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公开(公告)号：CN1306336C
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：CN02145838.3
申请日：2002-10-15
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种包括热致酸生成剂的光致抗蚀剂组合物和用其形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括100重量份的碱溶性丙烯酰基共聚物，5-100重量份的1，2-醌二叠氮化合物，2-35重量份的含氮交联剂，0.1-10重量份的加热能产生酸的热致酸生成剂。在基底上涂覆光致抗蚀剂组合物并干燥，形成光致抗蚀剂层。通过使用具有预定形状的掩模使光致抗蚀剂层曝光。通过使用含水碱性溶液使曝光的光致抗蚀剂层显影，形成光致抗蚀剂图案。加热这样得到的光致抗蚀剂图案，使其固化，不会产生热回流。
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公开(公告)号：CN1296772C
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN02150451.2
申请日：2002-11-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/012 , G03F7/038 , G03F7/16 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0226 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种具有良好灵敏度和余层特性的光致抗蚀剂组合物和用该组合物形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约5%重量至约30%重量的聚合树脂、约2%重量至约10%重量的光敏化合物、约0.1%至约10%重量的灵敏度提高剂、约0.1%重量至约10%重量的灵敏度抑制剂和约60%重量至约90%重量的有机溶剂。在基板上涂覆光致抗蚀剂组合物，然后干燥涂覆的光致抗蚀剂组合物，形成光致抗蚀剂层。然后，通过使用具有预定形状的掩模使所述光致抗蚀剂层曝光。接下来，通过使曝光的光致抗蚀剂层显影而形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案具有均匀的涂层厚度和临界尺寸。
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公开(公告)号：CN1214279C
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN99127834.8
申请日：1999-12-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1337 , C08J11/04 , C09K19/38
CPC classification number: G02F1/133711
Abstract: 本发明涉及液晶排列材料的再生方法，其中与LCD液晶加工中原始液晶排列材料等效的再生液晶排列层可通过收集排列材料的废溶液而再生，该废溶液是在使用液晶排列材料的LCD制造过程中大量产生的。通过将排列材料的废溶液放入一种有机溶剂或超纯水中而固化聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺，液晶排列材料组分聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺不溶于该有机溶剂或超纯水中，从有机溶剂或者超纯水分离聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺，并将所分离的固体聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺溶解在一种溶剂中而做到这一点。用此方法再生液晶排列层材料能大大有助于降低生产成本。
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公开(公告)号：CN1606714A
公开(公告)日：2005-04-13
申请号：CN02825525.9
申请日：2002-02-20
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/0226
Abstract: 本发明涉及具有用于LCD生产方法的耐高温性的光致抗蚀剂组合物，且更具体地说，本发明涉及具有耐高温性的能够减少工艺的策略(一种方式)、工艺简化和节约费用的光致抗蚀剂组合物。本发明的组合物通过使跳过5步工艺成为可能而有利于这一特性，诸如形成金属薄膜的Cr金属沉积和整个金属表面的光/蚀刻/PR剥离/蚀刻步骤；通过用本发明的组合物取代常用的金属薄膜，使得TFT－LCD生产过程中的N+离子掺入可以因其耐高温性而进行。
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公开(公告)号：CN1413317A
公开(公告)日：2003-04-23
申请号：CN00817711.2
申请日：2000-12-08
Applicant: 三星电子株式会社 , 克拉里安特国际有限公司
IPC: G03F7/42 , H01L21/027 , C11D7/50
CPC classification number: G03F7/168 , G03F7/38 , G03F7/42 , G03F7/422 , H01L21/02052 , H01L21/0274 , H01L21/31133
Abstract: 本发明提供一种用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂，其包括50到80重量％的醋酸正丁酯，丙二醇烷基醚，和丙二醇烷基醚醋酸酯。该稀释剂既对人类无毒害，也不对生态带来不利影响，而且没有不适的气味。其废液和与之相关的废水容易处理，由此使得这种稀释剂对环境友好。本发明的光致抗蚀剂稀释剂具有优异的冲洗能力。
