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公开(公告)号：CN117917296A
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202311345152.0
申请日：2023-10-17
Applicant: 细美事有限公司
IPC: B23K26/362 , B23K26/70 , B23K26/06 , B23K26/073 , B23K26/60 , B23K26/00 , H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 本发明构思的实施例提供了一种基板处理设备和基板处理方法，其使得即使化学物质的晃动角因振动或气流而偏离允许范围，激光的照射区域也不偏离目标区域。本发明构思提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：基板支撑单元，其配置成支撑其上涂覆有化学物质的基板；激光产生单元，其配置成向所述基板照射激光；以及光传输器，其沿着所述激光照射的路径定位。
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公开(公告)号：CN102810500A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201210179529.5
申请日：2012-05-31
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67769 , H01L21/67173 , H01L21/67178
Abstract: 本发明提供了一种缓冲单元，所述缓冲单元包括：框架，所述框架包括底板、第一垂直板和第二垂直板，其中所述第一垂直板和所述第二垂直板在所述底板上相互隔离；第一缓冲器，在所述第一缓冲器上放置基板，所述第一缓冲器被允许在所述第一垂直板和所述第二垂直板之间翻转；及多个驱动部，所述多个驱动部设置在所述第一垂直板和所述第二垂直板外侧，并驱动所述第一缓冲器夹持和翻转放置在所述第一缓冲器上的基板。
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公开(公告)号：CN119673804A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202411242567.X
申请日：2024-09-05
IPC: H01L21/67
Abstract: 提供了一种衬底处理装置，其包括：支撑单元，包括转动卡盘以及在转动卡盘上的定心夹具，转动卡盘被配置为支撑并旋转衬底；喷洒单元，被配置为将处理液喷洒到衬底上；摆臂，包括校正单元，该校正单元包括传感器和发射器，摆臂被配置为移动使得校正单元移动到衬底上的目标点，并且发射器被配置为朝向衬底照射光束；以及控制器，被配置为：控制转动卡盘和摆臂；并且基于通过传感器获得的与定心夹具有关的信息确定摆臂的移动轨迹是否与转动卡盘的旋转中心对准。
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公开(公告)号：CN116364622A
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202211704296.6
申请日：2022-12-28
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/68 , H01L21/67 , H01L21/268
Abstract: 本发明公开了一种基板处理设备，所述基板处理设备包括：支撑单元，所述支撑单元支撑所述基板并使其旋转；加热单元，所述加热单元包括以形成在基板中的图案照射激光的激光照射器；移动模块，所述移动模块通过使加热单元移动来改变激光照射器的位置；以及控制器，所述控制器控制所述支撑单元和所述加热单元，所述移动模块使加热单元在激光照射到基板的加热位置和与基板偏离的待机位置之间移动，并且所述移动模块使所述加热单元旋转和线性地移动。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN116344383A
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202211447131.5
申请日：2022-11-18
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本发明构思提供一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：支撑单元，所述支撑单元被配置为在处理空间处支撑和旋转基板；液体供应单元，所述液体供应单元被配置为向被支撑在所述支撑单元处的所述基板供应液体；壳体，所述壳体具有安装空间；激光单元，所述激光单元被配置为包括定位在所述安装空间中的照射激光的激光照射单元以及具有定位成从所述壳体突出的端部并且将从所述激光照射单元照射的所述激光照射到被支撑在所述支撑单元上的基板的照射端；以及盖，所述盖具有内部空间并且定位成使得所述照射端的从所述壳体突出的端部定位在所述内部空间中，并且其中在所述盖的底端处形成有开口以当从上方看时所述开口与从所述照射端照射的所述激光重合。
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公开(公告)号：CN102810500B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201210179529.5
申请日：2012-05-31
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67769 , H01L21/67173 , H01L21/67178
Abstract: 本发明提供了一种缓冲单元，所述缓冲单元包括：框架，所述框架包括底板、第一垂直板和第二垂直板，其中所述第一垂直板和所述第二垂直板在所述底板上相互隔离；第一缓冲器，在所述第一缓冲器上放置基板，所述第一缓冲器被允许在所述第一垂直板和所述第二垂直板之间翻转；及多个驱动部，所述多个驱动部设置在所述第一垂直板和所述第二垂直板外侧，并驱动所述第一缓冲器夹持和翻转放置在所述第一缓冲器上的基板。
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公开(公告)号：CN117055309A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202210485089.X
申请日：2022-05-06
Applicant: 细美事有限公司
IPC: G03F7/30
Abstract: 本发明提供了抑制显影液和感光膜的不必要的附加反应并防止因附加反应而生成感光膜残留物的基板处理装置及方法。所述基板处理方法可以包括以下步骤：以第一转速旋转基板，同时向所述基板上供应有机显影液；以低于所述第一转速的第二转速旋转所述基板，同时向所述基板供应非极性冲洗液以用所述非极性冲洗液置换所述有机显影液；以高于所述第二转速的第三转速旋转所述基板，同时继续供应所述非极性冲洗液；以及以所述第二转速与所述第三转速之间的第四转速旋转所述基板，同时继续供应所述非极性冲洗液。
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