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公开(公告)号：CN112201589B
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202010609507.2
申请日：2020-06-29
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置在处理容器设有导电性部件，导电性部件由具有比处理容器的材质小的电阻的材质形成，从而能够在液体处理工艺中抑制基于带电现象的处理容器的电位增大，由此能够防止基板被粒子、静电弧光等损伤。
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公开(公告)号：CN117055309A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202210485089.X
申请日：2022-05-06
Applicant: 细美事有限公司
IPC: G03F7/30
Abstract: 本发明提供了抑制显影液和感光膜的不必要的附加反应并防止因附加反应而生成感光膜残留物的基板处理装置及方法。所述基板处理方法可以包括以下步骤：以第一转速旋转基板，同时向所述基板上供应有机显影液；以低于所述第一转速的第二转速旋转所述基板，同时向所述基板供应非极性冲洗液以用所述非极性冲洗液置换所述有机显影液；以高于所述第二转速的第三转速旋转所述基板，同时继续供应所述非极性冲洗液；以及以所述第二转速与所述第三转速之间的第四转速旋转所述基板，同时继续供应所述非极性冲洗液。
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公开(公告)号：CN115985834A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202211262127.1
申请日：2022-10-14
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/687 , H01L21/67
Abstract: 提供一种用于处理基板的设备及一种基板处理方法，所述设备包括：具有处理空间的处理容器；用于在处理空间中支承基板并旋转基板的支承单元；用于供应处理液至由支承单元支承的基板的液体供应单元；及用于加热基板的加热单元，其中支承单元包括：自旋卡盘；用于旋转自旋卡盘的旋转驱动器；安装于自旋卡盘上从而与自旋卡盘一起旋转的卡盘销；及卡盘销移动单元，用于在卡盘销与基板的侧面部分接触的接触位置与卡盘销自基板的侧面部分隔离开的打开位置之间移动卡盘销，且卡盘销移动单元在基板由自旋卡盘旋转的同时移动卡盘销。
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公开(公告)号：CN115083955A
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN202210239103.8
申请日：2022-03-11
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本发明涉及用于处理基板的方法及设备。本发明构思提供一种用于处理基板的方法。用于处理基板的方法包含：加压步骤，用于在将基板放入内部空间之后，通过向内部空间供应处理流体来增大腔室的内部空间的压力；流动步骤，用于通过将处理流体供应给内部空间及从内部空间排放处理流体的组合来产生处理流体的流动；及减压步骤，通过从内部空间排放处理流体来降低内部空间的压力，且加压步骤包含：底面供应工艺，通过将处理流体供应给被放入内部空间中的基板的背面来增大内部空间的压力；及顶面供应工艺，通过向放入到内部空间中的基板的顶面供应处理流体来增大内部空间的压力。
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公开(公告)号：CN106711081B
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN201611011607.5
申请日：2016-11-17
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/687 , H01L21/67
Abstract: 本发明涉及一种旋转头、包括所述旋转头的基板处理装置和方法。根据本发明的实施方式，所述旋转头包括放置基板的支撑板和放置在所述支撑板上并支撑所述基板侧部的卡盘销，其中所述卡盘销包括外本体和插入所述外本体中并且具有与所述外主体不同材料的内本体，其中所述外本体和所述内本体中的每个具有第一材料或第二材料中的任一种，并且其中所述第一材料和所述第二材料中的一种材料包括具有比另一种更低的导热性和更好的耐热性的材料。
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公开(公告)号：CN117253820A
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202310718541.7
申请日：2023-06-16
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 用于回收防护件的移动组件包括：回收容器，包括第一回收容器和第二回收容器，第一回收容器设置成围绕基板支承件，第二回收容器与第一回收容器同心地设置在第一回收容器的内侧；以及升降驱动器，连接到第一回收容器和第二回收容器并使第一回收容器和第二回收容器升降，其中，升降驱动器包括：电机；驱动轴，连接到电机并且在第一方向上旋转；第一轴，连接到第一回收容器并且在垂直于第一方向的第二方向上延伸；第二轴，连接到第二回收容器并且在第二方向上延伸；第一离合器，连接驱动轴和第一轴；以及第二离合器，连接驱动轴和第二轴。
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公开(公告)号：CN115966485A
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202210853629.5
申请日：2022-07-11
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供设置在管道内以稳定内部气流的流动阻力产生单元及包括其的基板处理装置。基板处理装置包括壳体；支承单元，设置在壳体内部，并且在两侧支承基板；加热部件，设置于壳体的侧壁，并且用于产生用于处理基板的热量；流体供应单元，用于向壳体的内部供应用于处理基板的流体，并且包括上部流体供应部、下部流体供应部和供应管道，上部流体供应部用于向基板的上部供应流体，下部流体供应部用于向基板的下部供应流体，供应管道与上部流体供应部和下部流体供应部中的至少一个流体供应部连接；以及流动阻力产生单元，设置于供应管道，并且对通过供应管道的流体产生流动阻力，其中，流动阻力产生单元设置在供应管道所包括的曲管与流体供应部之间。
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公开(公告)号：CN113771277A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202110612193.6
申请日：2021-06-02
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本发明提供了异质复合物及异质复合物的制造方法。异质复合物包括：第一压缩结构体，其通过压缩第一材料来形成；第二压缩结构体，其通过压缩与第一材料不同的第二材料形成，并且与第一压缩结构体紧贴地布置，其中，第一压缩结构体的至少一部分与第二压缩结构体的至少一部分以在以中心轴为基准具有恒定半径的圆形界面彼此接触的状态布置在界面的两侧。
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公开(公告)号：CN112992726A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202011458403.2
申请日：2020-12-11
Applicant: 细美事有限公司
Inventor： 高定奭 , 李在晟 , 林度延 , 金局生 , 郑暎大 , 金泰信 , 李智暎 , 金源根 , 郑智训 , 金光燮 , 许弼覠 , 史允基 , 延蕊林 , 尹铉 , 金度延 , 徐溶晙 , 金昺槿 , 严永堤
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 本发明公开了用于蚀刻薄层的方法和设备，所述薄层包括形成在基板上的氮化硅。在所述基板上供应包括磷酸和水的蚀刻剂，使得在所述基板上形成液层。通过在所述薄层和所述蚀刻剂的反应来蚀刻所述薄层。测量所述液层的厚度，以在蚀刻所述薄层的同时检测所述液层的所述厚度的变化。基于所述液层的所述厚度的所述变化来计算所述磷酸和所述水的浓度的变化。基于所述磷酸和所述水的所述浓度的所述变化在所述基板上供应水，使得所述磷酸和所述水的所述浓度变为预定值。
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