-
公开(公告)号：CN101615626A
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200910002540.2
申请日：2009-01-16
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L27/3276
Abstract: 本发明涉及一种有机发光二极管显示器及其制造方法。有机发光二极管显示器包括：基板；第一信号线，其形成在基板上并且包括第一衬垫单元；第二信号线，其与第一信号线交叉，包括第二衬垫单元；第一薄膜晶体管，其电连接到第一信号线和第二信号线；第二薄膜晶体管，其电连接到第一薄膜晶体管；像素电极，其电连接到第二薄膜晶体管；公共电极，其面对像素电极；发光件，其形成在像素电极和公共电极之间；接触辅助物，其形成在第一衬垫单元和第二衬垫单元上；以及保护性分隔物，其围绕接触辅助物。
-
公开(公告)号：CN1916717A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200610099216.3
申请日：2006-07-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1337 , G02F1/136
Abstract: 液晶显示器(LCD)及其制造方法。LCD包括：第一显示面板，包括形成在第一绝缘基板上的第一场产生电极；第二显示面板，与第一显示面板相对，并且包括形成在第二绝缘基板上的第二场产生电极；液晶层，形成在第一显示面板和第二显示面板之间；以及有机层，形成在第二场产生电极上，并且包括位于第一显示面板和第二显示面板之间用于允许第一显示面板和第二显示面板保持其间恒定间隙的盒间隙保持单元，以及具有用于使液晶层预倾斜的倾斜表面的液晶定向引导单元，液晶定向引导单元和盒间隙保持单元具有不小于2μm的顶端高度差。
-
公开(公告)号：CN1288501C
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN02825525.9
申请日：2002-02-20
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/0226
Abstract: 本发明涉及具有用于LCD生产方法的耐高温性的光致抗蚀剂组合物，且更具体地说，本发明涉及具有耐高温性的能够减少工艺的策略(一种方式)、工艺简化和节约费用的光致抗蚀剂组合物。本发明的组合物通过使跳过5步工艺成为可能而有利于这一特性，诸如形成金属薄膜的Cr金属沉积和整个金属表面的光/蚀刻/PR剥离/蚀刻步骤；通过用本发明的组合物取代常用的金属薄膜，使得TFT-LCD生产过程中的N+离子掺入可以因其耐高温性而进行。
-
公开(公告)号：CN1637479A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200410082256.8
申请日：2004-12-03
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/133 , G02F1/136 , H01L29/786
CPC classification number: G02F1/1337 , G02F1/133371 , G02F2001/133761 , G02F2001/133776
Abstract: 提供一种液晶显示器，其包括：基板；形成在基板上的场产生电极；和形成在基板上并具有小于大约45度的倾斜角的倾斜构件。
-
公开(公告)号：CN1432872A
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：CN02150451.2
申请日：2002-11-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/012 , G03F7/038 , G03F7/16 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0226 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种具有良好灵敏度和余层特性的光致抗蚀剂组合物和用该组合物形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约5％重量至约30％重量的聚合树脂、约2％重量至约10％重量的光敏化合物、约0.1％至约10％重量的灵敏度提高剂、约0.1％重量至约10％重量的灵敏度抑制剂和约60％重量至约90％重量的有机溶剂。在基板上涂覆光致抗蚀剂组合物，然后干燥涂覆的光致抗蚀剂组合物，形成光致抗蚀剂层。然后，通过使用具有预定形状的掩模使所述光致抗蚀剂层曝光。接下来，通过使曝光的光致抗蚀剂层显影而形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案具有均匀的涂层厚度和临界尺寸。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1432871A
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：CN02145838.3
申请日：2002-10-15
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/008 , G03F7/012 , G03F7/00 , G02F1/1333
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种包括热致酸生成剂的光致抗蚀剂组合物和用其形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约100重量份的碱溶性丙烯酰基共聚物，约5－100重量份的1，2－醌二叠氮化合物，约2－35重量份的含氮交联剂，约0.1－10重量份的加热能产生酸的热致酸生成剂。在基底上涂覆光致抗蚀剂组合物并干燥，形成光致抗蚀剂层。通过使用具有预定形状的掩模使光致抗蚀剂层曝光。通过使用含水碱性溶液使曝光的光致抗蚀剂层显影，形成光致抗蚀剂图案。加热这样得到的光致抗蚀剂图案，使其固化，不会产生热回流。
-
公开(公告)号：CN1873534B
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200610083540.6
申请日：2006-06-05
Applicant: 三星电子株式会社 , 东进半导体化学株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/004 , H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 一种用于有机层图样的光敏树脂组合物，包括：约100重量份的基于丙烯酰基的共聚物，以及约5重量份至约100重量份的1，2-醌重氮化合物。基于丙烯酰基的共聚物可通过使下列物质共聚来制备：以基于丙烯酰基的共聚物总重量为基准，重量百分比约5％至约60％的基于羧酸异冰片酯的化合物，重量百分比约10％至约30％的带有环氧基团的不饱和化合物，重量百分比约20％至约40％的基于烯烃的不饱和化合物，以及重量百分比约10％至约40％的选自不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、及其混合物的其中之一。还提供了利用该光敏树脂组合物制造TFT基板和共电极基板的方法。有利地，有机层图样具有山形结构，该山形结构具有改善的局部平整度而没有凹入和凸起结构。
-
公开(公告)号：CN100549770C
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：CN200410082256.8
申请日：2004-12-03
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/133 , G02F1/136 , H01L29/786
CPC classification number: G02F1/1337 , G02F1/133371 , G02F2001/133761 , G02F2001/133776
Abstract: 提供一种液晶显示器，其包括：基板；形成在基板上的场产生电极；和形成在基板上并具有小于大约45度的倾斜角的倾斜构件。
-
公开(公告)号：CN1306336C
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：CN02145838.3
申请日：2002-10-15
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种包括热致酸生成剂的光致抗蚀剂组合物和用其形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括100重量份的碱溶性丙烯酰基共聚物，5-100重量份的1，2-醌二叠氮化合物，2-35重量份的含氮交联剂，0.1-10重量份的加热能产生酸的热致酸生成剂。在基底上涂覆光致抗蚀剂组合物并干燥，形成光致抗蚀剂层。通过使用具有预定形状的掩模使光致抗蚀剂层曝光。通过使用含水碱性溶液使曝光的光致抗蚀剂层显影，形成光致抗蚀剂图案。加热这样得到的光致抗蚀剂图案，使其固化，不会产生热回流。
-
公开(公告)号：CN1296772C
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN02150451.2
申请日：2002-11-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/012 , G03F7/038 , G03F7/16 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0226 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种具有良好灵敏度和余层特性的光致抗蚀剂组合物和用该组合物形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约5%重量至约30%重量的聚合树脂、约2%重量至约10%重量的光敏化合物、约0.1%至约10%重量的灵敏度提高剂、约0.1%重量至约10%重量的灵敏度抑制剂和约60%重量至约90%重量的有机溶剂。在基板上涂覆光致抗蚀剂组合物，然后干燥涂覆的光致抗蚀剂组合物，形成光致抗蚀剂层。然后，通过使用具有预定形状的掩模使所述光致抗蚀剂层曝光。接下来，通过使曝光的光致抗蚀剂层显影而形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案具有均匀的涂层厚度和临界尺寸。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
22
records
(took 0.039 seconds)
