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公开(公告)号：CN1288501C
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN02825525.9
申请日：2002-02-20
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/0226
Abstract: 本发明涉及具有用于LCD生产方法的耐高温性的光致抗蚀剂组合物，且更具体地说，本发明涉及具有耐高温性的能够减少工艺的策略(一种方式)、工艺简化和节约费用的光致抗蚀剂组合物。本发明的组合物通过使跳过5步工艺成为可能而有利于这一特性，诸如形成金属薄膜的Cr金属沉积和整个金属表面的光/蚀刻/PR剥离/蚀刻步骤；通过用本发明的组合物取代常用的金属薄膜，使得TFT-LCD生产过程中的N+离子掺入可以因其耐高温性而进行。
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公开(公告)号：CN1637479A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200410082256.8
申请日：2004-12-03
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/133 , G02F1/136 , H01L29/786
CPC classification number: G02F1/1337 , G02F1/133371 , G02F2001/133761 , G02F2001/133776
Abstract: 提供一种液晶显示器，其包括：基板；形成在基板上的场产生电极；和形成在基板上并具有小于大约45度的倾斜角的倾斜构件。
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公开(公告)号：CN1432872A
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：CN02150451.2
申请日：2002-11-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/012 , G03F7/038 , G03F7/16 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0226 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种具有良好灵敏度和余层特性的光致抗蚀剂组合物和用该组合物形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约5％重量至约30％重量的聚合树脂、约2％重量至约10％重量的光敏化合物、约0.1％至约10％重量的灵敏度提高剂、约0.1％重量至约10％重量的灵敏度抑制剂和约60％重量至约90％重量的有机溶剂。在基板上涂覆光致抗蚀剂组合物，然后干燥涂覆的光致抗蚀剂组合物，形成光致抗蚀剂层。然后，通过使用具有预定形状的掩模使所述光致抗蚀剂层曝光。接下来，通过使曝光的光致抗蚀剂层显影而形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案具有均匀的涂层厚度和临界尺寸。
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公开(公告)号：CN1432871A
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：CN02145838.3
申请日：2002-10-15
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/008 , G03F7/012 , G03F7/00 , G02F1/1333
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种包括热致酸生成剂的光致抗蚀剂组合物和用其形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约100重量份的碱溶性丙烯酰基共聚物，约5－100重量份的1，2－醌二叠氮化合物，约2－35重量份的含氮交联剂，约0.1－10重量份的加热能产生酸的热致酸生成剂。在基底上涂覆光致抗蚀剂组合物并干燥，形成光致抗蚀剂层。通过使用具有预定形状的掩模使光致抗蚀剂层曝光。通过使用含水碱性溶液使曝光的光致抗蚀剂层显影，形成光致抗蚀剂图案。加热这样得到的光致抗蚀剂图案，使其固化，不会产生热回流。
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公开(公告)号：CN1873534B
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200610083540.6
申请日：2006-06-05
Applicant: 三星电子株式会社 , 东进半导体化学株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/004 , H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 一种用于有机层图样的光敏树脂组合物，包括：约100重量份的基于丙烯酰基的共聚物，以及约5重量份至约100重量份的1，2-醌重氮化合物。基于丙烯酰基的共聚物可通过使下列物质共聚来制备：以基于丙烯酰基的共聚物总重量为基准，重量百分比约5％至约60％的基于羧酸异冰片酯的化合物，重量百分比约10％至约30％的带有环氧基团的不饱和化合物，重量百分比约20％至约40％的基于烯烃的不饱和化合物，以及重量百分比约10％至约40％的选自不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、及其混合物的其中之一。还提供了利用该光敏树脂组合物制造TFT基板和共电极基板的方法。有利地，有机层图样具有山形结构，该山形结构具有改善的局部平整度而没有凹入和凸起结构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100549770C
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：CN200410082256.8
申请日：2004-12-03
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/133 , G02F1/136 , H01L29/786
CPC classification number: G02F1/1337 , G02F1/133371 , G02F2001/133761 , G02F2001/133776
Abstract: 提供一种液晶显示器，其包括：基板；形成在基板上的场产生电极；和形成在基板上并具有小于大约45度的倾斜角的倾斜构件。
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公开(公告)号：CN101058618A
公开(公告)日：2007-10-24
申请号：CN200710105359.5
申请日：2007-02-05
IPC: C08F212/08 , C08F220/10 , C08F4/04 , G02F1/13 , G09F9/30 , C08F232/08
CPC classification number: C08F220/06 , C08F212/08 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F220/40 , G02F1/136227 , H01L27/3244 , Y10T428/31855
Abstract: 本发明公开了一种用于有机绝缘层的树脂组合物，其制造方法，和包含用该树脂组合物形成的绝缘层的显示板。该用于有机绝缘层的树脂组合物通过聚合约5～35wt％的不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的混合物；约5～40wt％的苯乙烯类化合物；约5～40wt％的环氧化合物；约0.1～10wt％的异冰片基化合物和约20～40wt％的双环戊二烯化合物而得到，基于不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、苯乙烯类化合物、环氧化合物、异冰片基化合物和双环戊二烯化合物的总重量。
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公开(公告)号：CN1306336C
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：CN02145838.3
申请日：2002-10-15
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种包括热致酸生成剂的光致抗蚀剂组合物和用其形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括100重量份的碱溶性丙烯酰基共聚物，5-100重量份的1，2-醌二叠氮化合物，2-35重量份的含氮交联剂，0.1-10重量份的加热能产生酸的热致酸生成剂。在基底上涂覆光致抗蚀剂组合物并干燥，形成光致抗蚀剂层。通过使用具有预定形状的掩模使光致抗蚀剂层曝光。通过使用含水碱性溶液使曝光的光致抗蚀剂层显影，形成光致抗蚀剂图案。加热这样得到的光致抗蚀剂图案，使其固化，不会产生热回流。
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公开(公告)号：CN1296772C
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN02150451.2
申请日：2002-11-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/012 , G03F7/038 , G03F7/16 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0226 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种具有良好灵敏度和余层特性的光致抗蚀剂组合物和用该组合物形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约5%重量至约30%重量的聚合树脂、约2%重量至约10%重量的光敏化合物、约0.1%至约10%重量的灵敏度提高剂、约0.1%重量至约10%重量的灵敏度抑制剂和约60%重量至约90%重量的有机溶剂。在基板上涂覆光致抗蚀剂组合物，然后干燥涂覆的光致抗蚀剂组合物，形成光致抗蚀剂层。然后，通过使用具有预定形状的掩模使所述光致抗蚀剂层曝光。接下来，通过使曝光的光致抗蚀剂层显影而形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案具有均匀的涂层厚度和临界尺寸。
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公开(公告)号：CN1873534A
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN200610083540.6
申请日：2006-06-05
Applicant: 三星电子株式会社 , 东进半导体化学株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/004 , H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 一种用于有机层图样的光敏树脂组合物，包括：约100重量份的基于丙烯酰基的共聚物，以及约5重量份至约100重量份的1，2－醌重氮化合物。基于丙烯酰基的共聚物可通过使下列物质共聚来制备：以基于丙烯酰基的共聚物总重量为基准，重量百分比约5％至约60％的基于羧酸异冰片酯的化合物，重量百分比约10％至约30％的带有环氧基团的不饱和化合物，重量百分比约20％至约40％的基于烯烃的不饱和化合物，以及重量百分比约10％至约40％的选自不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、及其混合物的其中之一。还提供了利用该光敏树脂组合物制造TFT基板和共电极基板的方法。有利地，有机层图样具有山形结构，该山形结构具有改善的局部平整度而没有凹入和凸起结构。
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