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公开(公告)号：CN100590499C
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：CN200480033271.1
申请日：2004-09-16
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/136
Abstract: 本发明涉及一种薄膜晶体管阵列面板、液晶显示器及其制造方法。用于LCD的薄膜晶体管阵列面板用于以独立方式驱动各个像素的电路板。本发明提供了像素电极和把栅极线和数据线的扩展部分连接到外部电路的接触辅助，它们具有包括IZO层和ITO层的双层结构。ITO层设置在IZO层上。在本发明中，像素电极形成为具有IZO层和ITO层的双层以避免在总体测试过程中布线被ITO蚀刻剂破坏并防止探针上的异物堆积。在本发明中，可以仅接触辅助形成为具有IZO层和ITO层的双层，以防止在总体测试过程中探针上的异物堆积。由于减小了ITO的消耗，降低了制造成本。
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公开(公告)号：CN1310077C
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN02144418.8
申请日：2002-09-27
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/13357 , H01J61/30
CPC classification number: H01J61/305
Abstract: 本发明公开了一种平板型灯及具有该平板型灯的液晶显示装置。平板型荧光灯具有分成多个放电区的放电空间。平板型荧光灯包括：第一基底；与第一基底隔开预定距离以形成含有放电材料的放电空间的第二基底，第一和第二电极用于将电压施加到放电空间并设置在第二基底上；以及密封件，用于密封第一和第二基底的侧部，将放电空间与其周边空间隔离。具有细小形状的多个阻挡肋设置在放电空间中并垂直于第一和第二电极，以将放电空间分成多个放电区。因而，由放电材料转变来的等离子体在整个放电空间中都具有均匀密度，由此增加了要提供到显示面板上的光的亮度和均匀度。
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公开(公告)号：CN1288501C
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN02825525.9
申请日：2002-02-20
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/0226
Abstract: 本发明涉及具有用于LCD生产方法的耐高温性的光致抗蚀剂组合物，且更具体地说，本发明涉及具有耐高温性的能够减少工艺的策略(一种方式)、工艺简化和节约费用的光致抗蚀剂组合物。本发明的组合物通过使跳过5步工艺成为可能而有利于这一特性，诸如形成金属薄膜的Cr金属沉积和整个金属表面的光/蚀刻/PR剥离/蚀刻步骤；通过用本发明的组合物取代常用的金属薄膜，使得TFT-LCD生产过程中的N+离子掺入可以因其耐高温性而进行。
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公开(公告)号：CN1269180C
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN02105219.0
申请日：2002-02-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01J61/00 , H01J65/00 , H01J5/54 , G02F1/1335 , G09F9/35
CPC classification number: G02B6/0071 , H05B41/2806 , Y02B20/22
Abstract: 本发明提出一种灯、一种灯组件、使用该灯组件的发射光装置、一种使用该灯组件的液晶显示装置、一种制造该液晶显示装置的方法和该液晶显示装置的一种照明方法。在制造了根据电子的快速运动产生光的灯管，和具有可以容纳该灯管的适当形状的电极以后；将该灯管和该电极彼此组合起来；通过将电能加在该电极上，就可产生光。当采用多个灯来显示图像时，可以补偿灯之间的亮度差别，并且耗电大大减少。另外，该灯的制造时间可以缩短，而灯的效率提高。
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公开(公告)号：CN1432872A
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：CN02150451.2
申请日：2002-11-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/012 , G03F7/038 , G03F7/16 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0226 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种具有良好灵敏度和余层特性的光致抗蚀剂组合物和用该组合物形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约5％重量至约30％重量的聚合树脂、约2％重量至约10％重量的光敏化合物、约0.1％至约10％重量的灵敏度提高剂、约0.1％重量至约10％重量的灵敏度抑制剂和约60％重量至约90％重量的有机溶剂。在基板上涂覆光致抗蚀剂组合物，然后干燥涂覆的光致抗蚀剂组合物，形成光致抗蚀剂层。然后，通过使用具有预定形状的掩模使所述光致抗蚀剂层曝光。接下来，通过使曝光的光致抗蚀剂层显影而形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案具有均匀的涂层厚度和临界尺寸。
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