表示的化合物及溶剂。化学式1的定义如说明书中所述。[化学式1]

公开(公告)号：CN111665683B

公开(公告)日：2023-03-24

申请号：CN202010116537.X

申请日：2020-02-25

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴贤 ,  崔有廷 ,  权纯亨 ,  裵信孝 ,  白载烈

IPC: G03F7/004 ,  G03F1/76

Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂底层组合物和一种使用抗蚀剂底层组合物来形成图案的方法，抗蚀剂底层组合物包含：聚合物，聚合物包含由化学式1表示的结构单元；和溶剂。化学式1的定义与详细描述中所描述的相同。[化学式1]

公开(公告)号：CN111665683A

公开(公告)日：2020-09-15

申请号：CN202010116537.X

申请日：2020-02-25

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴贤 ,  崔有廷 ,  权纯亨 ,  裵信孝 ,  白载烈

IPC: G03F7/004 ,  G03F1/76

Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂底层组合物和一种使用抗蚀剂底层组合物来形成图案的方法，抗蚀剂底层组合物包含：聚合物，聚合物包含由化学式1表示的结构单元；和溶剂。化学式1的定义与详细描述中所描述的相同。[化学式1]

公开(公告)号：CN106243326A

公开(公告)日：2016-12-21

申请号：CN201610393116.5

申请日：2016-06-06

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴裕信 ,  金兑镐 ,  崔有廷 ,  姜善惠 ,  权孝英 ,  金相均 ,  金永珉 ,  南沇希 ,  宋炫知 ,  尹星莉 ,  李东槿 ,  郑瑟基

IPC: C08G61/12 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/091 ,  C08G10/00 ,  C08G12/00 ,  C08G16/00 ,  C08G61/122 ,  C08G61/124 ,  C08G61/125 ,  C08G61/126 ,  C08G2261/12 ,  C08G2261/3142 ,  C08G2261/3241 ,  C08G2261/3243 ,  C08G2261/3245 ,  C08G2261/3246 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/344 ,  C09D161/00 ,  C09D161/18 ,  C09D161/20 ,  C09D165/00 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/094 ,  C08G61/123 ,  C08G2261/314 ,  C08G2261/354 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的结构单元的聚合物和包含所述聚合物的有机层组成物。[化学式1] 所述化学式1与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN106046696A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201510919487.8

申请日：2015-12-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴裕信 ,  金润俊 ,  金兑镐 ,  朴惟廷 ,  崔有廷 ,  权孝英 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  宋炫知 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C08L65/00 ,  C08G61/12 ,  G03F7/00

CPC classification number: C08G73/0672 ,  G03F7/0041 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  H01L51/0018

Abstract: 一种有机层组合物包含：包含由化学式1表示的部分的聚合物、由化学式2表示的单体以及溶剂，还提供一种由所述有机层组合物制造的有机层，和一种使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物可以提供同时确保耐蚀刻性、耐热性以及平坦化特征的有机层。化学式1和化学式2的定义与具体实施方式中相同。[化学式1][化学式2]。

公开(公告)号：CN105884685A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201511020947.X

申请日：2015-12-30

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  金润俊 ,  朴裕信 ,  朴惟廷 ,  宋炫知

IPC: C07D215/14 ,  C07C39/12 ,  C07D311/58 ,  C07C39/14 ,  G03F7/16

Abstract: 本发明公开一种单体、包含所述单体的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。本发明的单体由化学式1表示，化学式1与具体实施方式中所定义的相同。该单体具有改善的耐蚀刻性和溶解性特征，因此适用于旋涂法。

公开(公告)号：CN105093834A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201510136947.X

申请日：2015-03-26

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  金美英 ,  朴惟廷 ,  金润俊 ,  金惠廷 ,  文俊怜 ,  宋炫知 ,  李忠宪 ,  崔有廷

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组成物和使用所述硬掩模组成物形成图案的方法。所述硬掩膜组成物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。[化学式1]*—A—B—*在所述化学式1中，A和B与具体实施方式中所定义的相同。本发明提供的硬掩模组成物能确保溶剂的可溶性、间隙填充特性和平坦化特性并满足耐热性和耐蚀刻性。